半導体製造ラボ SEMICONDUCTOR DATA LAB

企業研究 半導体材料 フォトレジスト / CMPスラリー / 洗浄・エッチング液 / ポリイミド

FUJIFILM Electronic Materials

企業研究 — チップの薬液と樹脂を作る会社

材料で半導体の工程に入る会社。
半導体材料事業の売上2,946億円が、エレクトロニクス部門4,562億円の内数です。

求人DBの会社ID対象外。応募入口は公式採用です。 雇用法人・勤務地国・就労言語・ビザ条件は公式募集要項の比較項目です。

FUJIFILM Electronic Materialsの公式の半導体材料事業ページ2026年3月期 決算短信を同じ表で比べます。 富士フイルムホールディングス連結、エレクトロニクス部門、半導体材料事業の3区分を分け、会社予想は実績と別欄に掲載します。

Verified 詳細企業研究 / 出典・主張リンク確認済み ページ確認日 2026-08-05

60秒で判断

候補に残す3つの基準

向いている入口 製造

化学、化学工学、材料、機械、電気の専攻または製造現場の実務がある人。

先に比べるリスク 富士フイルムホールディングス連結の売上高3兆3,570億円は、ヘルスケアやビジネスイノベーションを含む全社の数値です。

強み・リスクの公式根拠

根拠と確認日出典一覧(16件)

公式 7件 / IR 2件 / 採用 4件 / ニュース 3件。出典参照日 2026-08-05 / ページ確認日 2026-08-05

2026年3月期 エレクトロニクス部門 売上高 4,562 億円 前期比11.9%増。 営業利益1,009億円は前期比34.4%増
2026年3月期 半導体材料事業 売上高 2,946 億円 エレクトロニクス部門の内数。 前期2,504億円からの17.7%増は公表値からの計算
2027年3月期 半導体材料事業 会社予想 3,100 億円 前期比5.2%増。 エレクトロニクス部門は売上4,750億円、営業利益1,060億円の予想
参考:2026年3月期 エレクトロニクス部門の事業別売上高 半導体材料 / AF材料 / 決算説明会資料
  • 半導体材料 2,946億円
  • AF材料 1,616億円

01 立ち位置

何の会社として比べるか

FUJIFILM Electronic Materialsは、材料で半導体の工程に入る会社です。 法人単体の業績は公式ページの記載範囲の外なので、連結全社、エレクトロニクス部門、半導体材料事業の3区分を同じ年度で比べます。

2026年3月期 実績

連結全社、部門、事業を同じ年度で比べる

2026年3月期 売上高億円 / 決算短信・決算説明会資料
富士フイルムHD連結33,570億円
エレクトロニクス部門4,562億円
半導体材料事業2,946億円

半導体材料事業はエレクトロニクス部門の内数です。 富士フイルム エレクトロニクスマテリアルズ株式会社単体の売上高は、公式の会社概要の記載範囲の外です。

2026年3月期 営業利益億円 / 決算短信
連結営業利益3,502億円
エレクトロニクス部門1,009億円

半導体材料事業だけの営業利益は公表区分の外で、エレクトロニクス部門の内数にあたります。

2026年3月期 第4四半期

直近四半期で伸びた事業

決算説明会資料↗
エレクトロニクス部門の事業別売上高2026年1〜3月 / 億円
半導体材料817億円
AF材料458億円

部門合計は1,275億円で前年同期比27.4%増です。 CMPスラリーと先端パッケージング向け液型ポリイミドの販売増が要因として載ります。

エレクトロニクス部門の第4四半期営業利益2026年1〜3月と前年同期 / 億円
2026年3月期 Q4307億円
2025年3月期 Q4176億円

前年同期比74.0%増。 両期とも資産売却などの一時要因を含みます。

リソグラフィ材料

フォトレジスト

EUV(13.5nm)、NIL、ArF(193nm)、KrF(248nm)、i線・g線・ブロードバンド、ネガ型(ポリイソプレン系)、電子ビームまでの製品群を公式製品ページに掲載しています。 ArFにはネガ型現像(NTI)用の材料が入ります。

  • EUV(13.5nm)
  • ArF(193nm)
  • KrF(248nm)
  • i線・g線・ブロードバンド
公式製品情報↗
研磨・洗浄材料

CMPスラリー / ポストCMPクリーナー

銅用、バリアメタル用、次世代金属配線材料向け、フロントエンド用、パッケージング用のCMPスラリーと、ポストCMPクリーナー、バフ洗浄液を持ちます。 銅配線用CMPスラリーは決算短信に世界トップシェアと載ります。

  • 銅用CMPスラリー
  • バリアメタル用CMPスラリー
  • フロントエンド用CMPスラリー
  • パッケージング用CMPスラリー
公式製品情報↗
プロセスケミカル

洗浄・乾燥およびエッチング液

Al、Cu、先端金属合金、反射防止層、SiO2、超低誘電率誘電体に対応する水系ポストエッチングクリーナーと、特殊・独自のエッチング液ブレンドを製品化しています。

  • クリーナー
  • エッチング液
公式製品情報↗
後工程・パッケージング材料

ポリイミド・PBO材料

感光性PBO(水系現像型)、感光性ポリイミド(溶剤現像型)、非感光性ポリイミド、付属薬品を持ち、再配線層(RDL)と保護膜層の絶縁材料に使います。 決算短信は層間絶縁膜用の液型ポリイミドの販売伸長を挙げています。

  • 感光性PBO(水系現像型)
  • 感光性ポリイミド(溶剤現像型)
  • 非感光性ポリイミド
  • ポリイミド・PBO材料付属薬品
公式製品情報↗

02 収益

どこで、どれくらい儲けているか

2026年3月期のエレクトロニクス部門は売上4,562億円、営業利益1,009億円。 連結4部門のうち売上規模は最小、伸び率は最大の区分です。

2026年3月期 富士フイルムHD 連結業績

売上高3兆3,570億円 / 営業利益3,502億円

前期比5.0%増・6.1%増。 ヘルスケア、ビジネスイノベーション、イメージングを含む連結全社の数値です。

2026年3月期 決算短信(2026年5月12日)

2026年3月期 エレクトロニクス部門

売上高4,562億円 / 営業利益1,009億円

前期比11.9%増・34.4%増。 営業利益率22.1%は公表値からの計算です。 半導体材料事業とAF材料事業の合計にあたります。

2026年3月期 決算短信(2026年5月12日)

2026年3月期 半導体材料事業 売上高

2,946億円

前期2,504億円からの17.7%増は公表値からの計算。 連結売上高に占める比率8.8%も公表値からの計算です。

2026年3月期 決算説明会資料

2027年3月期 会社予想

半導体材料3,100億円 / エレクトロニクス部門4,750億円

2026年5月12日時点の予想で、前期比5.2%増・4.1%増。 連結は売上高3兆4,700億円、営業利益3,650億円の予想です。

2026年3月期 決算説明会資料

2026年3月期 部門別の売上高億円 / 決算説明会資料
ビジネスイノベーション11,748億円
ヘルスケア10,989億円
イメージング6,271億円
エレクトロニクス4,562億円
うち半導体材料2,946億円

半導体材料事業が連結売上高に占める比率8.8%は公表値からの計算です。 部門の合計と連結売上高は集計範囲に差があります。

半導体材料事業の売上高億円 / 実績と会社予想を区別
2,504億円2025年3月期 実績
2,946億円2026年3月期 実績
3,100億円2027年3月期 会社予想

2027年3月期は2026年5月12日時点の会社予想で、前期比5.2%増は決算説明会資料の記載値です。

03 強みとリスク・検討点

強みと、リスク・検討点

工程の大半へ材料を供給する範囲の広さと、法人単体の業績が公式ページの記載範囲の外にとどまる開示の粗さが、同じ資料に同居します。

強み

製造プロセスの大半へ材料を供給する体制

決算短信は、半導体の殆どの製造プロセスへ材料を供給する強みを生かし、複雑な顧客課題へワンストップソリューションを提供する方針を掲げています。

2026年3月期 決算短信(2026年5月12日) ↗
世界トップシェアと載る製品

決算短信は、NTI現像液と銅配線用CMPスラリーを世界トップシェアと記し、微細化と配線層の積層数増加に伴う販売伸長を挙げています。

2026年3月期 決算短信(2026年5月12日) ↗
AI半導体需要での2桁増収

半導体材料事業の売上は2025年3月期2,504億円から2026年3月期2,946億円へ伸び、第4四半期だけで817億円、前年同期比29.3%増でした。 増加率17.7%は公表値からの計算です。

2026年3月期 決算説明会資料 ↗
顧客の近くで作る国内3拠点

静岡拠点は2025年11月に新棟を稼働、熊本拠点は2024年1月にCMPスラリー生産ラインを立ち上げ、大分拠点は2026年度にポストCMPクリーナー増産の新棟を稼働予定と載ります。

Rapidusへの出資完了(2026年2月27日) ↗
公表されている就業データ

採用サイトは2024年度の全社平均として、平均勤続年数約15年、月平均の所定外労働約24時間、年次有給休暇取得率約72%、男性の育児休業取得率約82%を掲載しています。

よく分かるFFEM(採用サイト) ↗

リスク・検討点

法人単体の業績が公式ページの記載範囲の外

富士フイルム エレクトロニクスマテリアルズ株式会社の会社概要には、資本金4億9,000万円と設立年月日が載ります。 売上高、営業利益、従業員数は記載範囲の外で、公開されている実数は連結の部門・事業区分です。

会社概要(FFEM) ↗
連結全体では約1割の事業

2026年3月期の半導体材料事業2,946億円は、連結売上高3兆3,570億円の8.8%です(公表値からの計算)。 連結業績はヘルスケアやビジネスイノベーションの動きにも左右されます。

2026年3月期 決算説明会資料 ↗
会社予想は伸び率の低下を前提にする

半導体材料事業の2027年3月期予想は3,100億円で前期比5.2%増です。 2026年3月期実績の17.7%増(公表値からの計算)とは伸び率に差があります。 実績と会社予想は別欄で比べてください。

2026年3月期 決算説明会資料 ↗
関税と原材料の影響が部門利益へ及ぶ

決算説明会資料は、2025年度の米国関税政策の影響をエレクトロニクス部門で通期実績-9億円、影響する主な製品を半導体材料と載せています。 連結全体では-58億円です。

2026年3月期 決算説明会資料 ↗
記載範囲の外にある待遇項目

募集要項に載るのは賃金形態、昇給・賞与の回数、勤務時間、年間休日、諸手当の区分です。 初任給、平均年収、職種別年収、賞与月数は記載範囲の外です。

募集要項(FFEM採用) ↗

04 待遇

給与、初任給、休日、手当

募集要項に載るのは賃金形態、昇給・賞与の回数、勤務時間、年間休日、諸手当の区分です。 初任給と年収の金額は記載範囲の外なので、数値で比べられるのは採用サイトの就業データです。

公表されている就業データ(2024年度 全社平均)% / 採用サイト「よく分かるFFEM」
男性の育児休業取得率約82%
年次有給休暇取得率約72%

同じページに平均勤続年数約15年、月平均の所定外労働約24時間が2024年度全社平均として載ります。

応募前の一次情報
賃金形態・昇給・賞与
賃金形態は月給制、昇給は年1回(6月)、賞与は年2回(7月・12月)です。 金額は応募時点の公式募集要項に掲載されます。
勤務時間
所定労働時間は7時間40分で、コアタイム有のフレックスタイム制です。
休日・休暇
年間休日125日(会社カレンダーに基づく)、完全週休2日制(原則土・日、祝日)、夏季・年末年始休日、年次有給休暇制度が載ります。
諸手当・福利厚生
世帯手当、通勤手当、早出残業手当、休日出勤手当、転勤別居手当、帰宅交通費、確定拠出年金、確定給付企業年金、育児・家族介護休職が載ります。
記載範囲の外にある項目
初任給、平均年収、職種別・年代別の年収、賞与月数は、募集要項の記載範囲の外です。 応募年度の公式要項の掲載内容を基準にしてください。
募集要項(FFEM採用)↗
実際の募集を探す公式採用:FUJIFILM Electronic Materialsの最新募集応募先と募集条件の基準は、応募日の公式募集要項です。

05 勤務地と職種

どこで、どんな仕事をするか

国内の事業所は新横浜本社と静岡工場、大分工場、熊本工場です。 募集要項に勤務地として載るのは新横浜本社、静岡工場、大分工場の3カ所、職種は6部門です。

主な勤務地・拠点
本社
神奈川県横浜市港北区新横浜3-2-3 EPIC TOWER SHIN YOKOHAMA/ マーケティング、営業、物流、管理
静岡工場
静岡県榛原郡吉田町川尻4000/ フォトレジストとイメージセンサー材料の製造。 2025年11月に新棟が稼働
大分工場
大分県大分市大字下郡字中新地3410-2/ 半導体材料の製造。 2026年度にポストCMPクリーナー増産の新棟を稼働予定
熊本工場
熊本県菊池郡菊陽町津久礼2900/ 2024年1月にCMPスラリー生産ラインを立ち上げ
海外拠点
米国、ベルギー、イタリア、英国、フランス、台湾、韓国、中国、シンガポール/ 世界25拠点のうち20が製造拠点
公式採用の勤務地欄↗
募集要項の職種区分
  • 製造部門
  • 生産技術部門
  • 品質管理部門
  • 品質保証部門
  • 営業部門
  • 管理部門

材料の研究開発職は募集要項の記載範囲の外です。 具体的な職務内容と勤務地は時期によって差があると載ります。

公式採用ページからの手順
  1. 募集要項から職種6部門、勤務地3カ所、年間休日125日、所定労働時間7時間40分をノートへ転記する
  2. 勤務地紹介から新横浜、静岡、大分の業務内容と周辺環境を1行ずつメモする
  3. キャリア採用はリファラル採用の募集ページ、その他は採用に関するお問い合わせフォームから連絡する
公式採用へ↗

公開求人: 現在の公開求人 0件

公式採用情報↗

公式採用の募集職種 ↗

06 これから

会社が次に取りにいくもの

半導体材料事業の公式目標は2030年度に売上5,000億円です。 2026年3月期の実績2,946億円に対し、残り4年で2,000億円強の上積みが要ります。

公式目標と、2026年3月期実績の位置棒が実績、縦線が目標値の位置
半導体材料事業 売上高2,946億円
2030年度目標は5,000億円(2024年度の約2倍)。 棒は2026年3月期実績、縦線が目標値の位置
感光性絶縁膜材料 売上倍率2024年度=1倍
2030年度までに2024年度比5倍にする計画。 縦線が5倍の位置
  • 2025〜2026年度に1,000億円以上の研究開発・設備投資
  • 静岡:開発用の新棟が2025年11月稼働
  • 大分:ポストCMPクリーナー増産の新棟を2026年度稼働予定
  • 熊本:CMPスラリー生産ラインを2024年1月立ち上げ

2030年度の数値は計画値です。 顧客の設備投資と材料の認定期間が到達年度を左右します。

これからの材料
Rapidusへの出資
2026年2月に50億円の出資を完了し、先端レジスト、フォトリソグラフィー周辺材料、ポリイミド、ポストCMPクリーナー、CMPスラリーを提供すると載ります。 詳細は公式ニュースリリースにあります。
先端パッケージング向けの用途開発
決算短信は、インターポーザーの大型化とビルドアップ基板の微細化に伴うフィルム型ポリイミドの需要増と、ハイブリッドボンディング工程向けCMPスラリーの用途検討の進行を挙げています。
新技術の公表
2026年2月のSPIE Advanced Lithography + Patterningで次世代EUV技術を中心とした先端レジストを発表し、2026年4月にはフッ素フリーのネガ型ArF液浸レジストの開発を公表しました。
公式情報からの見立て

半導体材料事業を2030年度に5,000億円へ

Rapidusへの出資完了リリースは、半導体材料事業の売上を2030年度に5,000億円(2024年度の約2倍)とする目標と、2025〜2026年度に1,000億円以上の研究開発・設備投資を行う計画を掲げています。

根拠資料↗

不確実性:目標は計画値です。 顧客の設備投資、材料の認定期間、量産立ち上げ時期が到達年度を左右します。

公式情報からの見立て

後工程材料ブランド「ZEMATES」

2025年12月9日に感光性絶縁膜材料の新ブランドZEMATESを立ち上げ、再配線層用の液型ポリイミド、フィルム型ポリイミド、保護膜層用PBOを揃え、2030年度までに感光性絶縁膜材料の売上を2024年度比5倍にする計画を公表しました。

根拠資料↗

不確実性:市場の年15%成長は予想として載る数値です。 フィルム型の採用時期は顧客の試験段階に左右されます。

公式情報からの見立て

フッ素フリーのArF液浸レジスト

2026年4月23日に、フッ素フリーのネガ型ArF液浸レジストの世界初の開発を公表しました。 優れた酸反応効率と高い撥水性を両立し、微細な回路パターン形成へ用います。 PFAS規制の進展が背景として載ります。

根拠資料↗

不確実性:開発発表の段階までが公表内容です。 量産採用の規模と時期は公式資料の記載範囲の外です。

公式情報からの見立て

地産・地消・地援とインドへの展開準備

決算短信は、日・米・欧・アジアの拠点への投資が顧客の成長を支え、地政学リスクの軽減へ寄与すると記し、インドで製造拠点用の土地を取得したと載せています。

根拠資料↗

不確実性:土地取得までが公表内容です。 稼働時期と生産品目は公式資料の記載範囲の外です。

07 入口を選ぶ

専攻から、入口を1つに絞る

フォトレジスト、CMPスラリー、洗浄・エッチング液、ポリイミド・PBOのうち専攻と重なる材料を1つ選び、募集要項の6部門から1つに絞ります。

生産

製造

静岡工場、大分工場でフォトレジストや薬液を作る入口です。 募集要項では製造部門として載ります。

  • High Purity
  • Chemical Plant
  • Batch Process
  • Safety
技術

生産技術

生産設備と製造条件を設計し、増産と歩留まりへ向き合う入口です。 募集要項では生産技術部門として載ります。

  • Scale Up
  • Process Design
  • Equipment
  • Yield
品質・分析

品質管理 / 品質保証

不純物、パーティクル、微量金属を測り、顧客の認定と量産品質を保つ入口です。 募集要項では品質管理部門と品質保証部門の2区分です。

  • Analysis
  • Trace Metal
  • Particle
  • Qualification
応募前の3手
  1. 公式製品ページから担当したい材料を1つ選び、露光、平坦化、洗浄、再配線のどの工程で使うかをメモする
  2. 研究・実務の測定値を1つ用意し、不純物濃度、パーティクル数、膜厚均一性、歩留まりのどれと組むかを選ぶ
  3. 募集要項の職種6部門と勤務地3カ所を公式ページからノートへ転記する
公式採用へ↗
面接で使う技術語
  • High Purity
  • Chemical Plant
  • Batch Process
  • Safety
  • Contamination
  • Scale Up
  • Process Design
  • Equipment
  • Yield
  • Utility

材料の性能指標と自分の実験・実務を1組にするための語です。

比較

他社との違いを一言で

フォトレジスト / プロセスケミカル

東京応化工業

フォトレジストと現像液で直接重なります。 FUJIFILM Electronic MaterialsはCMPスラリー、洗浄液、ポリイミド・PBOまで同じ会社で持つ範囲の広さで比べます。

フォトレジスト

JSR

EUV・ArFのリソグラフィ材料で重なります。 事業構成に差があるため、比較は連結全社より半導体材料の事業区分でそろえます。

CMPスラリー / 後工程材料

レゾナック

CMPスラリーと先端パッケージ材料で重なります。 FUJIFILM Electronic Materialsは前工程のレジストと後工程のポリイミドを同じ供給網に載せる点で比べます。

CMPスラリー / 洗浄薬液

Entegris

研磨・洗浄のプロセスケミカルで重なります。 年度、通貨、連結と事業区分をそろえてから比べます。

参照資料一覧へ →

出典

公式情報と第三者資料

会社、IR、採用、報道の種別を分けて掲載しています。 参照日は2026-08-05です。

企業情報へ戻る FUJIFILM Electronic Materialsの会社・求人データへ フォトレジスト、CMPスラリー / ポストCMPクリーナー、洗浄・乾燥およびエッチング液、ポリイミド・PBO材料と製造、生産技術、品質管理 / 品質保証、営業を、当サイトの会社情報・公開求人と比べます。 →
回答待ち 更新中 公開Q&A

このページの質問窓口

AIに疑問を送る

「匿名で送信する」を押して内容を送ると、受付ID付きの回答URLを発行します。URLでは進捗を追うことができ、通常は1日以内に回答します。個人情報を取り除いて編集した質問と回答だけを、承認済み資料の出典リンクとともに公開Q&A一覧へ掲載します。

通常、1日以内に回答します 回答待ち 更新中

  1. 匿名で送る 分かりにくい箇所、指摘、追加してほしい内容を書きます。
  2. 受付IDと回答URLを保存する 送信後に発行されるURLへ、進捗が順次反映されます。
  3. 進捗と回答を追う URLには、受付済み、回答作成中、解決済みの状態と回答が載ります。
公開Q&A一覧へ 5〜4,000文字。氏名・連絡先などの個人情報、秘密情報は入力禁止です。

このフォームは匿名です。氏名・連絡先・応募情報などの個人情報、秘密情報、社外秘情報、契約情報、非公開資料の入力は禁止です。投稿原文は運営用DBに保存し、公開面には、個人情報・秘密情報・危険な命令を除く安全審査と読みやすい文章への編集を経た質問文と回答だけを載せます。状態は「受付済み」「回答作成中」「解決済み」の3段階です。安全審査の結果によっては公開を保留します。サイト側の機械検査を通った内容だけを運営側のAI回答作成環境へ送り、回答案の作成と、それとは独立したAI審査に使います。機械検査には見落としの可能性があり、回答作成と審査の履歴は利用中の環境に保持されます。IPアドレスや端末情報は送信対象外です。回答URLは公開Q&A用で、共有先からも開けます。送信により、この利用条件と審査後のQ&A公開に同意したものとします。