半導体製造ラボ SEMICONDUCTOR DATA LAB

企業研究 露光 / 集積回路工程 / 光学検査・計測 半導体・泛半導体装置メーカー

Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE)

企業研究 — 露光を軸に、接合・アニール・光学検査まで手掛ける会社

公式サイトで照会できるのは製品と仕事。
単体の売上・利益は非公開のため、金額欄は「非公開」表記です。

求人DBの会社ID対象外。応募入口は公式採用です。 雇用法人・勤務地国・就労言語・ビザ条件は公式募集要項の比較項目です。

SMEEの公式製品一覧と、具体的な職務を示す公式採用ページから製品・工程・仕事を比べます。 2026年8月10日時点でSMEE単体の財務諸表は一般公開の範囲外で、金額欄は「非公開」です。

Verified 詳細企業研究 / 出典・主張リンク確認済み ページ確認日 2026-08-10

60秒で判断

候補に残す3つの基準

向いている入口 投影光学・照明光学

光学、応用物理、精密計測の経験がある人。

先に比べるリスク SMEE単体の売上、利益、研究開発費は一般公開の範囲外です。 金額欄は「非公開」です。

強み・リスクの公式根拠

根拠と確認日出典一覧(8件)

公式 7件 / 採用 1件。出典参照日 2026-08-10 / ページ確認日 2026-08-10

公開単体売上高 非公開 推計対象外
公開単体利益 非公開 他社数値の代用禁止
公開製品領域 4 区分 露光 / IC工程 / FPD / 光学検査・計測
公式サイトの製品領域 最上位4区分 / 区分数ベース / 売上構成とは別の等分表示
  • 露光装置 1区分
  • IC工程装置 1区分
  • FPD工程装置 1区分
  • 光学検査・計測 1区分

01 立ち位置

何の会社として比べるか

SMEEは露光を中心に、集積回路工程、FPD工程、光学検査・計測を手掛けます。 売上構成が非公開のため、公式サイトに掲載された製品系列の数だけを可視化します。

公式公開製品

公開系列数で製品棚を照会する

SMEE公式サイト↗
公式サイトに掲載された系列数系列 / 売上構成とは別
露光装置5系列
光学検査・計測5系列
FPD工程装置4系列
IC工程装置2系列

各系列の売上・出荷台数は未開示です。

SSX / SSB系列の投影露光・ステッパー

露光装置

SSX600、SSB500、SSB300、SSB200系列を用途別に展開します。 掲載性能は公式公開棚の仕様範囲です。

  • SSX600
  • SSB500
  • SSB300
  • SSB200小Mask
公式製品情報↗
レーザーアニール / ウエハ接合

集積回路工程装置

露光以外に、集積回路のレーザーアニールとウエハ接合を公開製品棚へ載せています。

  • SLD系列レーザーアニール
  • SW系列ウエハ接合
公式製品情報↗
欠陥検査 / CD・Overlay計測

光学検査・計測

SOI系列の欠陥検査、SOL系列の線幅・overlay計測、SHM系列の散乱式overlay計測を手掛けます。

  • SOI500
  • SOI600
  • SOI800
  • SOL500
公式製品情報↗

02 収益

どこで、どれくらい儲けているか

SMEE単体の年次財務諸表、売上、利益、キャッシュフローは一般公開の範囲外です。 この章は「非公開」表記とし、比較可能な財務値の欠如を情報として残します。

単体売上高

非公開

2026-08-10時点の一般公開範囲外

SMEE 公式サイト・製品一覧

単体営業利益・純利益

非公開

推計値・株主や別会社の連結値は対象外

SMEE 公式サイト・製品一覧

公開定期財務資料

非公開

公式サイトには製品・会社・採用情報を掲載

SMEE 会社案内

03 強みとリスク・検討点

強みと、リスク・検討点

露光に加え、接合・アニール・検査・計測まで公開製品棚を持つ点が工程分析の入口です。 製品幅と財務規模・市場占有率は別指標です。

強み

露光から検査まで製品領域が広い

公式サイトは露光、集積回路工程、FPD工程、光学検査・計測の4区分を掲載しています。

SMEE 公式サイト・製品一覧 ↗
先進パッケージ向け露光を具体化

SSB500系列はFlip Chip、Fan-In、Fan-Out WLP/PLP、2.5D/3D向けに、Bumping、RDL、TSVの露光を対象とします。

SSB500系列 先進パッケージ露光装置 ↗
検査・計測も自社製品棚に持つ

SOI500は4・6・8・12インチのウエハと複数の搬送インターフェースを対象に、自動欠陥検出・分類を行います。

SOI500系列 自動光学欠陥検査装置 ↗

リスク・検討点

単体財務は非公開

売上、利益、キャッシュフロー、研究開発費の単体実績は一般公開の範囲外です。 数値による企業規模比較は対象外です。

SMEE 公式サイト・製品一覧 ↗
製品別の採用・出荷規模は非公開

公式サイトは製品系列と仕様を載せますが、顧客名、出荷台数、製品別売上は公開範囲の外です。

SMEE 露光装置一覧 ↗
公開情報の更新時点を読み取りにくい

一部製品ページの公開日は未掲載です。 現在販売中の世代と主力世代も未掲載です。

SMEE 公式サイト・製品一覧 ↗

04 待遇

給与、初任給、休日、手当

公式求人は職務・専攻・経験・勤務地を示し、給与は面議です。 共通の初任給、賞与月数、平均年収、年間休日は外部推計の対象外です。

応募前の一次情報
給与
参照した公式求人は「面議」です。 応募職種ごとの提示条件を照会します。公式求人が一次情報です。
職務
システム統合開発職は測校正方案、テスト用ウエハ・マスク、誤差源シミュレーション、統合試験を担当します。
応募専攻
公式求人は光学工程、応用数学、応用物理、機電工程などを挙げます。 職種により要件は変わります。
勤務時間・休日
全社共通の所定時間、年間休日日数、交替勤務条件は公開範囲の外です。
賞与・昇給
回数、月数、昇給幅、職種別年収は共通の公式値として公開資料の記載範囲外です。
SMEE 採用・システム統合開発職↗
実際の募集を探す公式採用:Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE)の募集職種応募先と募集条件の基準は、応募日の公式募集要項です。

05 勤務地と職種

どこで、どんな仕事をするか

公式サイトの連絡先は上海・浦東新区張東路1525号です。 顧客向け3Rサービスを掲げるため、研究開発に加え、装置導入・保守の仕事も照会対象になります。

主な勤務地・拠点
上海・張江
浦東新区張東路1525号/ 公式連絡先・本社
装置開発現場
光学、ステージ、制御、測校正、統合試験/ 配属部署は求人票で照会
顧客工場
装置導入、顧客訓練、技術サービス/ 出張・常駐条件は募集時に照会
公式採用の勤務地欄↗
公式製品・求人から拾う職種語
  • 投影光学
  • 照明光学
  • 精密ステージ
  • アライメント
  • 測校正
  • 誤差モデル
  • 画像演算
  • 装置制御

公開求人の職務と製品構成を結び付けています。

応募前の照会
  1. 露光 / IC工程 / 検査・計測から担当製品を1つ選ぶ
  2. 光学・精密機械・システム・ソフトのどの誤差を手掛けるかを選ぶ
  3. 給与、勤務時間、勤務地、出張条件を求人票と面談で照会する
公式採用へ↗

公開求人: 求人DBの公開職種へ

公式採用情報↗

公式採用の募集職種 ↗

06 これから

会社が次に取りにいくもの

先進パッケージ露光、ウエハ接合、光学検査・計測が公開製品から表れる照会テーマです。 将来の売上や顧客採用は予測対象外です。

これからの材料
先進パッケージ露光
SSB500はBumping、RDL、TSVと、ウエハ・方形パネルへの対応を公開しています。 量産採用台数は非公開です。SSB500公式ページで仕様範囲を照会します。
接合・アニール
公式製品棚にはSW系列ウエハ接合とSLD系列レーザーアニールがあります。 個別製品の売上・顧客は未開示です。IC工程装置一覧が照会の起点です。
検査・計測
SOI・SOL・SHM系列は欠陥、線幅、overlayを手掛けます。 競合比較は同じウエハ寸法、欠陥種、測定精度で行います。
公式情報からの見立て

先進パッケージ露光

SSB500系列はウエハと最大600mm角の方形パネルへの拡張を公開仕様に掲げます。

根拠資料↗

不確実性:顧客別の量産採用、出荷台数、売上寄与は非公開です。

公式情報からの見立て

レーザーアニールとウエハ接合

公式製品棚は露光に加え、SLD系列レーザーアニールとSW系列ウエハ接合を掲載しています。

根拠資料↗

不確実性:個別仕様、量産実績、財務寄与は公開ページの未掲載項目です。

公式情報からの見立て

検査・計測の製品拡張

SOI500・600・800、SOL500、SHM800を、前工程と先進パッケージの検査・overlay計測へ展開します。

根拠資料↗

不確実性:検出性能の比較は同じウエハ・欠陥条件での公式仕様照会が必要です。

07 入口を選ぶ

専攻から、入口を1つに絞る

公開装置の誤差・性能と、自分の設計・測定経験を軸に志望職種を絞ります。

装置開発

投影光学・照明光学

露光の解像、視野、テレセントリシティ、照度、汚染対策を設計する仕事です。

  • 投影光学
  • 照明
  • NA
  • 収差
装置開発

精密ステージ・機電制御

ウエハ・マスク・パネルを高精度で搬送・位置決めし、焦点と姿勢を制御します。

  • ステージ
  • サーボ
  • 干渉計
  • 振動
システム

システム統合・測定校正

光学・ステージ・制御の要求を分解し、測校正、誤差解析、統合試験を担います。

  • 測校正
  • 誤差モデル
  • 座標変換
  • 統合試験
応募前の3手
  1. SSX / SSB / SLD / SW / SOI / SOL / SHMから担当したい系列を1つ選ぶ
  2. 分解能・overlay・位置精度・検出率・演算時間から自分が担当した値を1つ用意する
  3. 公式求人で職務、専攻、勤務地、面議の雇用条件を照会する
公式採用へ↗
面接で使う技術語
  • 投影光学
  • 照明
  • NA
  • 収差
  • アライメント
  • ステージ
  • サーボ
  • 干渉計
  • 振動
  • 位置補正

露光・検査装置の誤差要因と自分の実務を結ぶ語です。

比較

他社との違いを一言で

露光装置の対象工程と公開性能

ASML

露光装置という大分類は同じですが、公開製品棚と量産世代が異なります。 SMEEの比較軸は公開用途と仕様で、EUV・最先端ロジック装置との同等性は対象外です。

i線・KrF・先進パッケージ露光

キヤノン

成熟工程・先進パッケージ向け露光で比較対象です。 ウエハ寸法、解像、overlay、生産性を同じ仕様で照会します。

半導体・FPD露光

ニコン

半導体とFPDの露光装置棚で重なります。 SMEEの財務は非公開で、製品用途と公開仕様を中心に比べます。

光学検査・計測

KLA

欠陥検査とCD・overlay計測で比較対象です。 SMEEのSOI・SOL・SHM系列は公開仕様の範囲で比較します。

参照資料一覧へ →

出典

公式情報と第三者資料

会社、IR、採用、報道の種別を分けて掲載しています。 参照日は2026-08-10です。

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