半導体製造ラボ SEMICONDUCTOR DATA LAB

企業研究 薄膜形成 / ハイブリッドボンディング 半導体成膜・三次元集積装置メーカー

Piotech

企業研究 — PECVDを軸に、原子層堆積と3D IC接合へ広げる会社

FY2025売上高は65.19億元。
PECVD売上は51.42億元で、研究開発投入は8.59億元です。

求人DBの会社ID対象外。応募入口は公式採用です。 雇用法人・勤務地国・就労言語・ビザ条件は公式募集要項の比較項目です。

Piotechの公式会社・製品ページと、688072が提出したFY2025年次報告書を合わせ、薄膜形成と三次元集積を製品・売上・職種へ結びます。

Verified 詳細企業研究 / 出典・主張リンク確認済み ページ確認日 2026-08-10

60秒で判断

候補に残す3つの基準

向いている入口 薄膜プロセス開発

材料、化学、物理、微電子、真空プロセスを学んだ人。

根拠と確認日出典一覧(9件)

公式 4件 / IR 4件 / 採用 1件。出典参照日 2026-08-10 / ページ確認日 2026-08-10

売上高成長率 +58.87 % FY2025 / 前年比
営業CF 36.33 億元 前年は2.83億元の流出
主力事業粗利率 34.01 % 前年比6.90ポイント低下
FY2025 研究開発投入の会計区分 合計8.59億元 / FY2025の資産化0.90億元を含む / 年次報告書
  • 費用化 7.70億元
  • 資産化 0.90億元

01 立ち位置

何の会社として比べるか

薄膜形成が現在の収益軸で、3D IC接合は次の製品棚です。 PECVDの売上実績と、ALD・接合装置の検証・受注段階を分けて比べます。

FY2025 連結実績

成長率・粗利・現金回収を比べる

FY2025年次報告書↗
主要な財務数値億元 / FY2025
売上高65.19億元
営業活動CF36.33億元
親会社株主帰属純利益9.27億元
研究開発投入8.59億元

棒は売上高を100とした相対長さです。

主力製品

PECVDの売上が全社成長を引っ張る

PECVD売上億元 / FY2025
PECVD系列51.42億元
研究開発投入8.59億元

異なる指標を同じ金額単位で見せています。 PECVD以外の売上は推計配分の対象外です。

PECVD / ALD / SACVD / HDPCVD / Flowable CVD

薄膜形成

PECVDを主力に、原子層堆積と複数のギャップフィル方式をロジック・メモリの成膜工程へ投入します。

  • PF-300T / PF-300M
  • TS-300 Altair
  • PF-300T SA
  • TS-300S Hesper
公式製品情報↗
W2W / D2Wハイブリッドボンディングと計測・検査

三次元集積

晶円対晶円とチップ対晶円の接合、表面工程、位置合わせ、関連計測を3D ICへつなぎます。

  • Pleione 300
  • W2W Hybrid Bonding
  • D2W Hybrid Bonding
  • 関連計測・検査装置
公式製品情報↗
装置立ち上げ・プロセス支援

顧客技術サービス

公式会社案内は複数地域の生産線と技術サービスセンターを挙げ、週7日・24時間の技術支援を記載しています。

  • 装置据付
  • レシピ開発
  • 量産支援
  • 保守
公式製品情報↗

02 収益

どこで、どれくらい儲けているか

FY2025は売上と利益が伸び、営業キャッシュフローも大幅な流入へ転じました。 一方、主力事業粗利率は34.01%へ低下しています。

FY2025売上高

65.19億元

前年比58.87%増

FY2025年次報告書

親会社株主帰属純利益

9.27億元

前年比34.67%増

FY2025年次報告書

研究開発投入

8.59億元

売上高比13.18%

FY2025年次報告書

営業活動CF

36.33億元

前年は2.83億元の流出

FY2025年次報告書

連結売上高の3年推移億元 / 688072年次報告書
27.05億元FY2023
41.03億元FY2024
65.19億元FY2025

人民元建ての連結通期実績です。

03 強みとリスク・検討点

強みと、リスク・検討点

PECVDの量産売上、複数の成膜方式、3D IC接合への製品拡張が一続きで表れます。 工程ごとに必要な物理量が異なるため、職種比較にも使いやすい構成です。

強み

PECVDが明確な売上軸

FY2025のPECVD系列売上は51.42億元、前年比75.27%増です。

FY2025年次報告書 ↗
成膜方式の製品幅

公式資料はPECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVDを並べ、膜種とギャップ形状に応じた装置棚を示します。

FY2025年次報告書 ↗
3D IC接合へ製品を拡張

Pleione 300はD2Wハイブリッドボンディング装置で、8・12インチ、複数チップ寸法、百nm級の接合後overlayを公式仕様に掲げます。

Pleione 300 D2Wハイブリッドボンディング ↗

リスク・検討点

粗利率の低下

FY2025の主力事業粗利率は34.01%で、前年から6.90ポイント低下しました。 売上成長だけでなく製品・導入構成を照会します。

FY2025年次報告書 ↗
中国大陸売上への集中

FY2025の主力事業売上は中国大陸から生じ、販売は直販です。 地域・顧客構成の集中を面談資料で追加照会します。

FY2025年次報告書 ↗
新製品の認定時間

先端工程と3D IC装置には、開発、出荷、顧客検証、量産導入という段階差があります。 公式沿革の「出荷」「受注」を量産売上と同一視は対象外です。

Piotech 公式沿革 ↗

04 待遇

給与、初任給、休日、手当

公式採用ページは勤務地と職務を具体的に掲載しますが、給与は面議表記が中心です。 全社共通の初任給、賞与月数、平均年収は推計対象外です。

応募前の一次情報
給与
公開求人の多くは「薪資面議」です。 応募職種ごとに提示条件を照会します。公式採用ページが一次情報です。
勤務地
瀋陽、上海、海寧、合肥、青島などが求人フィルターに並びます。 配属法人と勤務地を同時に照会します。
勤務時間・休日
共通の所定時間、年間休日日数、交替勤務の有無は公開画面の照会範囲外です。
賞与・昇給
回数、月数、昇給幅は職種横断の公式値として未開示です。
出張・顧客対応
工艺・機械・電気・ソフト求人は顧客問題への技術支援を職務に含みます。 出張頻度は面談で照会します。
Piotech 人材採用↗
実際の募集を探す公式採用:Piotechの募集職種応募先と募集条件の基準は、応募日の公式募集要項です。

05 勤務地と職種

どこで、どんな仕事をするか

本社と主要製造は瀋陽です。 上海第2工場は2025年6月に稼働し、海寧では3D IC関連事業を展開します。 公式求人は複数都市を勤務地として示します。

主な勤務地・拠点
瀋陽
本社・高等級クリーン工場/ 公式会社案内は建物面積4万平方メートルを記載
上海
研究開発・生産拠点/ 第2工場は2025年6月稼働
浙江省・海寧
三次元集積関連の拠点/ 配属法人は求人票で照会
合肥・武漢・北京・青島
顧客支援・研究開発などの求人勤務地/ 募集時点で変動
公式採用の勤務地欄↗
公式求人に出る技術語
  • CVD工艺
  • 真空・ガス
  • 機械設計
  • 電気制御
  • Wafer scheduling
  • データ基盤
  • Hybrid Bonding
  • 顧客技術支援

2026-08-10に公式採用ページの公開職務を照会しました。

応募前の照会
  1. 薄膜形成か3D IC接合か、担当工程を1つに絞る
  2. 瀋陽・上海・海寧ほかの勤務地と配属法人を求人票で確定する
  3. 面議の給与・勤務時間・顧客出張条件を選考で照会する
公式採用へ↗

公開求人: 求人DBの公開職種へ

公式採用情報↗

公式採用の募集職種 ↗

06 これから

会社が次に取りにいくもの

次の焦点は先端PECVDの量産拡大、D2W・W2W接合の受注から売上への移行、生産拠点の増強です。

これからの材料
先端PECVD
Stack、ACHM、Biancaなどが顧客検証を通過し規模量産へ入り、FY2025のPECVD売上を押し上げました。FY2025年次報告書で売上と製品進捗を照会します。
D2W接合
Pleione 300はHBM・Chiplet向けの高精度接合を目的とする装置です。 公式仕様と量産採用実績を別欄で追います。Pleione 300に公開仕様があります。
生産能力
上海第2工場の稼働と瀋陽第2工場の建設が、今後の装置供給能力に関わります。 具体的な増産寄与は実績開示で照会します。
公式情報からの見立て

先端PECVDの量産拡大

新型プラットフォームと反応腔を使うPECVD Stack、ACHM、Biancaが顧客検証を経て規模量産へ入り、FY2025売上を押し上げたと報告されています。

根拠資料↗

不確実性:顧客別・機種別の売上は非開示です。

公式情報からの見立て

D2Wハイブリッドボンディング

Pleione 300はHBMと三次元集積向けのチップ対晶円接合を対象にします。

根拠資料↗

不確実性:受注から売上認識までの時期、顧客別量産台数は未開示です。

公式情報からの見立て

生産拠点の増強

公式会社案内は2025年6月の上海第2工場稼働と瀋陽第2工場の建設を記載しています。

根拠資料↗

不確実性:投資額と稼働能力の一部は概数で、量産寄与は今後の実績照会が必要です。

07 入口を選ぶ

専攻から、入口を1つに絞る

薄膜の物性をつくる仕事か、ウエハ・チップを高精度で接合する仕事かを選び、自分の測定値を1つ結びます。

プロセス

薄膜プロセス開発

成膜材料、プラズマ、温度、圧力を調整して膜質と段差被覆をつくる仕事です。

  • PECVD
  • ALD
  • 膜厚
  • 均一性
装置開発

機械・電気・真空設計

反応腔、ガス、RF、搬送、熱、電装を装置へ統合します。

  • チャンバー
  • RF
  • ガス供給
  • 搬送
制御・情報

装置ソフト・データ

レシピ、ウエハ搬送スケジューリング、ログ、工場通信を手掛けます。

  • Wafer scheduling
  • C++
  • C#
  • Python
応募前の3手
  1. PECVD / ALD / Gap Fill / Hybrid Bondingから担当したい製品を1つ選ぶ
  2. 膜厚・応力・均一性・overlay・稼働率から自分が担当した数値を1つ用意する
  3. 公式求人で勤務地・経験年数・給与面議・顧客対応条件を対比する
公式採用へ↗
面接で使う技術語
  • PECVD
  • ALD
  • 膜厚
  • 均一性
  • ギャップフィル
  • チャンバー
  • RF
  • ガス供給
  • 搬送
  • FMEA

成膜と接合の工程差を、自分の設計・実験経験へ結ぶ語です。

比較

他社との違いを一言で

PECVD・ALDと成膜製品幅

Applied Materials

薄膜形成で正面から重なります。 PiotechはFY2025のPECVD売上を個別開示しており、製品別の量産段階へ分けて比べます。

成膜・ギャップフィル

Lam Research

メモリ・ロジック向け成膜で重なります。 膜種、埋め込み形状、顧客認定段階を比較軸にします。

ALD

ASM International

原子層堆積で比較対象です。 PiotechではALDをPECVD売上と混ぜず、製品進捗を個別に比べます。

D2Wハイブリッドボンディング

BESI

先進パッケージの高精度接合で比較対象です。 公開仕様、量産台数、顧客認定を同じ時点へそろえます。

参照資料一覧へ →

出典

公式情報と第三者資料

会社、IR、採用、報道の種別を分けて掲載しています。 参照日は2026-08-10です。

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