conference research / Tier a

SPIE Optical/EUV学会研究

optical lithography、EUV、High-NA、scanner/resist/mask の露光限界を同じ面で確認する SPIE ALP 内の中核トピック。

SPIE Optical and EUV Nanolithographyは、露光 / パターニング / 配線 / 量産の観点から High-NA EUV, optical lithography, stochastic defects, imaging, overlay を確認するための学会です。公式ページ、募集要項、program、proceedings を分けて確認し、研究室DBや求人DBの分類軸へ接続します。

snapshot

基本データ

Tier A

3大国際会議以外の主要学会として、分野別に確認する。

分野 露光 / パターニング / 配線 / 量産

研究室DBと技術レーダーのfield接続に使う。

ジャンル BEOL / 配線・製造

FEOL、BEOL、3DI、回路、WBG、フォトニクス、信頼性へ接続する。

主催 SPIE

開催サイクル 2026-02-22〜26 / San Jose, California, US

2026会期終了 / proceedings確認

投稿形式 SPIE ALP conference abstract + proceedings manuscript

topics

研究テーマと企業調査へ変換する

coverage

optical lithography、EUV、High-NA、scanner/resist/mask の露光限界を同じ面で確認する SPIE ALP 内の中核トピック。

監視テーマ

High-NA EUV, optical lithography, stochastic defects, imaging, overlay

CFPから抽出する論点

SPIE ALP は Optical and EUV Nanolithography、DTCO、Metrology、Novel Patterning、Materials、Etch を分けているため、露光周辺のボトルネックを細分化できる。

年次比較で残す比較軸

IEDM/VLSI の device roadmap で出た寸法・配線課題を、露光/マスク/レジストの実現条件へ戻して照合する入口。

deadlines

投稿・採択イベント

締切日付は未取得です。募集要項ページで最新サイクルを確認してください。

公式確認リンク

公式公式ページ確認日: 2026-05-30