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公式求人詳細

Photolithography 設備エンジニア (DUV Scanner)

マイクロン・テクノロジーの公式求人。勤務地は広島県、採用区分は中途、職種カテゴリはプロセス / デバイスです。

分類・ページ生成
2026/07/27
求人DB生成
2026/07/25

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必須・歓迎・働き方

公式求人票の明記内容のみ

必須 応募条件

  • * 理工系学士号、または同等の実務経験 * 装置トラブルに対し、構造
  • 原理に基づいて原因を考え抜ける問題解決力 * 日本語での業務コミュニケーション能力(読み書き
  • 会話) ##

歓迎 あると活かせる経験

  • * Lithography / Photo / DUV Scanner 装置の実務経験 * 半導体製造装置エンジニアとしての実務経験 * 量産Fabにおける装置立ち上げ、安定化、異常解析の経験 * 装置メーカー(例:ASML 等)との技術折衝
  • 共同トラブル対応経験 * FMEA、SPC、8D 等を用いた体系的な改善活動の実践経験 * 英語での業務コミュニケーション能力(読み書き
  • 会話) Job Profile(s): FAB Engineer 2 - FAB Engineer 4 Relocation level: (TBD) Before Getting Started Please review Micron’s Internal Job Application Policy on your regional PeopleNow Career O…

働き方 勤務条件

勤務地
広島県
リモート
記載なし
勤務帯
記載なし
出張
記載なし
オンコール
記載なし
転居
記載なし
想定役割
記載なし
転勤
記載なし

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企業 × 関連工程

露光(EUV・DUV・NIL)

純増減 +2件

当DBの直近90日観測で、マイクロン・テクノロジーは新規 2件・終了 0件。現在公開 4件です。

同職種の掲載給与

プロセスエンジニア

中央値 1,200万円

掲載年収レンジの中点を比較。給与確認済み 28件/同職種 122件です。

類似求人の必須スキル

プロセスエンジニア

  • プロセス開発 26件 21%
  • 業務英語 23件 19%
  • プラズマ技術 12件 10%
  • 真空技術 3件 2%
  • Python 2件 2%

新規・終了は当DBでの観測差分であり、市場成長や採用需要の増減を単独では示しません。 直近30日は収集対象拡張の影響を含みます。

企業公式情報から整理

募集要項

企業の公式採用ページまたは公式に委任された採用システムの公開情報を、項目別に整理しています。 確認できない条件は推測せず、公式募集要項への案内を表示します。

4/8 公式情報で確認できた項目

仕事内容

公式情報あり

職務内容

サマリ Micron Technology, Inc. 広島Fabにおいて、Photo(DUV Scanner)エリアの装置エンジニアとして、量産ラインにおける露光装置の安定稼働、性能向上、歩留まり改善をリードしていただきます。

本ポジションでは、露光装置の構造・動作原理を深く理解した上で、装置起因の異常解析、再発防止、プロセス安定化を主体的に推進します。プロセスエンジニア、FAC、品質、ベンダー(装置メーカー)と密に連携し、量産環境における品質・生産性・コスト・リスクの最適化を担います。

##

職務内容

### 装置・量産安定化 * DUV Scanner装置の構造・制御・光学系を理解した上での量産装置管理 * 装置稼働率(Availability / Productivity)向上に向けた改善活動の立案・実行 * ベースライン維持、ドリフト管理、再現性確保に関する技術的リード ### トラブルシューティング・異常解析 * 装置起因の異常に対する迅速な切り分け・原因特定・恒久対策 * 故障解析、FMEA、8D 等の手法を用いた再発防止活動 * 複合要因(装置・プロセス・材料・運用)を考慮した問題解決 ### 装置・プロセス改善 * アライメント、フォーカス、露光量、オーバーレイ等の露光関連パラメータ最適化 * プロセス能力(Cp/Cpk)向上および製造コスト削減に向けた改善推進 * 装置・ソフトウェアアップグレードの計画、導入、量産リリース対応 ### 立ち上げ・評価 * 新規装置・改造装置の立ち上げ、量産認定(Baseline / Release)対応 * 新材料・新プロセス導入時の装置観点での評価・リスク整理 * ベンダーとの技術ディスカッション、仕様レビュー、課題解決推進 ### クロスファンクショナル連携 * プロセス、品質、FAC、EHS、サプライヤーと連携した改善活動 * 品質・コスト・リスク管理目標達成に向けた監査・是正対応 ##

対象となる方

公式情報あり

応募資格 * 理工系学士号、または同等の実務経験 * 装置トラブルに対し、構造・原理に基づいて原因を考え抜ける問題解決力 * 日本語での業務コミュニケーション能力(読み書き・会話) ## 歓迎要件 * Lithography / Photo / DUV Scanner 装置の実務経験 * 半導体製造装置エンジニアとしての実務経験 * 量産Fabにおける装置立ち上げ、安定化、異常解析の経験 * 装置メーカー(例:ASML 等)との技術折衝・共同トラブル対応経験 * FMEA、SPC、8D 等を用いた体系的な改善活動の実践経験 * 英語での業務コミュニケーション能力(読み書き・会話) Job Profile(s): FAB Engineer 2 - FAB Engineer 4 Relocation level: (TBD) Before Getting Started Please review Micron’s Internal Job Application Policy on your regional PeopleNow Career Opportunities page before searching and applying for jobs. Note in particular that: * Hiring managers may view your performance appraisals, original resume, transcripts or other performance-related documentation in your personal file. This information will be held in confidence. * If you are selected to interview for a position, you must notify your direct supervisor before participating in the interview process. ​​​​…

勤務時間

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給与

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待遇・福利厚生

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休日・休暇

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求人情報

求人名
Photolithography 設備エンジニア (DUV Scanner)
会社名
マイクロン・テクノロジー
半導体直接関連度
A:半導体直接職
職種カテゴリ
プロセス / デバイス
工程カテゴリ
露光(EUV・DUV・NIL)
勤務地
広島県
都道府県
広島県
市区町村
広島市
地域区分
中国・四国
公式記載の勤務地
広島県広島市
勤務地確認
通常
採用区分
中途
雇用形態
正社員
給与
公式募集要項で確認
求人取得日
2026/04/27
最終監査日
2026/07/17
掲載状態
募集中
公式募集要項
掲載元を開く

5軸分類

企業カテゴリ
メモリ
職種ファミリー
プロセス / デバイス
具体職種
プロセスエンジニア
対象製品
露光・塗布現像装置
関連工程・技術
露光(EUV・DUV・NIL)
半導体直接関連度
A:半導体直接職
関連職種
プロセス / デバイス / プロセスエンジニア
関連工程
露光(EUV・DUV・NIL)
関連技術
未分類
勤務地エリア
中国・四国

一部分類項目は未確認です。公式募集要項と確認根拠を併せて確認してください。

半導体直接関連度の判定根拠

A:半導体直接職 — 半導体のデバイス・設計・工程・製造・装置・材料・検査・実装を直接担う仕事

判定の確度:A-high(対象・技術行為・成果物が求人票内で直接一致)

サマリ Micron Technology, Inc. 広島Fabにおいて、Photo(DUV Scanner)エリアの装置エンジニアとして、量産ラインにおける露光装置の安定稼働、性能向上、歩留まり改善をリードしていただきます。

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