企業研究 中国装置 / 前工程総合 エッチ、成膜、熱処理、洗浄、注入、塗布現像、電子部品
北方華創 （NAURA）
企業研究 — 前工程の広さを売上・R&D・利益率で比較
2025年売上は30.85%増。
R&D投入72.77億元と粗利率40.10%を併記します。
求人DBの会社ID対象外。応募入口は公式採用です。 雇用法人・勤務地国・就労言語・ビザ条件は公式募集要項の比較項目です。
NAURAの半導体装置ポートフォリオと2025年年次報告を同じ表で比較します。 全社連結には半導体装置以外の真空装置・電子部品が含まれるため、電子工芸装置の売上を別欄へ切り分けます。
Verified 詳細企業研究 / 出典・主張リンク確認済み ページ確認日 2026-08-10
60秒で判断
候補に残す3つの基準
プラズマ、薄膜、表面反応、熱伝導、真空ガスを学んだ人。
公式 4件 / IR 4件 / 採用 1件 / 第三者 1件。出典参照日 2026-08-03〜2026-08-10 / ページ確認日 2026-08-10
- 電子工芸装置 367.31億元
- 電子部品 25.79億元
- その他 0.43億元
01 立ち位置
何の会社として比べるか
Etch、PVD、CVD、Wet、Furnace、Implant、RTP、EPIを横断し、KINGSEMI取得でtrack・bondも加わりました。 全社と装置事業を分けます。
電子工芸装置が367.31億元
3区分の合計が連結売上393.53億元です。
プラズマエッチ
ICP、CCP、高選択比、プラズマ去胶、Bevel、IBEを材料と形状別に使い分け、ロジック、メモリ、化合物、MEMS、先端封装を加工します。
- ICP etcher
- CCP etcher
- High-selectivity etcher
- Bevel etcher
薄膜形成
物理・化学気相成長、原子層成長、エピタキシーを材料、温度、膜質、段差被覆の要求ごとに展開します。
- Polaris PVD
- CVD systems
- ALD systems
- EPI systems
熱・湿式・注入
縦型炉とRTPで熱履歴を制御し、湿式洗浄で表面を整え、イオン注入でドーパント濃度と深さを作ります。
- Vertical Furnace
- RTP
- Wet equipment
- Ion implantation equipment
塗布現像・接合
2025年の支配取得でKINGSEMIを連結し、前道塗布現像、枚葉洗浄、先端封装の仮接合・剥離を製品範囲へ加えました。
- Coater / developer
- Single-wafer clean
- Temporary bonder / debonder
02 収益
どこで、どれくらい儲けているか
売上は拡大しましたが、FY2025年次報告は、R&D投入、人員増と株式報酬、新製品部品の改版・検証費用を利益低下要因に挙げています。 調整後3期数値を使います。
売上393.53億元 / 帰属純利益55.22億元
売上は調整後前年比30.85%増、帰属純利益は1.77%減。 粗利率は40.10%です。
投入72.77億元 / 費用54.35億元
R&D投入は前年比34.74%増、売上比18.49%。 投入の34.50%を資産計上しています。
営業CF 21.33億元
前年比37.48%増。 投資CFは39.29億元のマイナス、財務CFは66.07億元のプラスです。
R&D投入には資産計上分が含まれます。
年次報告の同一支配下企業結合後の調整値です。
03 強みとリスク・検討点
強みと、リスク・検討点
前工程の広い製品群、367.31億元の電子工芸装置売上、6,511人のR&D人員が強みです。 利益率、資産計上、買収統合を併記します。
強み
公式製品群はEtch、PVD、CVD、Wet、Vertical Furnace、Implant、RTP、EPIを同じ顧客基盤へ提供します。
NAURA 半導体装置ポートフォリオ ↗リスク・検討点
R&D投入72.77億元の34.50%を資産計上し、費用計上は54.35億元です。 投入総額と当期費用を個別列にします。
NAURA 2025年年次報告（2026-04-18） ↗04 待遇
給与、初任給、休日、手当
公式採用ページは四つの職業系列、報酬構成、福利厚生、成長制度を掲載します。 金額は個別募集票を一次情報にします。
- 職業系列
- 技術、専門、営業、管理の四系列を公式採用ページに掲載しています。NAURA採用
- 技術職
- 機械、電気、ソフト、プロセス、RF、標準化、品質、製造技術を掲載します。
- 報酬構成
- 基本給、業績賞与、年末賞与、株式報酬を構成要素として掲載し、金額は個別募集票を一次情報にします。
- 成長制度
- 技術・管理の発展経路、博士研究員拠点、技能・校企・研究開発の育成基盤を掲載します。
05 勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
北京の本社・研究製造基盤と、中国各地の子会社・事務所・20超のサービスセンターへ、開発、製造、顧客対応が配置されます。
- 北京
- 本社は北京経済技術開発区文昌大道8号。 装置開発・製造の主要地域です。
- 中国の研究・製造基盤
- 公式会社概要は6つの研究産業基地、90万平方メートルの研究生産面積を掲載します。
- 中国各地
- 上海、広東、江蘇、浙江、湖北、湖南、安徽、福建、四川、重慶、西安、天津などに子会社・事務所があります。
- 顧客拠点
- 公式会社概要は20超のサービスセンターを掲載します。
- Etch
- PVD
- CVD
- ALD
- Furnace
- Wet
- Ion implant
- RF
- Mechanical
- Software
- Field Service
装置カテゴリ、職能、勤務地を組み合わせます。
06 これから
会社が次に取りにいくもの
既存装置の累計納入、新製品の顧客検証、KINGSEMI統合を追い、製品発表から再注文・粗利率まで段階を分けます。
- 新製品
- 注入、電鍍、混合接合を、顧客検証、再注文、売上の順で追います。2025年年次報告
- 連結統合
- KINGSEMIのtrack・wetと既存装置の共同提案、調達、保守、利益率を個別列で追跡します。
エッチ・PVD・縦型炉の量産台数を増やす
年次報告はエッチに続きPVDと縦型炉の累計納入がそれぞれ1,000台を超えたと記載します。
根拠資料↗不確実性:対象年度、顧客構成、装置別売上と利益は開示範囲が異なります。
注入・電鍍・混合接合を新しい収益源にする
FY2025に注入、電鍍、混合接合などの新製品を顧客へ投入しました。
根拠資料↗不確実性:後続開示の検証完了、再注文、量産台数、粗利率を時系列化します。
KINGSEMIのtrack・wetを工程提案へ統合する
NAURAのエッチ・成膜・熱・注入へ、KINGSEMIの塗布現像・洗浄・接合を加えます。
根拠資料↗不確実性:製品責任、共同調達、保守網、顧客認定と統合費用が効果を決めます。
07 入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
工程、装置の制御変数、測定指標を一組にして、公式採用の技術系列へ対応させます。
プラズマ / 薄膜・熱プロセス
Etch、PVD、CVD、ALD、炉、RTPのチャンバー条件を作る仕事です。
- Etch
- PVD
- CVD
- ALD
機械 / 電気・ソフト・RF
真空チャンバー、電源、ガス供給、搬送を装置ソフトで動かす仕事です。
- Mechanical
- Electrical
- RF
- Control
品質 / 供給・顧客サービス
部品品質、装置EHS、顧客Fabでの立上げ、検収、保守を担う仕事です。
- Quality
- Supplier
- EHS
- Field Service
- Etch / PVD / CVD / furnace / wet / implantから装置を一つ選ぶ
- RF、圧力、流量、温度、高電圧、搬送の担当変数を書く
- 形状、膜厚、均一性、欠陥、throughputの改善値を添える
- Etch
- PVD
- CVD
- ALD
- Thermal
- Mechanical
- Electrical
- RF
- Control
- Software
装置名、制御変数、測定結果を一行にまとめます。
比較
他社との違いを一言で
Applied Materials
製品範囲が最も広く重なります。 NAURAは中国での装置売上、R&D、顧客検証を比較軸にします。
Lam Research
エッチ、成膜、洗浄で重なります。 対象構造、材料、選択比、量産台数を装置カテゴリ別に比較します。
Tokyo Electron
複数の前工程で競合します。 KINGSEMI連結後は塗布現像も比較範囲に入ります。
AMEC
中国顧客のエッチ・成膜で競合します。 NAURAは炉、湿式、注入、電子部品まで連結範囲が広い点が異なります。
出典
公式情報と第三者資料
企業の公式会社・製品・IR・採用情報と、METI p.5掲載の2023年丸め値を種別表示。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験／検査装置市場年鑑2024」を基にMETIが作成。 参照日は2026-08-03です。
- 公式 NAURA 会社概要・拠点 参照日 2026-08-10
- 公式 NAURA 半導体装置ポートフォリオ 参照日 2026-08-10
- 公式 NAURA Polaris PVD 公式ページ 参照日 2026-08-10
- 採用 NAURA 採用・人材育成 参照日 2026-08-10
- 公式 NAURA 投資家向け入口 参照日 2026-08-10
- IR NAURA 2025年年次報告（2026-04-18） NAURA Technology Group Co.、Ltd. 2025 Annual Report / FY2025 / 公表 2026-04-18 / 北方华创科技集团股份有限公司および子会社の連結 / PDF pp. 10–11, 18–36（3期業績、装置製品、売上構成、研究開発・cash flow） / zh-CN 参照日 2026-08-10
- IR NAURA 2024年年次報告（2025-04-26） NAURA Technology Group Co.、Ltd. 2024 Annual Report / FY2024 / 公表 2025-04-26 / 北方华创科技集团股份有限公司および子会社の連結 / PDF「主要会計データ」「管理層討論と分析」 / zh-CN 参照日 2026-08-10
- IR NAURA 2023年年次報告（2024-04-30） NAURA Technology Group Co.、Ltd. 2023 Annual Report / FY2023 / 公表 2024-04-30 / 北方华创科技集团股份有限公司および子会社の連結 / PDF「主要会計データ」「管理層討論と分析」 / zh-CN 参照日 2026-08-10
- IR NAURA 2026年第1四半期報告（2026-04-30） NAURA Technology Group Co.、Ltd. 2026 First Quarter Report / Q1 FY2026 / 公表 2026-04-30 / 北方华创科技集团股份有限公司および子会社の連結・未監査 / PDF pp. 1–2, 6（主要指標、変動理由、連結損益計算書） / zh-CN 参照日 2026-08-10
- 第三者 経済産業省「半導体・デジタル産業戦略の現状と今後」 p.5（2023年値） 参照日 2026-08-03