半導体製造ラボ

公式求人詳細

化合物半導体ウエハプロセスのエピタキシャル成長技術開発【高周波光デバイス製作所】

三菱電機の公式求人。勤務地は兵庫県、採用区分は中途、職種カテゴリはプロセス / デバイスです。

分類・ページ生成
2026/07/27
求人DB生成
2026/07/25

応募判断に必要な情報を先に確認

必須・歓迎・働き方

公式求人票の明記内容のみ

必須 応募条件

  • 工学系修士以上または同等の専門知識
  • スキルを有する方
  • 化合物半導体(InP, GaAs, GaNなど)の結晶成長
  • 評価経験に関する実務または研究(3年以上)
  • MOCVD、MBEなどの結晶成長装置の操作
  • プロセス設計経験
  • 物性物理、量子力学、電磁気学に関する基礎知識

歓迎 あると活かせる経験

  • 光通信デバイス、高周波デバイスなどの開発経験
  • エッチング
  • 評価など周辺プロセスの知識
  • 英語スキル(論文調査、海外メーカーとの技術ディスカッションなど)
  • Python等を用いたデータ解析やプロセス制御スクリプト経験

働き方 勤務条件

勤務地
兵庫県
リモート
在宅・出社併用
勤務帯
交替勤務・夜勤あり
出張
記載なし
オンコール
記載なし
転居
記載なし
想定役割
記載なし
転勤
記載なし

公式募集要項で最新条件を確認

求人市場で見るこのポジション

企業・同職種・必須スキルの比較

求人市場分析を見る

企業 × 関連工程

エピタキシャル成長

純増減 +1件

当DBの直近90日観測で、三菱電機は新規 1件・終了 0件。現在公開 1件です。

同職種の掲載給与

プロセスエンジニア

中央値 1,200万円

掲載年収レンジの中点を比較。給与確認済み 28件/同職種 122件です。

類似求人の必須スキル

プロセスエンジニア

  • プロセス開発 26件 21%
  • 業務英語 23件 19%
  • プラズマ技術 12件 10%
  • 真空技術 3件 2%
  • Python 2件 2%

新規・終了は当DBでの観測差分であり、市場成長や採用需要の増減を単独では示しません。 直近30日は収集対象拡張の影響を含みます。

企業公式情報から整理

募集要項

企業の公式採用ページまたは公式に委任された採用システムの公開情報を、項目別に整理しています。 確認できない条件は推測せず、公式募集要項への案内を表示します。

7/8 公式情報で確認できた項目

仕事内容

公式情報あり

職務内容

●採用背景 1960年代より積み重ねてきた研究開発の歴史を継承し、今もなお進化を続ける当社の化合物半導体技術。その技術から生み出される高周波・光デバイスは、AIの普及で大量の情報を処理するデータセンター、5Gなどの通信インフラ、センシング等に使用されており、性能面で他社の追随を許さず、国内外でトップクラスのシェアを誇ります。近年、通信トラフィックは急速に増大しており、お客様からの期待に応えるため、この度生産能力を大きく引き上げる「増産」へと踏み出すことになりました。

これら最先端デバイスの性能を支える要となるのが、エピタキシャル成長技術です。

新規デバイス構造の開発や量産プロセスの高度化に対応するため、エピタキシャル成長分野の実務経験を持つエンジニアを新たに募集します。

●職務内容 光通信用途を始めとしたデバイス開発を支える化合物半導体エピタキシャル成長技術開発を担当していただきます。

結晶品質および量産安定性の最適化を目指し、設計・実験・解析・量産導入までを一貫して行います。

【変更の範囲】 会社の定める業務(

※) (

※)業務の都合によっては会社外の職務に従事するため出向又は転属を命じることがあります ≪具体的には≫

■業務内容例

●InP/GaAs/GaN 系のIII-V 族化合物半導体のエピタキシャル成長

・MOCVD装置を用いたInP/GaAs/GaN 系のエピタキシャル成長

・エピ成長条件(温度、圧力、V/III 比、キャリアガス流量)の設定・調整

・デバイス仕様に応じたエピ構造の実現(量子井戸層、ヘテロ障壁層、ドーピング制御 など)

●薄膜の評価および解析

・エピ成長後の膜厚・組成の評価(XRD、SIMS、PL、TEM、SEM など)

・欠陥密度、表面粗さ、歪み量など、品質に直結するパラメータの定量化

・光学特性(PLピーク、吸収端)、電気特性(キャリア濃度、移動度)の解析

●エピ成長条件の最適化と再現性向上

・結晶品質のばらつき要因の特定(ガス分布、ヒータプロファイル、基板回転、温度均一性など)

・エピ成長装置の経時変化を考慮した安定化手法の検討

・量産ラインでの再現性確保に向けた条件最適化

・エピ成長装置のメンテナンス・安定動作管理

●新規材料/構造のプロセス開発

・高速・低消費電力デバイス向けの多重量子井戸(MQW)構造の開発

・新デバイス用途への新規材料展開 将来的には、エピタキシャル成長技術のリーダー/マネージャーとしてグループの牽引。

●組織のミッション

・本部・事業部(高周波光デバイス製作所) 国内・海外顧客並びに社内部門に対する高周波デバイス製品・光デバイス製品の販売・開発

・ウエハ製造部 高周波デバイス・光デバイスの半導体ウエハ製造、エピ/プロセスの生産技術、要素技術開発

・エピ技術課 高周波デバイス・光デバイスのエピ構造開発、エピ量産技術

●業務の魅力 原子オーダーで薄膜を制御するエピタキシャル成長技術は世界トップクラスのシェアを持つ光通信デバイスの性能を支える中核技術であり、「光」を生み出す最上流工程を担う事ができます。

成長条件の最適化から量産化まで、自ら設計したプロセスが製品性能に直結し、理論(量子力学・固体物理)を実装に落とし込む高度なエンジニアリングを実践することができます。

●事業/製品の強み 当所の製品デバイスは、データセンター向け光デバイスで世界トップシェアを誇る実績を持つほか、5G/6G・衛星通信などにも製品を展開しています。

●職場環境 残業時間 :月平均20時間/繁忙期35時間 出張:有 (年数回) 転勤可能性:有(所内移動メイン、所外は稀。) リモートワーク:有(週3日程度利用可能) 中途社員の割合:約10%

●想定されるキャリアパス エピ成長の技術開発と量産管理のとりまとめ業務を経て、成果と能力次第で管理職に登用。

エピ成長技術をベースに、プロセス要素技術や製品設計に携わるキャリアプランも可能。

■製品情報(高周波デバイス、光デバイス)

■高周波光デバイス製作所 Xアカウント

●採用関連のお問い合わせについて ==================== 三菱電機株式会社 応募事務局 [email protected] ====================

※お電話でのお問い合わせは承っておりません。

対象となる方

公式情報あり

登録資格

●必須

・工学系修士以上または同等の専門知識・スキルを有する方

・化合物半導体(InP, GaAs, GaNなど)の結晶成長・評価経験に関する実務または研究(3年以上)

・MOCVD、MBEなどの結晶成長装置の操作・プロセス設計経験

・物性物理、量子力学、電磁気学に関する基礎知識

●歓迎要件

・光通信デバイス、高周波デバイスなどの開発経験

・成膜・エッチング・評価など周辺プロセスの知識

・英語スキル(論文調査、海外メーカーとの技術ディスカッションなど)

・Python等を用いたデータ解析やプロセス制御スクリプト経験

●求める人物像

・結晶成長という“モノづくりの源”に情熱を持ち、原子レベルでの品質改善に挑戦できる人。

・現場・技術・人をつなぐリーダーシップを発揮し、チームの成果に責任を持てる人。

・新しい技術領域に自ら踏み込み、論理的に課題を解決できる人。

・一緒に働く人だけでなく、関わる全ての人への心遣いや配慮ができる人。

勤務時間

公式情報あり

就業時間

■就業時間:8:30~17:00

■所定労働時間:7時間45分(休憩45分)

■フレックスタイム制:有

■コアタイム:なし

給与

公式ページで確認

当サイトが取得した公式公開情報では確認できません。応募前に最新の公式募集要項をご確認ください。

待遇・福利厚生

公式情報あり

待遇 【勤務条件】

■雇用形態:正社員

■試用期間:3ヶ月(試用期間中の労働条件変更無)

■賃金形態:月給制

■月給:28万円~57万円

■想定年収:500万円 ~ 1,100万円(経験・役割等による)

■残業手当:有(残業時間に応じて支給。深夜勤務、休日手当は別途支給有。)

■賃金改定:年1回(6月)

■賞与:年2回(6月・12月)

■退職金:有

■社会保険:雇用保険、労災保険、健康保険、厚生年金保険

■各種手当:通勤手当(会社規定に基づき支給)、扶養手当など

休日・休暇

公式情報あり

休日

■年間休日:125日(2025年度)

※内訳:土曜/日曜/祝日、GW、夏季、年末年始など(会社カレンダーに準じる)

■年次有給休暇:20日~25日

※入社時より付与。付与日数は入社日により変動(4~20日)。

■その他:チャージ休暇2~4日(30歳、40歳、50歳到達年) 【その他】

■福利厚生:寮、社宅、家賃補助制度、財形貯蓄、住宅融資、社員持株会、 社員互助会、保養所、契約リゾート施設、スポーツ施設など

求人情報

求人名
化合物半導体ウエハプロセスのエピタキシャル成長技術開発【高周波光デバイス製作所】
会社名
三菱電機
半導体直接関連度
A:半導体直接職
職種カテゴリ
プロセス / デバイス
工程カテゴリ
エピタキシャル成長
勤務地
兵庫県
都道府県
兵庫県
市区町村
伊丹市
地域区分
関西
公式記載の勤務地
兵庫県伊丹市
勤務地確認
通常
採用区分
中途
雇用形態
正社員
給与
公式募集要項で確認
求人取得日
2026/07/21
最終監査日
2026/07/21
掲載状態
募集中
公式募集要項
掲載元を開く

5軸分類

企業カテゴリ
IDM
職種ファミリー
プロセス / デバイス
具体職種
プロセスエンジニア
対象製品
対象製品未特定
関連工程・技術
エピタキシャル成長
半導体直接関連度
A:半導体直接職
関連職種
プロセス / デバイス / プロセスエンジニア
関連工程
エピタキシャル成長
関連技術
光通信 / RF・高周波
勤務地エリア
関西

半導体直接関連度の判定根拠

A:半導体直接職 — 半導体のデバイス・設計・工程・製造・装置・材料・検査・実装を直接担う仕事

判定の確度:A-high(対象・技術行為・成果物が求人票内で直接一致)

●採用背景 1960年代より積み重ねてきた研究開発の歴史を継承し、今もなお進化を続ける当社の化合物半導体技術。その技術から生み出される高周波・光デバイスは、AIの普及で大量の情報を処理するデータセンター、5Gなどの通信インフラ、センシング等に使用されており、性能面で他社の追随を許さず、国内外でトップクラスのシェアを誇ります。近年、通信トラフィックは急速に増大しており、お客様からの期待に応えるため、この度生産能力を大きく引き上げる「増産…

類似求人