企業研究 エッチング / 薄膜形成 / MOCVD 半導体前工程・泛半導体装置メーカー
AMEC
企業研究 — エッチングを収益の軸に、薄膜とMOCVDへ広げる会社
FY2025の連結売上高は123.85億元。
エッチング装置売上は98.32億元で、研究開発投入は37.44億元です。
求人DBの会社ID対象外。応募入口は公式採用です。 雇用法人・勤務地国・就労言語・ビザ条件は公式募集要項の比較項目です。
AMECの公式製品・会社案内と、688012が提出したFY2025年次報告書を同じ表で比べます。 エッチング、LPCVD、MOCVDなどの製品段階と、連結の売上・研究開発・拠点投資を分けて照会します。
Verified 詳細企業研究 / 出典・主張リンク確認済み ページ確認日 2026-08-10
60秒で判断
候補に残す3つの基準
プラズマ、材料、微細加工、表面分析を学んだ人。
公式 3件 / IR 4件 / 採用 2件。出典参照日 2026-08-10 / ページ確認日 2026-08-10
- 中国大陸 120.58億元
- 台湾地区 2.15億元
- その他の国・地域 1.11億元
01 立ち位置
何の会社として比べるか
AMECはエッチング装置を最大の収益軸とし、LPCVD・ALD・MOCVD・EPIへ工程範囲を広げています。 売上化済み、反復受注、顧客検証、開発中を区別します。
売上・利益・研究開発を同じ年度で測る
棒は売上高を100とした相対長さです。
エッチングが大きく、LPCVDが伸びる
年次報告書が個別に示した2区分です。 残額の推計配分は対象外です。
プラズマエッチング
Primo系のCCP・ICPプラットフォームを、ロジック、DRAM、3D NAND、TSV、MEMSの加工へ投入します。
- Primo D-RIE
- Primo AD-RIE
- Primo Twin-Star
- Primo TSV
薄膜形成
LPCVDとALDを市場へ投入し、先端メモリ・ロジック向けの金属・誘電膜形成へ製品範囲を広げています。
- LPCVD
- ALD
- PVD/CVD/ALD統合系
- EPI
MOCVD
Prismo系MOCVDをLED・ディスプレイ・パワーデバイス向けへ展開します。
- Prismo D-Blue
- Prismo A7
- Prismo HiT3
- Prismo UniMax
02 収益
どこで、どれくらい儲けているか
売上、親会社株主帰属純利益、営業キャッシュフローはいずれも増加しました。 研究開発投入も52.65%増えており、利益成長と新製品投資を一緒に比べます。
人民元建ての連結通期実績です。
03 強みとリスク・検討点
強みと、リスク・検討点
FY2025年次報告書には、エッチングの収益規模、売上高の3割に相当する研究開発投入、稼働済みの大型拠点が併記されています。
強み
リスク・検討点
04 待遇
給与、初任給、休日、手当
公式採用入口とESG報告は募集経路・人材育成を示しますが、全社共通の給与表、賞与月数、平均年収は未掲載です。 求人票ごとの条件照会が必要です。
- 給与
- 公式公開情報で職種横断の給与表は未掲載です。 応募求人の条件を照会します。公式採用入口から募集へ進みます。
- 募集経路
- 2024年ESG報告は社会人、校园、実習、職業学校の経路を記載し、同年の新規採用869人、校园採用143人を示しています。
- 教育
- 年次報告書は専門・管理の複線型キャリアと中微学苑の研修を記載しています。 研修時間や配属は年度・職種で照会します。
- 勤務時間・休日
- 共通の所定時間、年間休日日数、在宅勤務条件は公開画面の照会範囲外です。
- 賞与・株式報酬
- 支給回数・月数、個人別の株式報酬条件は求人共通値として未開示です。
05 勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
本社は上海・金橋です。 生産・研究開発は上海臨港と南昌が稼働し、広州と成都は建設・計画段階です。 応募時は稼働済み拠点と将来配属候補を区別します。
- 上海・金橋
- 浦東新区金橋総合保税区泰華路188号/ 本社・上場会社の主要オフィス
- 上海・臨港
- 約18万平方メートルの生産・研究開発基地/ 2024年8月稼働
- 江西省・南昌
- 約14万平方メートルの生産・研究開発基地/ 2023年7月稼働
- 広州・成都
- 華南・西南の研究開発・生産拠点/ 2027年稼働計画
- プラズマプロセス
- 真空チャンバー
- RF電源
- 薄膜形成
- MOCVD
- 機械・電気設計
- 装置ソフト
- 顧客技術支援
製品群と年次報告書の研究開発内容から区分しています。
公開求人: 求人DBの公開職種へ
公式採用情報↗06 これから
会社が次に取りにいくもの
将来テーマは、エッチングの先端工程拡張、LPCVD・ALD・EPIの製品化、地域拠点の建設です。 顧客検証を量産売上と同一視は対象外です。
- 薄膜装置
- LPCVDとALDは複数機種が市場へ入り反復受注を得ています。 一方、その他の薄膜装置には顧客検証前後の機種が含まれます。FY2025年次報告書の製品進捗を照会します。
- EPI・パワー半導体
- EPIは顧客の量産検証段階、SiC・GaNパワーデバイス向け装置は開発段階です。
- 拠点建設
- 臨港二期、広州、成都は将来の生産・研究開発能力を増やす計画です。 建設時期と稼働時期は変更可能性があります。
LPCVD・ALDの反復受注
年次報告書は、近年投入したLPCVDとALDの複数機種が市場へ入り、重要顧客から反復受注を得たと記載しています。
根拠資料↗不確実性:機種別売上と顧客名は未開示です。
07 入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
製品名に加え、プラズマ・薄膜・熱流体・制御のどの変数を自分が担当できるかを選んで職種へ結びます。
プラズマエッチング・プロセス開発
CCP・ICP装置で膜種、選択比、形状、ダメージを詰める仕事です。
- CCP
- ICP
- 選択比
- 高アスペクト比
真空・機械・電気設計
チャンバー、RF、ガス、搬送、温度制御を装置へ統合します。
- 真空
- RF
- ガス供給
- 搬送
装置ソフトウェア・データ
工程レシピ、装置シーケンス、センサーログ、工場通信を手掛けます。
- レシピ
- C++
- SECS/GEM
- ログ
- Primoエッチング / LPCVD・ALD / Prismo MOCVDから担当したい製品を1つ選ぶ
- 研究・実務で管理した選択比、膜厚、温度、圧力、稼働率の値を1つ用意する
- 公式採用入口で募集法人・勤務地・顧客対応条件を求人票へ対比する
- CCP
- ICP
- 選択比
- 高アスペクト比
- プラズマ
- 真空
- RF
- ガス供給
- 搬送
- 熱設計
装置の物理量と自分の実験・設計経験を結ぶ語です。
比較
他社との違いを一言で
Lam Research
誘電体・導体・高アスペクト比エッチングで重なります。 AMECはFY2025のエッチング装置売上を明示しており、同じ年度と通貨へそろえます。
Applied Materials
エッチング、CVD、ALDなどで重なります。 工程別の製品棚と顧客検証段階を比較軸にします。
東京エレクトロン
前工程の複数装置で重なります。 AMECはエッチングを収益の軸に薄膜へ拡張中という構成です。
Aixtron
LED・パワー半導体向けMOCVDで比較対象になります。 AMECのMOCVDとエッチングは製品群ごとに分けて比べます。
出典
公式情報と第三者資料
会社、IR、採用、報道の種別を分けて掲載しています。 参照日は2026-08-10です。
- 公式 AMEC 公式サイト 参照日 2026-08-10
- 公式 AMEC 公式会社・製品案内 参照日 2026-08-10
- 公式 AMEC 公式情報 Sheet 参照日 2026-08-10
- 採用 AMEC 採用 参照日 2026-08-10
- 採用 AMEC 2024 ESG報告（人材・採用） 中微公司2024年环境保护、社会责任及公司治理报告 / FY2024 / 公表 2025-04-21 / AMECグループ / PDF p.76 人材採用 / zh-CN 参照日 2026-08-10
- IR FY2025年次報告書 中微半导体设备（上海）股份有限公司2025年年度报告 / FY2025 / 公表 2026-03-31 / AMEC（688012）と連結子会社 / PDF p.24–25, p.40, p.57–60, p.65 / zh-CN 参照日 2026-08-10
- IR FY2024年次報告書 中微半导体设备（上海）股份有限公司2024年年度报告 / FY2024 / 公表 2025-04-18 / AMEC（688012）と連結子会社 / PDF 主要会計データ・経営分析 / zh-CN 参照日 2026-08-10
- IR FY2023年次報告書 中微半导体设备（上海）股份有限公司2023年年度报告 / FY2023 / 公表 2024-03-19 / AMEC（688012）と連結子会社 / PDF 主要会計データ・経営分析 / zh-CN 参照日 2026-08-10
- IR 2026年第1四半期報告書 中微半导体设备（上海）股份有限公司2026年第一季度报告 / Q1 2026 / 公表 2026-04-28 / AMEC（688012）と連結子会社 / PDF 主要会計データ / zh-CN 参照日 2026-08-10