ASML

EUV露光装置。公式製品ページのNXE（0.33 NA）とEXE（0.55 NA、High NA）が、先端ロジックと先端DRAMの量産に使われます。

装置1台は建屋規模で、据付と立ち上げに顧客ファブでの長期作業が伴います。

DUV（ArF液浸・ArF・KrF・i線）、計測・検査、そして計算リソグラフィのソフトウェア。 装置単体に加えて、パターンを写す条件までまとめて提供します。

表面検査工程では10%で、首位はKLAの69%です。

露光ではキヤノン4%、その他5%。 EUVでは代替の供給元が無い状態が続き、ニコンとキヤノンはArF以前の世代とナノインプリントで別の道を選んでいます。

2025年の受注は280.4億ユーロ、年末の受注残は388億ユーロ。 2026年上期も強い受注が続いています。

2026年通期の売上見通しは、2026年1月時点の340〜390億ユーロから、7月に430〜450億ユーロへ引き上げられました。

AI向けの先端ロジックとメモリ投資が理由として挙げられています。

2026年Q2に約11億ユーロを自社株買い、2026年の中間配当は1株1.88ユーロ。

2026-2028年の自社株買いプログラムの一部です。

本社

オランダ・フェルトホーフェン— 開発と最終組立

日本

東京ほか顧客ファブ近接拠点

米国

コネチカット、カリフォルニア— 光源とソフトウェア

その他

台湾、韓国、中国、シンガポールなど60拠点以上

• EUV露光装置
• DUV露光装置
• 計測・検査装置
• 計算リソグラフィ
• カスタマーサポート

日本の募集はサポートとアプリケーション側が中心です。 開発職はオランダ拠点が主になります。

ニコン / キヤノン

経済産業省2023年値ではキヤノン4%、その他5%。 ASMLは91%で、EUVでは代替の供給元が無い状態が続く。

Applied Materials

9工程に製品を持ち4工程で首位。 ASMLは2工程だが、露光1工程の市場規模が3兆5,561億円と大きい。

東京エレクトロン

露光の前後にあたる塗布現像で85%。 ASMLの装置とTELの装置は同じラインで隣り合う。