企業研究 装置 / イオン注入 イオン注入装置
Axcelis
イオン注入に特化し、電流とエネルギー帯を横断する
Purion共通プラットフォームで、高電流から高エネルギー、SiCパワー半導体までを担うイオン注入専業メーカーです。
1工程の2023年シェアから、強みと仕事を読み解きます。
求人DBの会社ID対象外。応募入口は公式採用です。 雇用法人・勤務地国・就労言語・ビザ条件は公式募集要項の比較項目です。
Axcelisの公式会社・製品情報と経済産業省の2023年工程別シェアを同じ表で比較します。 公開数値には開示範囲を、当サイトの見通しには不確実性を添えています。
Verified 詳細企業研究 / 出典・主張リンク確認済み ページ確認日 2026-08-03
60秒で判断
候補に残す3つの基準
高電圧、真空、電磁気、ビーム物理、機械設計、メカトロニクスを学んだ人。
公式 4件 / IR 3件 / 採用 1件 / 第三者 1件。出典参照日 2026-08-03 / ページ確認日 2026-08-03
- イオン注入 2,993億円
01 立ち位置
何の会社として比べるか
AxcelisのHigh current / medium current implant、High energy / SiC implantと、2023年図のイオン注入を同じ表で比較します。
どの工程で、どれだけ取っているか
丸め値。 市場規模とシェアは経済産業省資料、製品範囲は各社公式ページを参照。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験／検査装置市場年鑑2024」を基にMETIが作成。
02 収益
どこで、どれくらい事業価値を作るか
2026年Q1 売上 $198.956m、2026年Q1 純利益 $9.214mを開示区分のまま掲載し、2023年市場規模は会社業績と別欄に分けています。
市場規模と会社売上を別の比較軸として掲載しています。
03 強みとリスク・検討点
強みと、リスク・検討点
「電流・エネルギー帯をPurionで横断する」「SiC装置と3,264台超の設置基盤」を競争力、「パワー・成熟ノードの設備消化」「Veeco合併の承認と統合」を投資・応募前の検討点として比較します。
強み
高電流のPurion H、中電流のPurion M、高エネルギーのPurion XE／EXEを共通プラットフォームで展開します。
Purion ion implantation ↗Power Series+はH200+、M+、XE+、EXE+をSiC向けに展開し、3,264台超の稼働装置へ部品、保守、アップグレードを供給します。
Axcelis about ↗リスク・検討点
会社は2026年にメモリが伸びる一方、PowerとGeneral Mature市場の設備消化が続き、年間売上は2025年比で概ね横ばいと見込んでいます。
Axcelis Q1 2026 results ↗合併完了には中国SAMRの承認が残り、完了後は製品、顧客、人材、システムの統合費用とシナジー実現が業績へ影響します。
Axcelis stockholders approve Veeco merger ↗04 採用条件
採用条件と公式情報
Axcelis Technologies、Inc.の採用窓口と、イオンビーム / 装置開発、プロセス / 制御ソフト、フィールド / サービスの入口を掲載します。 給与・制度の比較基準は、応募日の公式募集要項です。
- 公式の採用窓口
- 米国本社と世界の顧客拠点で、装置・プロセス・機械・電気・ソフトウェア、製造、サービス、物流の人材を採用します。募集職種・応募条件の基準は応募日の公式要項です。
- 公式要項の比較項目
- 比較項目は基本給、賞与・変動給、勤務時間、休日、勤務地、雇用法人です。 掲載値は公式開示値です。
- 比較単位
- Axcelis Technologies、Inc.、親会社、海外法人の数値を比較するときは、法人名・年度・通貨・実績／予定をそろえます。
05 勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
米国・ビバリー、日本、韓国・中国・台湾、欧州・東南アジアサービス拠点を主な採用拠点とし、イオンビーム / 装置開発、プロセス / 制御ソフト、フィールド / サービスを製品群ごとに分けます。
イオンビーム / 装置開発
イオン源、加速系、磁場・電場、真空、ウェーハ搬送を設計し、狙ったエネルギーと角度でドーパントを打ち込む仕事。
- Ion beam
- High voltage
- Vacuum
- Implant
プロセス / 制御ソフト
ドーズ、エネルギー、入射角、金属汚染、ウェーハ温度を計測・制御し、デバイス特性とスループットを両立する仕事。
- Dose
- Uniformity
- Control
- Throughput
フィールド / サービス
顧客FabでPurionを据え付け、ビーム調整、部品交換、アップグレード、稼働データ解析を行う仕事。
- Field service
- Uptime
- Upgrade
- Application
公開求人: 求人DBの公開職種へ
公式採用情報↗06 これから
会社が次に取りにいくもの
「SiCの注入難度を専用シリーズで取る」、「設置装置をサービス収益へ変える」を成長材料とし、各テーマに顧客認定・供給・投資時期の不確実性を添えています。
07 入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
High current / medium current implantで使うビームライン・高電圧・ウェーハ搬送と、イオンビーム / 装置開発、プロセス / 制御ソフト、フィールド / サービスから応募する1職種を選びます。
イオンビーム / 装置開発
高電圧、真空、電磁気、ビーム物理、機械設計、メカトロニクスを学んだ人。
- Ion beam
- High voltage
- Vacuum
- Implant
プロセス / 制御ソフト
半導体プロセス、材料、物理、統計解析、制御、装置ソフトの設計・開発経験がある人。
- Dose
- Uniformity
- Control
- Throughput
フィールド / サービス
装置保全、立ち上げ、トラブル解析、顧客対応、海外チームとの協働経験を持つ人。
- Field service
- Uptime
- Upgrade
- Application
- Purion H / Purion Mから担当製品を1つ選ぶ
- 高電圧、真空度、ビーム軌道、搬送位置誤差を注入精度の測定値と対比する。
- 米国・ビバリー / 日本の募集職種と応募条件を公式要項からノートへ転記する
- Ion beam
- High voltage
- Vacuum
- Implant
- Dose
- Uniformity
- Control
- Throughput
- Field service
- Uptime
High current / medium current implantの性能指標と実務経験を結ぶための語です。
競合比較
Axcelisの掲載工程で競合を比較する
Applied Materials
イオン注入の2023年値はApplied Materials 28%、Axcelis 51%で、差は23ポイント下です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。
東京エレクトロン
イオン注入の2023年値は東京エレクトロン 22%、Axcelis 51%で、差は29ポイント下です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。
出典
公式情報と第三者集計
企業の公式会社・製品・IR・採用情報と、METI p.5掲載の2023年丸め値を種別表示。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験／検査装置市場年鑑2024」を基にMETIが作成。 参照日は2026-08-03です。
- 公式 Axcelis about 参照日 2026-08-03
- 公式 Axcelis contact 参照日 2026-08-03
- 公式 Purion ion implantation 参照日 2026-08-03
- IR Axcelis Q1 2026 results 参照日 2026-08-03
- IR Axcelis quarterly results 参照日 2026-08-03
- 採用 Axcelis careers 参照日 2026-08-03
- 公式 Purion Power Series+ 参照日 2026-08-03
- IR Axcelis stockholders approve Veeco merger 参照日 2026-08-03
- 第三者 経済産業省「半導体・デジタル産業戦略の現状と今後」 p.5（2023年値） 参照日 2026-08-03