半導体製造ラボ SEMICONDUCTOR DATA LAB

企業研究 検査 / 計測 光応用検査装置

レーザーテック

企業研究 — 露光の前にマスクの欠陥を検出する会社

光応用の検査・計測に絞った装置メーカー。
通期予想売上の75%を半導体関連装置が占めます。

求人DBの会社ID対象外。応募入口は公式採用です。 雇用法人・勤務地国・就労言語・ビザ条件は公式募集要項の比較項目です。

レーザーテックの公式製品情報(半導体)2026年6月期 第3四半期決算短信を同じ表に載せます。 決算期は6月期です。 通期は会社予想の段階なので実績と別欄に分け、公式採用ページの募集要項は参照日を付けて掲載します。

Verified 詳細企業研究 / 出典・主張リンク確認済み ページ確認日 2026-08-05

60秒で判断

候補に残す3つの基準

向いている入口 光学設計 / 精密機構設計

物理、光学、機械、精密工学の専攻または実務がある人。

先に比べるリスク 2026年6月期の通期数値は会社予想です。 通期実績は2026年8月5日時点で開示前のため、第3四半期累計の実績と別の欄で比べてください。

強み・リスクの公式根拠

根拠と確認日出典一覧(13件)

公式 6件 / IR 5件 / 採用 2件。出典参照日 2026-08-05 / ページ確認日 2026-08-05

2026年6月期 3Q累計 売上高 1,695 億円 2025年7月〜2026年3月の9か月累計。 前年同期比0.4%増
2026年6月期 3Q累計 営業利益 782 億円 前年同期比1.4%減。 営業利益率46.1%は公表値からの計算
2026年6月期 通期 会社予想 2,200 億円 営業利益1,000億円、営業利益率45.5%。 通期実績は2026年8月5日時点で開示前
2026年6月期 通期会社予想の品目別売上高 半導体関連装置 / サービス / その他 / 決算説明会資料
  • 半導体関連装置 1,650億円
  • サービス 515億円
  • その他 35億円

01 立ち位置

何の会社として比べるか

レーザーテックは、露光でパターンを転写する前後に、フォトマスクとウェハの欠陥を光で検出する装置メーカーです。 決算期は6月期のため、直近の実績は2026年6月期第3四半期累計(2025年7月〜2026年3月)で、通期は会社予想の段階です。

実績と会社予想

2025年6月期の実績、2026年6月期の予想、3Q累計の実績を分けて比べる

業績ハイライト(連結)↗
連結売上高億円 / 業績ハイライトと決算短信
2025年6月期 通期実績2,514億77百万円
2026年6月期 通期会社予想2,200億円
2026年6月期 3Q累計実績1,695億39百万円

通期の値は会社予想です。 9か月累計の実績と通期予想は集計期間が別です。

連結営業利益億円 / 業績ハイライトと決算短信
2025年6月期 通期実績1,228億43百万円
2026年6月期 通期会社予想1,000億円
2026年6月期 3Q累計実績781億91百万円

3Q累計の営業利益率46.1%は公表値からの計算です。

2026年6月期 第3四半期累計

どの国の顧客へ売っているか

決算短信の収益認識関係↗
地域別売上高2025年7月〜2026年3月 / 顧客の所在地基準
韓国491億85百万円
米国445億62百万円
台湾314億1百万円
日本202億95百万円
その他アジア184億63百万円
欧州56億30百万円

各金額は表示単位未満を切り捨てた値のため、内訳の合計と総額に差が生じます。

国内と海外2025年7月〜2026年3月 / 億円
海外(日本以外)1,492億44百万円
日本202億95百万円

海外の金額と比率は、総額1,695億39百万円から日本向けを差し引いた計算値です。

検査装置

EUVマスク関連の欠陥検査装置

アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置ACTISシリーズ、EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置ABICSシリーズ、EUVペリクル異物検査装置PELMISシリーズ、EUVマスク裏面検査/クリーニング装置BASICシリーズを公式製品ページに掲載しています。 ACTISは露光と同じ波長13.5nmのEUV光でパターンマスクの欠陥を検出します。

  • ACTIS A300シリーズ
  • ACTIS A200HiTシリーズ
  • ACTIS A150
  • ABICSシリーズ E320
公式製品情報↗
検査・計測装置

DUVマスク関連の検査・計測装置

ArF世代のフォトマスク向けに、マスク欠陥検査装置MATRICSシリーズ、マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置MAGICSシリーズ、位相差/透過率測定装置MPM193シリーズを掲載しています。 MATRICS X712シリーズは2026年3月に新製品として公式製品ページへ加わりました。

  • MATRICS X810EXシリーズ
  • MATRICS X800LITEシリーズ
  • MATRICS X712シリーズ
  • MAGICSシリーズ M6750/M6751
公式製品情報↗
検査・計測装置

ウェハ関連の検査・計測装置

SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置SICA108とSICA88、GaNウェハ欠陥検査/レビュー装置GALOIS211、高感度内部欠陥検査/レビュー装置CIRIUSシリーズ、多波長ウェハ検査装置LXシリーズ、高感度ウェハエッジ検査装置CIELシリーズ、TSV裏面研磨プロセス測定装置BGMシリーズを掲載しています。

  • SICA108
  • GALOIS211
  • CIRIUSシリーズ
  • LXシリーズ
公式製品情報↗
検査装置・顕微鏡

FPD関連装置とレーザー顕微鏡

FPDフォトマスク向けの検査装置CLIOSシリーズとLBISシリーズ、ハイブリッドレーザーマイクロスコープOPTELICSシリーズを製品一覧に掲載しています。 半導体以外の産業でも研究開発と品質管理に使われる区分です。

  • CLIOS G10シリーズ
  • CLIOS G834Advance
  • LBISシリーズ L852/L1052
  • OPTELICS HYBRID+
公式製品情報↗

02 収益

どこで、どれくらい儲けているか

2026年6月期通期の会社予想は売上高2,200億円、営業利益1,000億円、営業利益率45.5%です。 前年度の2025年6月期は売上高2,514億77百万円、営業利益1,228億43百万円で、創業以来はじめて売上高が2,500億円を超えました。

2026年6月期 3Q累計 連結売上高

1,695億39百万円

2025年7月1日〜2026年3月31日の9か月累計で前年同期比0.4%増。 品目別は半導体関連装置1,246億64百万円、サービス420億63百万円、その他28億11百万円です。

2026年6月期 第3四半期決算短信(2026年4月30日)

2026年6月期 3Q累計 連結営業利益

781億91百万円

前年同期比1.4%減。 経常利益804億49百万円、四半期純利益568億23百万円、自己資本比率72.5%です。 営業利益率46.1%は公表値からの計算です。

2026年6月期 第3四半期決算短信(2026年4月30日)

2025年6月期 通期実績(連結)

売上高2,514億77百万円 / 営業利益1,228億43百万円

前年度の2,135億6百万円から17.8%増(公表値からの計算)。 当期純利益846億52百万円、1株当たり当期純利益938円61銭です。

業績ハイライト(連結)

2026年6月期 通期の会社予想

売上高2,200億円 / 営業利益1,000億円

前年度比で売上高12.5%減、営業利益18.6%減。 品目別は半導体関連装置1,650億円、サービス515億円、その他35億円で、第4四半期の想定為替レートは155円/米ドルです。

2026年6月期 第3四半期 決算説明会資料(2026年4月30日)

2026年6月期 通期会社予想の品目別売上高億円 / 決算説明会資料
半導体関連装置1,650億円
前年度実績2,029億65百万円から18.7%減の予想
サービス515億円
前年度実績429億59百万円から19.9%増の予想
その他35億円
前年度実績55億52百万円から37.0%減の予想

3本とも会社予想です。 実績と別の欄で比べてください。

連結売上高の推移実績3年と会社予想1年 / 決算期は6月期
1,528億円2023年6月期 実績
2,135億円2024年6月期 実績
2,514億円2025年6月期 実績
2,200億円2026年6月期 会社予想

右端だけが会社予想です。 2026年6月期の通期実績は2026年8月5日時点で開示前です。

03 強みとリスク・検討点

強みと、リスク・検討点

EUVマスク検査へ絞った高い利益率と、装置1台の単価が高く検収時期で四半期が振れる点が、同じ決算に載ります。

強み

EUVマスクブランクス欠陥検査での位置

公式の事業内容ページは、EUVマスクブランクス欠陥検査装置が業界標準の検査装置として採用され、マスク欠陥検査装置も最先端のリソグラフィで高いシェアを獲得していると記載しています。 数値としてのシェア率は公式ページの記載範囲の外です。

事業内容・コア技術 ↗
検査・計測に絞った利益率

2025年6月期の営業利益率は48.8%、2026年6月期通期の会社予想は45.5%です。 どちらも決算説明会資料に載る数値です。

2026年6月期 第3四半期 決算説明会資料(2026年4月30日) ↗
ファブライト戦略と開発人員の比率

生産を外部委託して開発に特化する「ファブライト戦略」を公式に掲げ、約7割の社員がエンジニア、売上の5%〜10%が研究開発費と記載しています。

経営戦略・中期経営計画 ↗
装置が減る局面で伸びたサービス売上

2026年6月期第3四半期累計のサービス売上は420億63百万円で前年同期比35.5%増。 同じ期間の半導体関連装置は1,246億64百万円で6.7%減でした。

2026年6月期 第3四半期決算短信(2026年4月30日) ↗
顧客からの供給者表彰

2026年3月25日にIntel社の「2026 EPIC Supplier Award」を6年連続6回目で受賞し、数千社のサプライヤーのうち41社のみが対象と決算説明会資料に載ります。 2026年3月13日にはAGC社の「Supplier Award 社長賞」も受賞しました。

2026年6月期 第3四半期 決算説明会資料(2026年4月30日) ↗

リスク・検討点

2026年6月期は減収減益の会社予想

通期会社予想は売上高2,200億円(前年度比12.5%減)、営業利益1,000億円(同18.6%減)。 品目別では半導体関連装置が1,650億円で18.7%減の予想です。

2026年6月期 第3四半期 決算説明会資料(2026年4月30日) ↗
検収時期による四半期の振れ

2026年1〜3月の四半期単独では売上高412億80百万円、営業利益152億円、営業利益率36.8%で、前四半期比44.3%減でした。 四半期単独の数値と通期の数値は別の欄で比べてください。

2026年6月期 第3四半期 決算説明会資料(2026年4月30日) ↗
公式が挙げる事業リスク

公式ページは、半導体市場の変動、研究開発、重要な人材の確保、検収売上時期の変動、特殊な部品・材料の仕入、為替変動を主要リスクに挙げています。 記載時点は有価証券報告書提出日(令和4年9月29日)現在です。

事業等のリスクに関して ↗
海外売上比率の高さと為替

2026年6月期第3四半期累計の日本向け売上は202億95百万円で、全体1,695億39百万円の12.0%です。 残る88.0%は韓国491億85百万円、米国445億62百万円、台湾314億1百万円などの海外向けで、比率は公表値からの計算です。

2026年6月期 第3四半期決算短信(2026年4月30日) ↗
中期経営計画の数値目標は記載範囲の外

2025年6月期から2030年6月期までの6カ年の中期経営計画は方針を掲げます。 売上高、利益率、ROEなどの数値目標は公式ページの記載範囲の外です。

経営戦略・中期経営計画 ↗
待遇の公表範囲

昇給率、賞与月数、年間休日日数、職種別・年代別の年収は公式採用ページの記載範囲の外です。 公式値は初任給、勤務時間、休日区分、福利厚生と教育制度の区分です。

新卒採用 募集要項 ↗

04 待遇

給与、初任給、休日、手当

公式の募集要項に載るのは初任給、勤務時間、休日区分、福利厚生、教育制度、選考の流れです。 昇給率と賞与月数は記載範囲の外で、平均年収と社員数は採用サイトの別ページに2025年6月現在として載ります。

新卒初任給(月給)円 / 2027年3月卒業・修了見込み向け 募集要項
博士了330,000円
修士了305,000円
大学卒275,000円

掲載時点の募集要項の値です。 応募年度の募集要項から最新の値を取得してください。

応募前の一次情報
新卒の初任給
博士了330,000円、修士了305,000円、大学卒275,000円(予定)の月給です。 基準は応募年度の公式募集要項です。
勤務時間
8:30〜17:15(標準労働時間1日7時間45分)で、コアタイム11:00〜14:00のフレックスタイム制です。
休日休暇
完全週休2日制(土・日)、祝日、年末年始休暇、年次有給休暇、時間単位有給休暇、特別休暇(慶弔)が掲載されています。 年間休日日数は募集要項の記載範囲の外です。
福利厚生・教育制度
各種社会保険完備、従業員持株会、退職金制度、カフェテリアプラン制度、30歳未満を対象とする家賃補助制度、育児・介護休業制度。 教育は約1か月の導入研修、階層別研修、自己啓発費用補助制度などです。
採用サイトが掲載する会社数値
2025年6月現在として、社員の平均年収 約1,680万円、社員数1,163名、海外売上比率80%以上、2025年6月期の年間売上高 約2,515億円が採用サイト「Lasertec の実力」に掲載されています。 連結と単体の区分は同ページの記載範囲の外です。
公表対象の外の項目
昇給率、賞与月数、年間休日日数、職種別・年代別の年収は公式採用ページの記載範囲の外です。
新卒採用 募集要項↗
実際の募集を探す公式採用:レーザーテックの最新募集応募先と募集条件の基準は、応募日の公式募集要項です。

05 勤務地と職種

どこで、どんな仕事をするか

勤務地は新横浜本社とレーザーテックイノベーションパークの2か所で、募集要項は転勤なしと記載します。 海外は米国、韓国、台湾、中国、シンガポールに現地法人があります。

主な勤務地・拠点
本社
神奈川県横浜市港北区新横浜2-10-1/ 研究開発センター兼本社
レーザーテックイノベーションパーク
神奈川県横浜市港北区鳥山町555番地/ 新卒募集要項の勤務地
国内営業
第1ソリューションセールス部(マスク関連・FPD関連)、第2ソリューションセールス部(ウェハ関連・化合物半導体・レーザー顕微鏡)
海外現地法人
Lasertec USA(Santa Clara)、Lasertec Korea(華城)、Lasertec Taiwan(新竹)、Lasertec China(上海)、Lasertec Singapore/ 米国法人はDresden、Kildare、Kiryat Gatにも支店
公式採用の勤務地欄↗
募集要項に載る業務
  • 電気・電子回路の設計
  • 精密機構の設計
  • 光学設計
  • システム設計
  • ソフトウェア開発
  • フィールドサービス
  • 技術営業
  • 顧客ニーズの収集と市場分析
  • 販売戦略の立案

前半7項目が技術開発職、後半2項目が技術営業職の記載です。 応募対象は理工系の大学・大学院を卒業(修了)見込みの方と公式FAQに載ります。

選考の流れ
  1. エントリー後、会社説明会の案内を受ける
  2. エントリーシートと研究内容のレジュメを提出し、適性検査を受ける
  3. 書類選考の通過後、1次面接と役員による最終面接を受ける
公式採用へ↗

公開求人: 現在の公開求人 0件

公式採用情報↗

公式採用の募集職種 ↗

06 これから

会社が次に取りにいくもの

会社が2026年4月30日に示した見通しは、半導体関連装置の受注がCY2026から回復し、CY2027以降はACTIS A200HiTの導入でさらに拡大するというものです。 中期経営計画は2025年6月期から2030年6月期の6カ年で、数値目標は公式ページの記載範囲の外です。

これからの材料
受注の見通し
AI関連需要でロジック・メモリーともに投資計画が積極化し、半導体関連装置を中心にCY2026から受注が回復、CY2027以降はACTIS A200HiTの導入でさらに拡大する見込みと2026年6月期 第3四半期 決算説明会資料に載ります。 受注高そのものは決算短信の開示項目の外です。
新製品と表彰
2026年3月31日にマスク欠陥検査装置MATRICS X712シリーズを発表し、90nm以上の幅広いデザインノードへの対応と、各検査モードで最短22分/マスクの検査時間を掲げています。 2026年3月25日にはIntel社の「2026 EPIC Supplier Award」を6年連続6回目で受賞しました。
中期経営計画
2025年6月期から2030年6月期までの6カ年が対象で、方針は開発スピード、技術力、顧客との信頼関係の構築による売上最大化です。 売上高や利益率の数値目標は公式ページの記載範囲の外です。
公式情報からの見立て

受注はCY2026から回復の見通し

決算説明会資料は、AI関連需要でロジック・メモリーともにデバイスメーカーの投資計画が積極化し、半導体関連装置を中心にCY2026から受注が回復、CY2027以降はACTIS A200HiTの導入が進んでさらに拡大する見込みと記載しています。

根拠資料↗

不確実性:2026年4月30日時点で会社が示した見通しです。 受注高そのものは決算短信の開示項目の外です。

公式情報からの見立て

EUVリソグラフィの導入拡大

公式ページは、波長13.5nmのEUVリソグラフィが5GやAI向けの最先端半導体の製造に不可欠で、製造プロセスへの導入がますます拡大すると見込まれると記載し、EUV関連で6製品をラインアップしています。

根拠資料↗

不確実性:導入の時期と規模は顧客の設備投資計画に左右されます。 顧客ごとの採用状況は公式ページの記載範囲の外です。

公式情報からの見立て

サービスの構成比が上がる予想

2026年6月期通期の会社予想では、半導体関連装置が1,650億円で前年度比18.7%減、サービスが515億円で19.9%増です。 売上構成は半導体関連装置75.0%、サービス23.4%、その他1.6%で、構成比は公表値からの計算です。

根拠資料↗

不確実性:会社予想の値です。 2026年6月期の通期実績は2026年8月5日時点で開示前です。

公式情報からの見立て

毎年1つの新製品という開発方針

公式の経営方針は「毎年一つの新製品を開発しよう、それも世界ではじめてのものを」を創業以来の開発スピリットとして掲げ、2025年6月期から2030年6月期の6カ年の中期経営計画も開発スピードと技術力による売上最大化を方針にしています。

根拠資料↗

不確実性:中期経営計画の売上高や利益率の数値目標は公式ページの記載範囲の外です。

07 入口を選ぶ

専攻から、入口を1つに絞る

EUVマスク、DUVマスク、ウェハ、FPD・レーザー顕微鏡のうち自分の専攻と重なる製品を1つ選び、技術開発職と技術営業職のどちらで応募するかを絞ります。

技術開発職

光学設計 / 精密機構設計

共焦点光学系、DUV/EUV光学系、光干渉計という3つのコア技術を、装置の光学系と精密機構へ落とし込む入口です。

  • Optics
  • EUV
  • Confocal
  • Interferometry
技術開発職

電気・電子回路設計 / システム設計

検出器、駆動系、装置全体のシステム構成を設計する入口です。

  • Electronics
  • System Design
  • Sensor
  • Control
制御・情報

ソフトウェア開発 / 欠陥検出アルゴリズム

装置制御ソフトと、取得した像から欠陥を検出するアルゴリズムを担う入口です。

  • Image Analysis
  • Defect Detection
  • Embedded
  • Algorithm
応募前の3手
  1. ACTIS / ABICS / MATRICS / SICA から担当したい製品を1つ選び、その検査対象と検出したい欠陥をノートへ書く
  2. 研究・実務の測定値を1つ用意し、分解能、検出感度、検査時間のどれと結ぶか1行にまとめる
  3. 募集要項の職種区分、勤務地、選考の流れを公式ページからノートへ転記する
公式採用へ↗
面接で使う技術語
  • Optics
  • EUV
  • Confocal
  • Interferometry
  • Precision Mechanics
  • Electronics
  • System Design
  • Sensor
  • Control
  • Metrology

検査装置の性能指標と自分の実務経験を結ぶための語です。

比較

他社との違いを一言で

マスク検査 / ウェーハ検査

KLA

検査・計測装置の海外大手で、マスク検査とウェーハ検査の双方で重なります。 レーザーテックはEUVマスクブランクスとアクティニックEUVパターンマスクの欠陥検査に集中します。

EUV工程での役割

ASML

ASMLはEUV露光装置そのものを作る会社で、レーザーテックは露光に使うマスクとマスクブランクスの欠陥を検出する側です。 同じEUVでも工程上の役割は別です。

検査の方式

アドバンテスト

アドバンテストは出荷前の電気的テストと測長SEM・欠陥レビューSEMが主軸です。 レーザーテックは光応用の検査・計測で、担当する工程は別です。

装置メーカーの収益構造

SCREENホールディングス

SCREENは洗浄・塗布現像などの処理装置を主軸とし、レーザーテックは検査・計測に集中します。 SCREENは3月期、レーザーテックは6月期のため、年度をそろえて比べてください。

参照資料一覧へ →

出典

公式情報と第三者資料

会社、IR、採用、報道の種別を分けて掲載しています。 参照日は2026-08-05です。

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