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学会記事トレンド統合ウォッチ

最終更新日
出典方針
公式資料・公開資料を優先
対象範囲
learning / overview

このURLは、学会記事を単独で消費するためのページではありません。CFP、program、proceedings、plenary / tutorial、公開レビュー記事から短い技術シグナルを抽出し、半導体技術記事 の学会記事レイヤーに分類します。 読者はこのページで学会別の1行ハイライトと根拠範囲を比較し、研究テーマを深掘りする場合は 学会別研究ページ、終了済み会期の結果だけを比較する場合は 学会1行ハイライト、職種や工程へ接続する場合は 半導体求人DB へ移動します。

判断タスクこのページで抽出するもの次に使うページ
学会発の技術テーマを比較する学会別1行ハイライト、公開レビュー注目テーマ、記事面ごとの技術語半導体技術記事
どの学会を優先して追跡するか選定するCFP / program / proceedings / plenary の対象面、根拠範囲、次の比較対象学会別研究ページ
終了済み会期の結果を短く比較する学会別の結果要約、公開レビューソース、公式サマリー学会1行ハイライト
職種・工程・装置へ接続する技術テーマID、工程語、装置・材料語、求人DBへの内部リンク半導体求人DB

Trend Signal Graph / 学会記事レイヤー

学会記事をDB横断シグナルへ変換する

CFP、program、proceedings、plenary / tutorial、公開レビュー記事を、半導体技術記事のテーマIDへ対応づけます。 有料論文や非公開発表の本文は推測せず、公開された題名、公式サマリー、公開レビューの根拠範囲を起点にして、学会研究DB、学会ハイライト、技術ページ、求人DBへ接続します。

6テーマ DB1行ハイライト 6注目テーマ 9公開ソース 4記事面 23学会 技術記事

統合設計

このページは統合先へ渡す中継面

学会記事トレンドは、独立した読み物ではなく、学会別ハイライト、技術テーマ、職種、研究ページをつなぐ中継面です。 目的別に下の4面へ分岐します。

統合先 半導体技術記事

学会、企業公式発表、求人、研究室、装置DBを同じ技術IDで比較する

学会記事から抽出した技術テーマID、注目テーマ順位、関連ページを渡す
深掘り先 学会別研究ページ

特定学会の投稿先、field、topic、研究室DB接続を確認する

CFP / program / proceedings の根拠範囲と次に確認する問いを渡す
年次結果 学会1行ハイライト

終了済み会期や過年度学会の結果要約だけを比較する

公開レビューソース、公式サマリー、学会別1行要約はDB正本へ集約する
職種接続 半導体求人DB

技術テーマを職種、工程、勤務地、求人語へ接続する

工程語、装置・材料語、職種候補、技術ページへのリンクを渡す

学会別ハイライト

学会ごとの1行ハイライト

先に結論だけを比較し、必要な学会だけ下の詳細カードで証拠範囲と次の比較対象を選びます。

  1. 公開DBの1行ハイライトを読み込み中です。

学会別詳細

学会別ハイライト詳細

公開レビュー記事と公式programから、各学会で目立った結果や比較軸を1カードに圧縮します。 詳細な性能値ではなく、次に追跡する技術テーマを選ぶための短い要約です。

公開DB loading

学会1行ハイライトを読み込み中です

終了済み学会や過年度学会の公開ソース付き1行ハイライトは、学会1行ハイライトDBから取得します。

公開レビュー注目テーマ

公開レビューから厳選する注目テーマ

各学会の公開レビュー記事、公式サマリー、公式program、公開ニュースを突き合わせ、複数学会で接続しやすいテーマだけを上位に残します。 有料論文の本文は推測せず、公開された題名、要約、レビュー記事の比較軸を証拠範囲にします。

#1 SPIE ALP

High-NA EUVは露光装置単体ではなく、OPC、stitching、mask defect repair、ML model の制御課題に分ける

SPIE ALP 2026の公開ハイライトでは、reduced field size、stitched exposure、OPC / RET、mask modeling、ML-enhanced modeling が同じ記事内に並んでいます。

厳選理由
High-NA EUVの論点がscanner導入から、設計ルール、mask synthesis、metrology、verification workflowへ広がっているため。
読者の使い方
リソグラフィ職種、OPC / RET、mask、metrology、etch transfer を同じ工程連鎖として確認する。
Semiconductor Engineering / Synopsys: SPIE ALP 2026 lithography highlights
High-NA EUVの量産ボトルネックHigh-NA EUVレジスト比較 求人DBで職種へ接続
#2 ECTC

Hybrid bondingの注目テーマはbonding pitchではなく、pre-bond / post-bond metrology、particle、warpage、void検出に移る

IEEE EPSのECTC 2025 special-session summaryでは、metrology、surface defectivity、Cu recess、particle、warpage、alignment、void detection が繰り返し出ています。

厳選理由
接合の細密化だけでは量産性を説明できず、欠陥検出と形状制御が歩留まりを支配するため。
読者の使い方
advanced packaging、hybrid bonding、temporary bond / debond、検査計測装置を同じ比較対象にする。
IEEE Electronics Packaging Society: ECTC 2025 hybrid bonding special-session summary
先端パッケージングとは何かHybrid Bondingの基礎 求人DBで職種へ接続
#3 VLSI / IEDM

BSPDNはロードマップ用語から、2nm class block-level PPA、GAA backside-power IP、backside signal routing の評価対象へ進む

VLSI 2025 programでは3D Power Delivery NetworkセッションとGAA backside-power eFuseが確認でき、IEDM 2025公開レビューではCFETや3D memoryも同じ世代課題に入っています。

厳選理由
GAA、BSPDN、MOL / backside contact、設計側PPAが別々の話題ではなくなっているため。
読者の使い方
GAA、CFET、BSPDN、MOL、設計技術協調を同じ技術テーマIDで追跡する。
IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits: VLSI 2025 advance program: backside power delivery SemiWiki: IEDM 2025 public report
GAAロードマップフォークシートとCFET 求人DBで職種へ接続
#4 IITC / VLSI

Ruとpost-Cu配線は材料名だけでなく、barrier / liner、via resistance、semi-damascene、air-gap統合で評価する

公開レビューでは、sub-10nm配線のCu抵抗増加、Ru via / Cu wire構成、barrier / liner、semi-damascene、air-gap統合が同じ文脈に並んでいます。

厳選理由
BEOL scalingの制約が材料置換だけでなく、界面、CMP、etch、信頼性、配線構造の同時最適化へ移っているため。
読者の使い方
BEOL、MOL、new conductor、selective deposition、CMP、air-gapを同じ確認表に載せる。
Semiconductor Engineering: Copper / Ru interconnect public review
BEOLメタライゼーションRu配線の量産条件 求人DBで職種へ接続
#5 ISPSD / PCIM

SiC / GaNは材料競争から、module、gate driver、thermal packaging、EV / data center power への適用条件に移る

ISPSD 2025 programではSiC、GaN、Ga2O3、diamond、packaging が分類され、PCIM Newsの2025年レビューではSiC / GaN、module integration、EV、data center power が応用面から論じられています。

厳選理由
Wide-bandgap powerは材料名だけではなく、信頼性、モジュール、駆動、応用先で採用条件が決まるため。
読者の使い方
SiC / GaN / Ga2O3 / diamondを、デバイス構造、module packaging、評価条件、求人職種に分ける。
ISPSD 2025: ISPSD 2025 technical program PCIM News / Mesago: PCIM News 2025 WBG and AI review
工程別の装置と材料検査・計測・オーバーレイ装置 求人DBで職種へ接続
#6 IEDM / IRPS

HBM / 3D memoryは帯域だけでなく、thermal bottleneck、BEOL reliability、qualification を同時に見る

imecのIEDM 2025公式発表は3D HBM-on-GPUのthermal STCOを主題にし、IRPS 2026の公開概要はBEOL reliabilityのTDDB、EM、SM、thermal cyclingを主題にしています。

厳選理由
AI向けメモリの論点が帯域・容量から、熱、積層、配線信頼性、qualificationへ広がっているため。
読者の使い方
HBM、3D DRAM、compute-in-memory、thermal、test、failure analysisを同じ信頼性テーマで確認する。
imec: IEDM 2025 3D HBM-on-GPU thermal STCO IBM Research: IRPS 2026 interconnect reliability tutorial SemiWiki: IEDM 2025 public report
歩留まりと欠陥管理テストと選別 求人DBで職種へ接続

記事面

どの記事面をどの根拠で読むか

CFP 会期前

CFP / Topics of Interest

scope、topics of interest、new or trending areas、late news 条件

候補語を広く拾い、program または proceedings で再照合する

program 会期直前から会期中

Program / Session Title

session、invited、panel、workshop、short course の題名

複数セッションまたは複数学会で同じ語群が出た場合に強いシグナルにする

proceedings 会期後

Proceedings / Digest

paper title、digest、PDF program、published proceedings の題名

実験結果、工程条件、デバイス構造を含む題名を優先する

plenary 会期前から会期後

Plenary / Tutorial

plenary、keynote、tutorial、year in review、professional development course の題名

量産・ロードマップ・教育コース側へ移ったテーマを中期シグナルにする

技術テーマ 対象の記事面 抽出する語群 誤検出を除く条件 接続する技術ページ
GAA / CFET / BSPDN CFP / program / proceedings GAA / nanosheet / forksheet / backside power / BSPDN / buried power rail / DTCO / STCO AI、3D、logic の単独出現は採用しません。GAA、CFET、BSPDN、MOL、BEOL などの構造語か工程語を必須にします。 GAAロードマップ / フォークシートとCFET
High-NA EUV / resist / metrology CFP / program / plenary High-NA EUV / anamorphic / EUV scanner / metal oxide resist / dry resist / stochastic defect / overlay / mask 3D EUV の単独出現は採用しません。NA、resist、mask、overlay、defect、etch のいずれかと同じ題名に出る場合に残します。 High-NA EUVの量産ボトルネック / High-NA EUVレジスト比較
BEOL / MOL / new conductor program / proceedings / plenary Ru / Mo / Co / semi-damascene / subtractive etch / selective deposition / backside via / backside contact materials や scaling の単独出現は採用しません。金属名、barrier、liner、contact、via、damascene の語を必須にします。 BEOLメタライゼーション / Ru配線の量産条件
chiplet / hybrid bonding / thermal program / proceedings / plenary hybrid bonding / Cu-Cu bonding / die-to-wafer / chiplet / interposer / RDL / thermal interface / liquid cooling package や integration の単独出現は採用しません。bonding、chiplet、thermal、warpage、RDL などの具体語を必須にします。 先端パッケージングとは何か / Hybrid Bondingの基礎
SiC / GaN / Ga2O3 / diamond power CFP / program / proceedings SiC MOSFET / GaN HEMT / Ga2O3 / gate oxide reliability / threshold voltage shift / BTI / power module / inverter power の単独出現は採用しません。SiC、GaN、Ga2O3、diamond、module、reliability のいずれかを必須にします。 工程別の装置と材料 / 検査・計測・オーバーレイ装置
memory / reliability / failure analysis program / proceedings / plenary HBM / DRAM / NAND / aging / TDDB / BTI / failure analysis / ESD reliability の単独出現は採用しません。TDDB、BTI、retention、ESD、FA、screening などの機構語か試験語を必須にします。 歩留まりと欠陥管理 / テストと選別

CFP / program / proceedings

4学会

GAA / CFET / BSPDN

先端ロジック記事では、デバイス構造、MOL接続、backside power、DTCO / STCO を同じ語群として抽出します。

抽出ルール
CFPで候補語を登録し、programでセッション化を確認し、proceedings題名で構造名と工程語の同時出現を残します。
除外条件
AI、3D、logic の単独出現は採用しません。GAA、CFET、BSPDN、MOL、BEOL などの構造語か工程語を必須にします。
次の接続先
構造語が増えた場合は、GAA、CFET、backside power の技術ページへ接続し、求人DBではデバイスR&Dとプロセス統合を確認します。
デバイス構造

GAA / nanosheet / forksheet / CFET / stacked transistor / novel channel

FEOLの構造変更とチャネル材料
電源・接続

backside power / BSPDN / buried power rail / M0 rail / backside contact

MOL / BEOL 接続と電源配線
設計接続

DTCO / STCO / monolithic 3D / sequential 3D / memory-logic stacking

設計、メモリ、3D集積との接続
基礎: 半導体製造フロー全体像 GAAロードマップフォークシートとCFET 求人DBで職種へ接続

CFP / program / plenary

4学会

High-NA EUV / resist / metrology

パターニング記事では、High-NA EUVを単独語にせず、resist、mask、etch、overlay、defect metrology と束ねます。

抽出ルール
CFPのscope語を初期辞書にし、programでresist / mask / metrologyの同時出現を数え、tutorial化した語を中期テーマにします。
除外条件
EUV の単独出現は採用しません。NA、resist、mask、overlay、defect、etch のいずれかと同じ題名に出る場合に残します。
次の接続先
語群が増えた場合は、High-NA EUV、resist比較、検査・計測ページへ接続し、求人DBではリソグラフィ職種を確認します。
露光・光学

High-NA EUV / anamorphic / EUV scanner / source mask optimization / OPC

露光装置とマスク補正
材料・欠陥

metal oxide resist / dry resist / stochastic defect / line-edge roughness / CDU

resist、欠陥、寸法ばらつき
計測・統合

overlay / mask 3D / metrology / inspection / etch pattern transfer

overlay、検査、etch 連結
基礎: 露光とリソグラフィ High-NA EUVの量産ボトルネックHigh-NA EUVレジスト比較 求人DBで職種へ接続

program / proceedings / plenary

4学会

BEOL / MOL / new conductor

配線記事では、BEOL / MOL、barrier / liner、new conductor、semi-damascene、backside contact を同時に見ます。

抽出ルール
programでinterconnectセッションを抽出し、proceedings題名で材料名と形成方式が同時に出た題名を優先します。
除外条件
materials や scaling の単独出現は採用しません。金属名、barrier、liner、contact、via、damascene の語を必須にします。
次の接続先
配線材料語が増えた場合は、BEOLメタライゼーション、Ru配線、Mo contact のページへ接続します。
配線材料

Ru / Mo / Co / new conductor / barrierless / liner / barrier

配線金属、barrier / liner、contact材料
形成方式

semi-damascene / subtractive etch / selective deposition / air gap / low-k

配線形成方式と低k制約
裏面接続

backside via / backside contact / BPR / BSPDN / contact resistance

MOLからbackside powerまでの接続条件
基礎: 酸化・成膜・薄膜形成 BEOLメタライゼーションRu配線の量産条件 求人DBで職種へ接続

program / proceedings / plenary

4学会

chiplet / hybrid bonding / thermal

実装記事では、chiplet、hybrid bonding、temporary bond / debond、thermal reliability を同じ技術テーマとして抽出します。

抽出ルール
programでpackaging / thermalのセッション名を分け、proceedings題名で接合、基板、熱信頼性の語群を別IDへ結合します。
除外条件
package や integration の単独出現は採用しません。bonding、chiplet、thermal、warpage、RDL などの具体語を必須にします。
次の接続先
接合語と熱語が同時に増えた場合は、advanced packaging、hybrid bonding、temporary bond / debond ページへ接続します。
接合・積層

hybrid bonding / Cu-Cu bonding / die-to-wafer / wafer-to-wafer / 3D integration

3D集積と微細接合
chiplet・基板

chiplet / interposer / RDL / fan-out / heterogeneous integration

chiplet接続と基板技術
熱・信頼性

thermal interface / liquid cooling / warpage / thermomechanical / temporary bond

熱設計、反り、薄化、信頼性
基礎: 後工程とパッケージング 先端パッケージングとは何かHybrid Bondingの基礎 求人DBで職種へ接続

CFP / program / proceedings

5学会

SiC / GaN / Ga2O3 / diamond power

パワー半導体記事では、材料、デバイス構造、ゲート信頼性、モジュール実装、converter適用を分けて抽出します。

抽出ルール
CFPの材料語を登録し、programで構造・信頼性・適用先へ分類し、proceedings題名で評価条件を持つ語を優先します。
除外条件
power の単独出現は採用しません。SiC、GaN、Ga2O3、diamond、module、reliability のいずれかを必須にします。
次の接続先
材料語と信頼性語が増えた場合は、ウェーハ、装置材料、検査計測、求人DBのSiC職種へ接続します。
材料・デバイス

SiC MOSFET / GaN HEMT / Ga2O3 / diamond / trench / superjunction

材料、エピ、デバイス構造
信頼性・評価

gate oxide reliability / threshold voltage shift / BTI / dynamic RON / short-circuit

信頼性、評価、劣化機構
モジュール・適用

power module / inverter / double pulse / thermal cycling / automotive

モジュール、実装、車載・電力変換
基礎: ウェーハと基板 工程別の装置と材料検査・計測・オーバーレイ装置 求人DBで職種へ接続

program / proceedings / plenary

5学会

memory / reliability / failure analysis

メモリ・信頼性記事では、memory architecture、aging、qualification、failure analysis、test を同じレコードにまとめます。

抽出ルール
programでmemory / reliability / FAの題名を分け、proceedings題名で劣化機構、解析手法、試験条件を抽出します。
除外条件
reliability の単独出現は採用しません。TDDB、BTI、retention、ESD、FA、screening などの機構語か試験語を必須にします。
次の接続先
劣化機構や解析語が増えた場合は、歩留まり、テスト、後工程ページへ接続し、求人DBでは品質・信頼性職種を確認します。
メモリ構造

HBM / DRAM / NAND / ReRAM / MRAM / memory wall / near-memory

メモリ構造とシステム要求
劣化・信頼性

aging / TDDB / BTI / electromigration / retention / qualification

劣化機構、qualification、寿命評価
解析・テスト

failure analysis / ESD / EOS / screening / test / package reliability

故障解析、テスト、選別、実装信頼性
基礎: 歩留まりと欠陥管理 歩留まりと欠陥管理テストと選別 求人DBで職種へ接続

公開面へ渡す判断材料

記事面を技術テーマへ変換する単位

公開面ではコード名ではなく、読者が判断に使う単位で表示します。 学会記事面、題名語、公開レビューソース、学会1行ハイライトDBをそろえることで、「締切を比べるDB」から「注目テーマを比較するDB」へ接続します。

  • 記事面CFP、program、proceedings、plenary / tutorial
  • 題名語session title、paper title、tutorial title から抽出した技術語
  • 公開レビューソース公開レビュー記事、公式サマリー、公開ニュースのURLと参照日
  • 学会1行ハイライトDB学会ごとの短い結果要約と次の比較対象
  • 注目テーマ順位公開レビューや月次アップデートで紹介する注目テーマの優先順位
  • 技術テーマ技術記事で比較するテーマIDと表示ラベル
  • 根拠範囲公式ページ、公開レビュー、公式サマリーのどこまでを証拠にするか

レビュー出典

公開レビュー・公式サマリーの出典

レビュー記事は解釈を含むため、公式programや公式発表と合わせて確認します。 各リンクは公開URLとして残し、学会DBの年次レコードに接続する候補にします。

公開レビュー

SPIE ALP 2026 lithography highlights

Semiconductor Engineering / Synopsys / 2026-03-19

SPIE ALP

High-NA EUV、OPC、stitching、mask defect repair、ML model の公開レビュー

公開レビュー

IEDM 2025 public report

SemiWiki / 2026-02-03

IEDM

IEDM 2025 のhighlight technical papersを整理した公開レビュー

公式program

ISPSD 2025 technical program

ISPSD 2025 / 2025-06-02

ISPSD

SiC、GaN、Ga2O3、diamond、packaging のprogram分類を確認する公式program

公開ニュース

PCIM News 2025 WBG and AI review

PCIM News / Mesago / 2025-12-17

PCIM

SiC、GaN、module integration、AI data center、EV、electrification の公開レビュー

公式ページで突き合わせる学会

GAA / CFET / BSPDN

IEDM / VLSI / SSDM / EDTM

IEDM official / IEDM CFP / VLSI official / SSDM official / SSDM CFP / EDTM official

High-NA EUV / resist / metrology

SPIE ALP / ASMC / EIPBN / MNC

SPIE ALP official / ASMC official / ASMC CFP / ASMC program / EIPBN official / MNC official

BEOL / MOL / new conductor

IITC / ASMC / IEDM / VLSI

IITC official / ASMC official / ASMC CFP / ASMC program / IEDM official / IEDM CFP

chiplet / hybrid bonding / thermal

ECTC / 3DIC / ITherm / IMAPS Symposium

ECTC official / ECTC CFP / 3DIC official / ITherm official / IMAPS Symposium official / IMAPS Symposium CFP

SiC / GaN / Ga2O3 / diamond power

ISPSD / ICSCRM / PCIM / CS MANTECH / WiPDA-Europe

ISPSD official / ICSCRM official / PCIM official / PCIM CFP / PCIM program / CS MANTECH official

memory / reliability / failure analysis

IRPS / IMW / IPFA / ESREF / ISTFA

IRPS official / IRPS CFP / IRPS program / IMW official / IMW program / IPFA official

  1. CFP から、次回会期で募集される技術語を候補化する
  2. program から、session、invited、panel、workshop、short course の題名語を抽出する
  3. proceedings や digest から、paper title と工程・構造語の同時出現を抽出する
  4. plenary / tutorial から、ロードマップ化したテーマや教育コース化したテーマを抽出する
  5. 公開レビュー記事、公式サマリー、公開ニュースから作った1行ハイライトは 学会1行ハイライト のDBへ集約する
  6. 年次の注目テーマ候補を、技術記事のテーマIDへ対応づける
  7. 抽出語を基礎ページ、技術ページ、求人DB、学会研究DBへ接続する

学会ページの題名だけでは、実際の技術成熟度や量産採用を断定できません。
このため、CFP は候補語、program はセッション化、proceedings は題名と工程語の同時出現、plenary / tutorial はロードマップ化のシグナルに分類します。

公開レビュー記事を注目テーマへ変換する条件

Section titled “公開レビュー記事を注目テーマへ変換する条件”

公開レビュー記事は、学会後に技術テーマの優先順位と関連工程を短時間でつかむ材料になります。
ただし、レビュー記事には執筆者の選択が入るため、このページでは次の条件で確認します。

  1. 公式program、公式サマリー、企業の公式発表、公開ニュースのいずれかをソースURLとして残す
  2. 有料論文や非公開発表の本文は推測しない
  3. 技術語が、工程、装置、材料、判定条件、職種のどれに接続するかを明記する
  4. 読者が次に使う教科書ページ、深掘りページ、求人DBリンクを同じカード内に置く
  5. 学会別の1行ハイライト本体は、公開ソース付きの 学会1行ハイライト DBで保持する
公開面に出す判断材料役割
記事面CFP、program、proceedings、plenary / tutorial のどこから抽出したか
題名語session title、paper title、tutorial title から抽出した技術語
技術テーマ半導体技術記事で使うテーマIDと表示ラベル
公開レビューソース公開レビュー記事、公式サマリー、公開ニュースのURLと参照日
学会1行ハイライトDB学会ごとの短い結果要約と次の比較対象
注目テーマ順位月次レビュー、技術ページ、求人DB導線で優先するテーマ
根拠範囲題名、公式サマリー、公開レビューのどこまでを証拠にするか
出典URL公式CFP、program、proceedings、plenary / tutorial ページ