企業研究 装置 / 成膜 ALD、エピタキシー、SiC成膜
ASM International
原子層成膜とエピタキシーで、膜を一層ずつ作る
ALDを中核に、CVD、シリコン／SiCエピタキシー、表面改質を先端ロジック・メモリへ供給する成膜装置会社です。 旧LPEは2022年に完全子会社化され、現在はASMのSiCエピタキシー製品ユニットです。
2工程の2023年シェアから、強みと仕事を読み解きます。
求人DBの会社ID対象外。応募入口は公式採用です。 雇用法人・勤務地国・就労言語・ビザ条件は公式募集要項の比較項目です。
ASM Internationalの公式会社・製品情報と経済産業省の2023年工程別シェアを同じ表で比較します。 公開数値には開示範囲を、当サイトの見通しには不確実性を添えています。
Verified 詳細企業研究 / 出典・主張リンク確認済み ページ確認日 2026-08-03
60秒で判断
候補に残す3つの基準
界面化学、薄膜、材料、化学工学、物理、結晶成長、分析測定を学んだ人。
公式 5件 / IR 3件 / 採用 1件 / 第三者 1件。出典参照日 2026-08-03 / ページ確認日 2026-08-03
- CVD 20,218億円
- LPE 1,891億円
01 立ち位置
何の会社として比べるか
2023年図はCVD欄でASM International 12%、LPE工程欄でASM International 48%とLPE 7%を別行表示しています。 LPEは2022年10月にASMが全株取得しました。 企業研究ページの市場表示はCVDとLPEの2工程で、LPE欄の55%は現行グループ換算の参考値です。
どの工程で、どれだけ取っているか
丸め値。 市場規模とシェアは経済産業省資料、製品範囲は各社公式ページを参照。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験／検査装置市場年鑑2024」を基にMETIが作成。
02 収益
どこで、どれくらい事業価値を作るか
2026年Q1 売上 €862.5m、2026年Q1 純利益 €238.5mを開示区分のまま掲載し、2023年市場規模は会社業績と別欄に分けています。
市場規模と会社売上を別の比較軸として掲載しています。
03 強みとリスク・検討点
強みと、リスク・検討点
「熱ALDとPEALDを複数プラットフォームで持つ」「シリコンとSiCのエピタキシー装置をそろえる」を競争力、「上位顧客への売上集中」「輸出規制とSiC設備投資の変動」を投資・応募前の検討点として比較します。
強み
XP4 EmerALD、XP4 Pulsar、XP8 Synergisを使い、先端ロジックとDRAMの3D構造へ原子層単位の膜を形成します。
ASM ALD ↗Epsilon 2000、Intrepid ESと、旧LPE由来のPE1O6A、PE1O8、PE2O8を同じEpitaxy製品群で展開します。
ASM epitaxy ↗リスク・検討点
輸出許可と地域別販売規制が出荷可能な装置構成を変えます。 SiCエピタキシーはパワー半導体顧客の増産、在庫、認定時期に受注が連動します。
ASM Annual Report 2025 ↗04 採用条件
採用条件と公式情報
ASM International N.V.の採用窓口と、ALD / Epitaxyプロセス、装置 / 制御ソフト、フィールド / プロダクトの入口を掲載します。 給与・制度の比較基準は、応募日の公式募集要項です。
- 公式の採用窓口
- 欧州・米国・アジアの15主要拠点で、プロセス、機械、電気、ソフトウェア、製品管理、サービスの人材を採用します。募集職種・応募条件の基準は応募日の公式要項です。
- 公式要項の比較項目
- 比較項目は基本給、賞与・変動給、勤務時間、休日、勤務地、雇用法人です。 掲載値は公式開示値です。
- 比較単位
- ASM International N.V.、親会社、海外法人の数値を比較するときは、法人名・年度・通貨・実績／予定をそろえます。
05 勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
オランダ・アルメレ、米国、日本・アジア、欧州の開発・製造拠点を主な採用拠点とし、ALD / Epitaxyプロセス、装置 / 制御ソフト、フィールド / プロダクトを製品群ごとに分けます。
ALD / Epitaxyプロセス
前駆体反応、プラズマ、表面終端、結晶成長を測定し、膜厚、組成、均一性、欠陥密度を量産仕様へ整える仕事。
- ALD
- Epitaxy
- Surface chemistry
- Thin film
装置 / 制御ソフト
真空、前駆体・ガス供給、プラズマ、ウェーハ温度、搬送を同期し、ALDサイクルとEpitaxy成長を再現する仕事。
- Vacuum
- Plasma
- Gas delivery
- Control
フィールド / プロダクト
顧客Fabで膜質と装置稼働を認定し、レシピ変更、保守データ、次世代材料要求を製品仕様へ反映する仕事。
- Application
- Product
- Qualification
- Service
公開求人: 求人DBの公開職種へ
公式採用情報↗06 これから
会社が次に取りにいくもの
「GAA・DRAM/HBMの3D構造へALDを広げる」、「旧LPEのSiC装置をASMの量産基盤へ統合する」を成長材料とし、各テーマに顧客認定・供給・投資時期の不確実性を添えています。
07 入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
Atomic Layer Depositionで使う薄膜プロセス・真空・ガス・プラズマと、ALD / Epitaxyプロセス、装置 / 制御ソフト、フィールド / プロダクトから応募する1職種を選びます。
ALD / Epitaxyプロセス
界面化学、薄膜、材料、化学工学、物理、結晶成長、分析測定を学んだ人。
- ALD
- Epitaxy
- Surface chemistry
- Thin film
装置 / 制御ソフト
真空機器、流体、熱、電気電子、プラズマ、組み込み制御、装置ソフトの設計・開発経験がある人。
- Vacuum
- Plasma
- Gas delivery
- Control
フィールド / プロダクト
プロセス認定、装置立ち上げ、データ解析、顧客折衝、製品企画の経験を持つ人。
- Application
- Product
- Qualification
- Service
- XP4 EmerALD / XP4 Pulsarから担当製品を1つ選ぶ
- 前駆体飽和曲線、膜厚、組成、欠陥密度、結晶品質を数値で示す。
- オランダ・アルメレ / 米国の募集職種と応募条件を公式要項からノートへ転記する
- ALD
- Epitaxy
- Surface chemistry
- Thin film
- Vacuum
- Plasma
- Gas delivery
- Control
- Application
- Product
Atomic Layer Depositionの性能指標と実務経験を結ぶための語です。
競合比較
ASM Internationalの掲載工程で競合を比較する
Applied Materials
CVDの2023年値はApplied Materials 47%、ASM International 12%で、差は35ポイント上です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。
Lam Research
CVDの2023年値はLam Research 16%、ASM International 12%で、差は4ポイント上です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。
東京エレクトロン
CVDの2023年値は東京エレクトロン 7%、ASM International 12%で、差は5ポイント下です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。
NAURA
LPEの2023年値はNAURA 13%、ASM International 55%で、差は42ポイント下です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。
出典
公式情報と第三者集計
企業の公式会社・製品・IR・採用情報と、METI p.5掲載の2023年丸め値を種別表示。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験／検査装置市場年鑑2024」を基にMETIが作成。 参照日は2026-08-03です。
- 公式 ASM company 参照日 2026-08-03
- 公式 ASM technology and products 参照日 2026-08-03
- 公式 ASM ALD 参照日 2026-08-03
- 公式 ASM epitaxy 参照日 2026-08-03
- IR ASM Q1 2026 results 参照日 2026-08-03
- IR ASM Results Center 参照日 2026-08-03
- IR ASM Annual Report 2025 参照日 2026-08-03
- 採用 ASM careers 参照日 2026-08-03
- 公式 ASM completed LPE acquisition 参照日 2026-08-03
- 第三者 経済産業省「半導体・デジタル産業戦略の現状と今後」 p.5（2023年値） 参照日 2026-08-03