半導体製造ラボ SEMICONDUCTOR DATA LAB

企業研究 装置 / 材料エンジニアリング 成膜、エッチング、CMP、イオン注入、電子線計測、先端パッケージ装置

Applied Materials

原子層の膜形成から3D形状加工、電子線計測まで担う

成膜、エッチング、CMP、イオン注入、電子線計測、先端パッケージを材料工学で横断する半導体製造装置会社です。
9工程の2023年シェアから、強みと仕事を読み解きます。

Applied Materialsの公式会社・製品情報経済産業省の2023年工程別シェアを同じ表で比較します。 公開数値には開示範囲を、当サイトの見通しには不確実性を添えています。

Verified 詳細企業研究 / 出典・主張リンク確認済み ページ確認日 2026-08-03

60秒で判断

候補に残す3つの基準

向いている入口 薄膜 / プラズマ装置開発

材料、物理、化学工学、機械、電気電子、真空、プラズマを学んだ人。

根拠と確認日出典一覧(11件)

公式 6件 / IR 2件 / 採用 2件 / 第三者 1件。出典参照日 2026-08-03 / ページ確認日 2026-08-03

2023年図の掲載工程 9 工程 CVD / スパッタ / LPE / エッチング / CMP / 熱処理装置 / イオン注入 / 表面検査 / 外装検査
首位工程 4 工程 掲載工程内の2023年値
最大シェア 85 % 掲載工程内の最大値
参考:掲載工程の市場規模構成 工程市場規模 / 会社売上とは別指標 / METI p.5・2023年
  • CVD 20,218億円
  • スパッタ 5,643億円
  • LPE 1,891億円
  • エッチング 23,383億円
  • CMP 4,242億円
  • 熱処理装置 3,407億円
  • イオン注入 2,993億円
  • 表面検査 7,952億円
  • 外装検査 742億円

01 立ち位置

何の会社として比べるか

Applied MaterialsのAtomic Layer Deposition、Conductor Etch、eBeam Metrologyと、2023年図のCVD、スパッタ、LPE、エッチング、CMP、熱処理装置、イオン注入、表面検査、外装検査を同じ表で比較します。

2023年の第三者集計

どの工程で、どれだけ取っているか

14工程を比べる→
Applied Materialsの工程別シェアMETI p.5 / 2023年
CVD47%
20,218億円 / 2023年
スパッタ85%
5,643億円 / 2023年
LPE17%
1,891億円 / 2023年
エッチング33%
23,383億円 / 2023年
CMP51%
4,242億円 / 2023年
熱処理装置28%
3,407億円 / 2023年
イオン注入28%
2,993億円 / 2023年
表面検査6%
7,952億円 / 2023年
外装検査26%
742億円 / 2023年

丸め値。 市場規模とシェアは経済産業省資料、製品範囲は各社公式ページを参照。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験/検査装置市場年鑑2024」を基にMETIが作成。

代表工程:CVD20,218億円 / 2023年
Applied Materials47%
Lam Research16%
ASM International12%
東京エレクトロン7%
GAA向けALD成膜装置

Atomic Layer Deposition

Endura TrilliumはGAAのシリコン・ナノシートを複雑な金属ゲート膜で包み、膜厚と組成を原子層単位で整えます。

  • Endura Trillium ALD
公式製品情報↗
GAA・HBM向けプラズマエッチング装置

Conductor Etch

Sym3 Z MagnumはPVT2と独立RFバイアスでイオン角度とエネルギーを調整し、GAAのソース・ドレイン空洞を垂直な側壁と矩形底面へ加工します。

  • Sym3 Z
  • Sym3 Z Magnum
公式製品情報↗
電子線CD・重ね合わせ計測装置

eBeam Metrology

PROVision 10はサブナノメートル像と層間イメージングを使い、最大毎時1億点の測定データからCD、エッジ位置、層間ずれを数値化します。

  • PROVision 10
公式製品情報↗

02 収益

どこで、どれくらい事業価値を作るか

FY2026 Q2 売上 $7.910bn、Semiconductor Systems売上 $5.965bn、Applied Global Services売上 $1.665bnを開示区分のまま掲載し、2023年市場規模は会社業績と別欄に分けています。

FY2026 Q2 売上

$7.910bn

前年同期比11%増。 GAAP粗利率49.9%、営業利益率31.9%、希薄化後EPS $3.51

Applied Materials Q2 FY2026 results

Semiconductor Systems売上

$5.965bn

FY2026 Q2。 Foundry・logic等67%、DRAM 29%、Flash 4%、営業利益率35.1%

Applied Materials Q2 FY2026 results

Applied Global Services売上

$1.665bn

FY2026 Q2。 営業利益$487m、営業利益率29.2%

Applied Materials Q2 FY2026 results

掲載工程の市場規模億円 / 2023年
CVD20,218億円
Applied Materials 47%
スパッタ5,643億円
Applied Materials 85%
LPE1,891億円
Applied Materials 17%
エッチング23,383億円
Applied Materials 33%
CMP4,242億円
Applied Materials 51%
熱処理装置3,407億円
Applied Materials 28%
イオン注入2,993億円
Applied Materials 28%
表面検査7,952億円
Applied Materials 6%
外装検査742億円
Applied Materials 26%

市場規模と会社売上を別の比較軸として掲載しています。

03 強みとリスク・検討点

強みと、リスク・検討点

「材料形成・形状加工・平坦化・注入・計測を自社製品で担う」「装置売上と保守売上が四半期で伸びた」を競争力、「上位2顧客への売上集中」「中国売上30%と輸出許可」を投資・応募前の検討点として比較します。

強み

材料形成・形状加工・平坦化・注入・計測を自社製品で担う

ProducerとEnduraの成膜、Sym3のエッチング、ReflexionのCMP、VIIStaのイオン注入、PROVisionの電子線計測を同じ製品ポートフォリオに持ちます。

Applied Materials product library ↗
装置売上と保守売上が四半期で伸びた

FY2026 Q2はSemiconductor Systemsが$5.965bn、Applied Global Servicesが$1.665bn。 前年同期比はそれぞれ10.4%増、17.3%増です。

Applied Materials Q2 FY2026 results ↗

リスク・検討点

上位2顧客への売上集中

FY2025は上位2顧客が全社売上の約19%と約15%を占めました。 各社のFab投資日程が装置売上と製品構成を大きく動かします。

Applied Materials FY2025 Form 10-K ↗
中国売上30%と輸出許可

FY2025の中国向け売上は$8.529bnで全社の30%。 米国の輸出規則と許可要件が中国向け製品構成、部品供給、出荷日程を左右します。

Applied Materials FY2025 Form 10-K ↗

04 採用条件

採用条件と公式情報

Applied Materials、Inc.の採用窓口と、薄膜 / プラズマ装置開発、装置ソフト / 電子線アルゴリズム、フィールドサービス / カスタマーエンジニアの入口を掲載します。 給与・制度の比較基準は、応募日の公式募集要項です。

応募前の一次情報
公式の採用窓口
材料・物理・化学、機械、電気、ソフトウェア、画像解析、製造、フィールドサービスの専門性を、装置開発と顧客Fabで生かせます。募集職種・応募条件の基準は応募日の公式要項です。
公式要項の比較項目
比較項目は基本給、賞与・変動給、勤務時間、休日、勤務地、雇用法人です。 掲載値は公式開示値です。
比較単位
Applied Materials、Inc.、親会社、海外法人の数値を比較するときは、法人名・年度・通貨・実績/予定をそろえます。
Applied Materials careers↗
実際の募集を探す求人DBで、Applied Materialsの公開求人 80件を探す当サイトの求人DBで、薄膜 / プラズマ装置開発、装置ソフト / 電子線アルゴリズム、フィールドサービス / カスタマーエンジニアと米国・サンタクララ / オースティン / グロスター、日本・台湾・韓国・中国、シンガポール・インドの募集を絞り込みます。 件数は最新snapshotから画面へ反映します。

05 勤務地と職種

どこで、どんな仕事をするか

米国・サンタクララ / オースティン / グロスター、日本・台湾・韓国・中国、シンガポール・インド、欧州・イスラエルを主な採用拠点とし、薄膜 / プラズマ装置開発、装置ソフト / 電子線アルゴリズム、フィールドサービス / カスタマーエンジニアを製品群ごとに分けます。

主な勤務地・拠点
拠点1
米国・サンタクララ / オースティン / グロスター/ 本社・主要拠点
拠点2
日本・台湾・韓国・中国
拠点3
シンガポール・インド
拠点4
欧州・イスラエル
公式採用の勤務地欄↗
技術

薄膜 / プラズマ装置開発

Endura、Producer、Sym3の反応室、プラズマ源、ガス供給、温度、真空を設計し、膜厚と3D形状をウェーハ全面で揃える仕事。

  • ALD / CVD
  • Plasma
  • Vacuum
  • Chamber
制御・情報

装置ソフト / 電子線アルゴリズム

搬送ロボットと反応室をリアルタイム制御し、PROVision 10の電子線画像からCD、エッジ位置、層間ずれを算出する仕事。

  • Equipment control
  • C++
  • eBeam image
  • Algorithm
顧客接点

フィールドサービス / カスタマーエンジニア

顧客Fabで装置を据え付け、真空到達、ウェーハ搬送、チャンバー状態、部品交換、改造後の性能を量産基準へ合わせる仕事。

  • Installation
  • Maintenance
  • Upgrade
  • Uptime

公開求人80件の職種内訳

公式採用情報↗
  • フィールドエンジニア
  • サプライチェーン / 物流
  • プロジェクト / プログラム管理
  • インテグレーションエンジニア
  • プロセスエンジニア
  • 技術営業
  • コーポレート / 人事・管理
  • 事業企画 / マーケティング

06 これから

会社が次に取りにいくもの

「GAA・HBM向けの成膜と3Dエッチングを伸ばす」、「EPIC Centerで顧客との共同開発期間を縮める」を成長材料とし、各テーマに顧客認定・供給・投資時期の不確実性を添えています。

公式情報からの見立て

GAA・HBM向けの成膜と3Dエッチングを伸ばす

Endura Trillium ALD、Producer Precision Selective Nitride、Sym3 Z MagnumをGAAロジックとHBM DRAMの量産ラインへ広げます。

根拠資料↗

不確実性:顧客ごとのノード移行日程、量産認定期間、装置構成で売上時期が動きます。

公式情報からの見立て

EPIC Centerで顧客との共同開発期間を縮める

TSMC、Samsung、大学研究機関が300mmパイロットラインへ入り、材料、装置、レシピを同じ開発環境で作り込みます。

根拠資料↗

不確実性:顧客の製品ロードマップ、知的財産の分担、量産Fabへの移管時期が投資回収を左右します。

07 入口を選ぶ

専攻から、入口を1つに絞る

Atomic Layer Depositionで使う薄膜レシピ・真空・ガス供給・熱設計と、薄膜 / プラズマ装置開発、装置ソフト / 電子線アルゴリズム、フィールドサービス / カスタマーエンジニアから応募する1職種を選びます。

技術

薄膜 / プラズマ装置開発

材料、物理、化学工学、機械、電気電子、真空、プラズマを学んだ人。

  • ALD / CVD
  • Plasma
  • Vacuum
  • Chamber
制御・情報

装置ソフト / 電子線アルゴリズム

組み込みソフト、C++、制御工学、画像解析、統計、機械学習、高速計算の実務経験。

  • Equipment control
  • C++
  • eBeam image
  • Algorithm
顧客接点

フィールドサービス / カスタマーエンジニア

装置保全、機械・電気、トラブル解析、安全作業、顧客折衝、海外チーム協働の経験を持つ人。

  • Installation
  • Maintenance
  • Upgrade
  • Uptime
応募前の3手
  1. Endura Trillium ALDから担当製品を1つ選ぶ
  2. 薄膜条件、RF、ガス流量、温度、真空度と測定結果を一つの実験例で語る。
  3. 米国・サンタクララ / オースティン / グロスター / 日本・台湾・韓国・中国の募集職種と応募条件を公式要項からノートへ転記する
公式採用へ↗
面接で使う技術語
  • ALD / CVD
  • Plasma
  • Vacuum
  • Chamber
  • Equipment control
  • C++
  • eBeam image
  • Algorithm
  • Installation
  • Maintenance

Atomic Layer Depositionの性能指標と実務経験を結ぶための語です。

競合比較

Applied Materialsの掲載工程で競合を比較する

CVD

Lam Research

CVDの2023年値はLam Research 16%、Applied Materials 47%で、差は31ポイント下です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。

CVD

ASM International

CVDの2023年値はASM International 12%、Applied Materials 47%で、差は35ポイント下です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。

CVD

東京エレクトロン

CVDの2023年値は東京エレクトロン 7%、Applied Materials 47%で、差は40ポイント下です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。

スパッタ

アルバック

スパッタの2023年値はアルバック 10%、Applied Materials 85%で、差は75ポイント下です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。

比較根拠:経済産業省「半導体・デジタル産業戦略の現状と今後」 p.5(2023年値) ↗ このページの出典一覧へ →

出典

公式情報と第三者集計

企業の公式会社・製品・IR・採用情報と、METI p.5掲載の2023年丸め値を種別表示。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験/検査装置市場年鑑2024」を基にMETIが作成。 参照日は2026-08-03です。

企業情報へ戻る Applied Materialsの会社・求人データへ Atomic Layer Deposition、Conductor Etch、eBeam Metrologyと薄膜 / プラズマ装置開発、装置ソフト / 電子線アルゴリズム、フィールドサービス / カスタマーエンジニアを、当サイトの会社情報・公開求人と比べます。 →
回答待ち 更新中 公開Q&A

このページの質問窓口

AIに疑問を送る

「匿名で送信する」を押して内容を送ると、受付ID付きの回答URLを発行します。URLでは進捗を追うことができ、通常は1日以内に回答します。個人情報を取り除いて編集した質問と回答だけを、承認済み資料の出典リンクとともに公開Q&A一覧へ掲載します。

通常、1日以内に回答します 回答待ち 更新中

  1. 匿名で送る 分かりにくい箇所、指摘、追加してほしい内容を書きます。
  2. 受付IDと回答URLを保存する 送信後に発行されるURLへ、進捗が順次反映されます。
  3. 進捗と回答を追う URLには、受付済み、回答作成中、解決済みの状態と回答が載ります。
公開Q&A一覧へ 5〜4,000文字。氏名・連絡先などの個人情報、秘密情報は入力禁止です。

このフォームは匿名です。氏名・連絡先・応募情報などの個人情報、秘密情報、社外秘情報、契約情報、非公開資料の入力は禁止です。投稿原文は運営用DBに保存し、公開面には、個人情報・秘密情報・危険な命令を除く安全審査と読みやすい文章への編集を経た質問文と回答だけを載せます。状態は「受付済み」「回答作成中」「解決済み」の3段階です。安全審査の結果によっては公開を保留します。サイト側の機械検査を通った内容だけを運営側のAI回答作成環境へ送り、回答案の作成と、それとは独立したAI審査に使います。機械検査には見落としの可能性があり、回答作成と審査の履歴は利用中の環境に保持されます。IPアドレスや端末情報は送信対象外です。回答URLは公開Q&A用で、共有先からも開けます。送信により、この利用条件と審査後のQ&A公開に同意したものとします。