必須 応募条件
- ⼒】 TOEIC600点以上もしくは同等程度の
- 力 日本語 JLPT：N3取得済み、もしくは同等程度の
公式求人詳細
（技術開発統括部）Lithoエキスパート
ラピダスの公式求人。勤務地は東京都 / 北海道、採用区分は中途、職種カテゴリはプロセス / デバイスです。
- 分類・ページ生成
- 2026/07/27
- 求人DB生成
- 2026/07/25
応募判断に必要な情報を先に確認
必須・歓迎・働き方
歓迎 あると活かせる経験
歓迎条件の明記なし。
働き方 勤務条件
- 勤務地
- 東京都 / 北海道
- リモート
- 記載なし
- 勤務帯
- 記載なし
- 出張
- 記載なし
- オンコール
- 記載なし
- 転居
- 記載なし
- 想定役割
- 記載なし
- 転勤
- 記載なし
求人市場で見るこのポジション
企業・同職種・必須スキルの比較
企業 × 関連工程
同社の公開求人全体
純増減 +55件当DBの直近90日観測で、ラピダスは新規 60件・終了 5件。現在公開 55件です。
同職種の掲載給与
設計エンジニア
中央値 1,000万円掲載年収レンジの中点を比較。給与確認済み 160件／同職種 665件です。
類似求人の必須スキル
設計エンジニア
- 業務英語 135件 20%
- 回路設計 83件 12%
- CAD 49件 7%
- 機械設計 40件 6%
- MATLAB 33件 5%
新規・終了は当DBでの観測差分であり、市場成長や採用需要の増減を単独では示しません。 直近30日は収集対象拡張の影響を含みます。
企業公式情報から整理
募集要項
企業の公式採用ページまたは公式に委任された採用システムの公開情報を、項目別に整理しています。 確認できない条件は推測せず、公式募集要項への案内を表示します。
8/8 公式情報で確認できた項目
仕事内容
公式情報あり2nm世代、及びBeyond 2nmの先端ロジック開発における主にリソグラフィの業務を担っていただきます。
対象となる方
公式情報あり【専⾨性】 リソグラフィ工程の経験、露光装置技術、マスク技術、レジスト材料・プロセス技術、検査・計測 (メトロロジ)、OPC （近接効果補正）、光学設計、プログラミングスキルのいずれかの経験がある方 大卒以上の実務・研究等の経験者（3年以上）または大学院（博士課程）修了以上
※修了見込含む 【語学⼒】 TOEIC600点以上もしくは同等程度の語学力 日本語 JLPT：N3取得済み、もしくは同等程度の語学力
勤務地
公式情報あり東京都千代田区 (麹町ダイヤモンドビル) / 北海道千歳市
勤務時間
公式情報ありフレックスタイム制（フルフレックス）
※1日の標準労働時間 7時間30分
※標準労働時間帯 9:00～17:30（休憩60分）
雇用形態
公式情報あり正社員
給与
公式情報ありスキル・ご経験によって応相談
待遇・福利厚生
公式情報あり・通勤手当
・残業手当 / OJTでの研修教育を想定 /
・健康保険
・厚生年金
・雇用保険
・労災保険
休日・休暇
公式情報あり・完全週休2日制（土・日）、国民の祝日
・年次有給休暇（20日 入社初年度は入社した月に応じる日数の年次有給休暇を付与する）
・創立記念日（8/10）
・年末年始休暇
・慶弔休暇
・産前・産後休暇
・育児休暇
・介護休暇
※年間休日 128日
会社概要
企業DBと接続- 会社名
- ラピダス
- 当サイト分類
- ファウンドリー
求人情報
5軸分類
- 企業カテゴリ
- ファウンドリー
- 職種ファミリー
- プロセス / デバイス
- 具体職種
- 設計エンジニア
- 対象製品
- 対象製品未特定
- 関連工程・技術
- 工程未分類
- 半導体直接関連度
- C：半導体企業の一般職
- 関連職種
- プロセス / デバイス / 設計エンジニア
- 関連工程
- 工程未分類
- 関連技術
- 未分類
- 勤務地エリア
- 関東 / 北海道
一部分類項目は未確認です。公式募集要項と確認根拠を併せて確認してください。
半導体直接関連度の判定根拠
C：半導体企業の一般職 — 半導体関連企業の求人だが、仕事内容に半導体固有の接点が確認できない仕事
判定の確度：C（求人業務に半導体固有の接点なし）
2nm世代、及びBeyond 2nmの先端ロジック開発における主にリソグラフィの業務を担っていただきます。。【専門性】 リソグラフィ工程の経験、露光装置技術、マスク技術、レジスト材料・プロセス技術、検査・計測 (メトロロジ)、OPC (近接効果補正)、光学設計、プログラミングスキルのいずれかの経験がある方 大卒以上の実務・研究等の経験者(3年以上)または大学院(博士課程)修了以上。【専門性】 リソグラフィ工程の経験、露光装置技術、マスク