企業研究 装置 / 露光・産業機器 半導体露光装置、ナノインプリント
キヤノン
成熟露光からナノインプリントまで、光でパターンを作る
i線・KrF露光装置とナノインプリントを持ち、成熟ノード、パワー半導体、先端パッケージへ用途を広げる総合精密機器会社です。
1工程の2023年シェアから、強みと仕事を読み解きます。
求人DBの会社ID対象外。応募入口は公式採用です。 雇用法人・勤務地国・就労言語・ビザ条件は公式募集要項の比較項目です。
キヤノンの公式会社・製品情報と経済産業省の2023年工程別シェアを同じ表で比較します。 公開数値には開示範囲を、当サイトの見通しには不確実性を添えています。
Verified 詳細企業研究 / 出典・主張リンク確認済み ページ確認日 2026-08-03
60秒で判断
候補に残す3つの基準
光学、精密機械、材料化学、表面科学の実験値を持つ人向けです。
公式 6件 / IR 3件 / 採用 2件 / ニュース 1件 / 第三者 1件。出典参照日 2026-05-12〜2026-08-03 / ページ確認日 2026-08-03
- 露光装置 35,561億円
01 立ち位置
何の会社として比べるか
キヤノンのOptical lithography、Nanoimprint lithographyと、2023年図の露光装置を同じ表で比較します。
どの工程で、どれだけ取っているか
丸め値。 市場規模とシェアは経済産業省資料、製品範囲は各社公式ページを参照。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験／検査装置市場年鑑2024」を基にMETIが作成。
02 収益
どこで、どれくらい事業価値を作るか
2026年上期 連結売上 2兆2,745.42億円、2026年通期会社予想 売上4.8兆円を開示区分のまま掲載し、2023年市場規模は会社業績と別欄に分けています。
市場規模と会社売上を別の比較軸として掲載しています。
03 強みとリスク・検討点
強みと、リスク・検討点
「用途の広い露光ポートフォリオ」「NILをグループ技術で支える」を競争力、「露光単独損益が非開示」「NILの量産認定」を投資・応募前の検討点として比較します。
強み
i線・KrFを成熟ノード、パワー、アナログ、後工程へ展開し、複数用途から装置需要を取り込みます。
Canon semiconductor lithography systems ↗リスク・検討点
04 採用条件
採用条件と公式情報
キヤノン株式会社 / Canon Inc.の採用窓口と、光学 / 精密機構 / NIL材料、装置制御 / 画像演算、生産技術 / フィールドの入口を掲載します。 給与・制度の比較基準は、応募日の公式募集要項です。
- 公式の採用窓口
- 宇都宮を中心に、光学、精密機械、電気制御、NIL材料、生産技術、組立、フィールドサービスを募集職種の軸にします。 親会社キヤノンと100%子会社キヤノンセミコンダクターエクィップメントは法人名を分けて掲載します。募集職種・応募条件の基準は応募日の公式要項です。
- 公式要項の比較項目
- 比較項目は基本給、賞与・変動給、勤務時間、休日、勤務地、雇用法人です。 掲載値は公式開示値です。
- 比較単位
- キヤノン株式会社 / Canon Inc.、親会社、海外法人の数値を比較するときは、法人名・年度・通貨・実績／予定をそろえます。
05 勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
東京・下丸子、栃木・宇都宮、茨城・阿見、川崎、海外顧客拠点を主な採用拠点とし、光学 / 精密機構 / NIL材料、装置制御 / 画像演算、生産技術 / フィールドを製品群ごとに分けます。
光学 / 精密機構 / NIL材料
投影光学、精密ステージ、NIL樹脂と粒子密度を、解像力・overlay・欠陥率の仕様へ落とす仕事です。
- Lithography
- Optics
- NIL
- Overlay
装置制御 / 画像演算
位置計測、アライメント画像、ウェーハ搬送を同期し、重ね合わせ精度とWPHを作る仕事です。
- Alignment
- Motion
- Image
- Control
生産技術 / フィールド
宇都宮での装置組立から顧客Fabの据付・受入試験・保守までを担う仕事です。
- Manufacturing
- Field service
- Qualification
- Uptime
公開求人: 求人DBの公開職種へ
公式採用情報↗06 これから
会社が次に取りにいくもの
「NILを量産の選択肢へ育てる」、「成熟ノード・後工程の装置需要を取る」を成長材料とし、各テーマに顧客認定・供給・投資時期の不確実性を添えています。
07 入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
Optical lithographyで使う投影光学・精密ステージ・アライメントと、光学 / 精密機構 / NIL材料、装置制御 / 画像演算、生産技術 / フィールドから応募する1職種を選びます。
光学 / 精密機構 / NIL材料
光学、精密機械、材料化学、表面科学の実験値を持つ人向けです。
- Lithography
- Optics
- NIL
- Overlay
装置制御 / 画像演算
画像演算、モーション制御、組み込みソフト、計測工学の経験を持つ人向けです。
- Alignment
- Motion
- Image
- Control
生産技術 / フィールド
装置組立、生産技術、品質解析、海外顧客対応の実務経験を持つ人向けです。
- Manufacturing
- Field service
- Qualification
- Uptime
- FPA-6300ES6a / FPA-3030i5aから担当製品を1つ選ぶ
- 投影光学、ステージ、NIL材料、粒子密度を解像力・overlay・欠陥率へ変換する。
- 東京・下丸子 / 栃木・宇都宮の募集職種と応募条件を公式要項からノートへ転記する
- Lithography
- Optics
- NIL
- Overlay
- Alignment
- Motion
- Image
- Control
- Manufacturing
- Field service
Optical lithographyの性能指標と実務経験を結ぶための語です。
競合比較
キヤノンの掲載工程で競合を比較する
ASML
露光装置の2023年値はASML 91%、キヤノン 4%で、差は87ポイント上です。 比較条件はMETI p.5の同じ工程分類です。
出典
公式情報と第三者集計
企業の公式会社・製品・IR・採用情報と、METI p.5掲載の2023年丸め値を種別表示。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験／検査装置市場年鑑2024」を基にMETIが作成。 参照日は2026-08-03です。
- 公式 半導体露光装置 参照日 2026-05-12
- 公式 FPA-1200NZ2C 参照日 2026-05-12
- IR Integrated Report 2026 参照日 2026-05-12
- ニュース Inkjet-based wafer planarization 参照日 2026-05-12
- 採用 キヤノンセミコンダクターエクィップメント採用 参照日 2026-05-12
- 公式 Canon company profile 参照日 2026-08-03
- 公式 Canon semiconductor lithography systems 参照日 2026-08-03
- 公式 Canon semiconductor group products 参照日 2026-08-03
- 公式 FPA-6300ES6a 参照日 2026-08-03
- IR Canon 2026 first-half results 参照日 2026-08-03
- IR Canon financial results library 参照日 2026-08-03
- 採用 Canon career recruiting 参照日 2026-08-03
- 第三者 経済産業省「半導体・デジタル産業戦略の現状と今後」 p.5（2023年値） 参照日 2026-08-03