Cat-CVD学会研究
Cat-CVD研究会 / Cat-CVD Workshopは、Cat-CVD研究会 / 第23回Cat-CVD研究会実行委員会が主催するロジック / デバイス / プロセス統合分野の学会です。
Catalytic chemical vapor deposition, hot-wire CVD, thin-film deposition, Si/SiC/diamond devices, passivation, radical surface treatment, doping, solar cells, sensors, barrier films, equipment development, and semiconductor process applications.
- 確認日
- 2026-07-15
- 開催サイクル
- 2026-06-18〜2026-06-19 / Former Dalian Route Terminal, Kitakyushu, Japan
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基本データ
source signal dashboard
歴史と組織構成のダッシュボード
委員会 34件 / 確認した発表 35件 / 発表者所属 35件 / スポンサー掲載 12件
history
Cat-CVD研究会
初回開催年 2004年 / 22年 / 公式source抽出 / spot QA済
根拠first official meeting in the official past-meeting archive
history source企業 / 大学 / 研究機関比率
Committee membership rows by organization type
70.6% University
- Company 14.7%
- University 70.6%
- Research institute 8.8%
- Unknown 5.9%
Multiple official committee rosters are added together without person deduplication. Committee geography is intentionally outside the public graph.
sourceProgram first-listed author affiliation rows by organization type
77.1% University
- Company 11.4%
- University 77.1%
- Research institute 11.4%
Each S/O/P presentation code contributes its first-listed author affiliation organization.
source会社別内訳
Committee company rows
- パナソニック株式会社 1
- 株式会社アルバック 1
- 気相成長株式会社 1
- 三菱電機株式会社 1
- 東京エレクトロン株式会社 1
Company rows remain separated from university, research-institute, and mixed-affiliation committee rows.
sourceProgram company rows
- 株式会社ExtenD 2
- 株式会社Deevec 1
- 三菱電機株式会社 1
Company counts use the first-listed author affiliation organization only.
sourceAdvertising-supporter company rows
- コミヤマエレクトロン株式会社 1
- テクノリサーチ株式会社 1
- 株式会社ExtenD 1
- 株式会社エイエルエステクノロジー 1
- 気相成長株式会社 1
Only organizations explicitly listed by the official current-cycle source are counted.
source所属機関の国・地域別内訳
Program affiliation organization country/region
- Japan 35 100%
Country/region is limited to the first-listed author affiliation organization geography.
sourceスポンサー
Host, co-host, supporter, and advertising-supporter rows by organization type
58.3% Professional society
- Company 41.7%
- Professional society 58.3%
The sponsor donut and complete roster use the same official host/co-host/supporter/advertising-supporter set.
sourceOfficial host, co-host, supporter, and advertising-supporter listing rows
- 主催 Cat-CVD研究会 主催 / Society
- 共催 化学工学会 CVD反応分科会 共催 / Society
- 協賛 高分子学会 協賛 / Society
- 協賛 電気学会 協賛 / Society
- 協賛 日本表面真空学会 協賛 / Society
- 協賛 応用物理学会 協賛 / Society
- 協賛 応用物理学会 原子層プロセス研究会 協賛 / Society
- 協賛企業 気相成長株式会社 協賛企業 / Company
- 協賛企業 株式会社エイエルエステクノロジー 協賛企業 / Company
- 協賛企業 テクノリサーチ株式会社 協賛企業 / Company
- 協賛企業 株式会社ExtenD 協賛企業 / Company
- 協賛企業 コミヤマエレクトロン株式会社 協賛企業 / Company
Official listing evidence only; no customer, procurement, funding amount, sales, hiring, or collaboration claim is inferred.
sourcetopics
研究テーマと企業調査へ変換する
監視テーマ
Cat-CVD, HWCVD, thin films, passivation, silicon nitride, silicon oxide, SiC, diamond devices, radical treatment, ALD/CVD process, ULVAC, Tokyo Electron, Mitsubishi Electric, Panasonic, ExtenD, Deevec, Kisoh Seicho, ALS Technology, Techno Research, Komiyama Electron
CFPから抽出する論点
Official sources identify the June 18-19, 2026 Kitakyushu cycle, May 15 abstract deadline, four committee rosters, current S/O/P presentation affiliations, and the complete host/co-host/supporter/advertising-supporter listing.
年次比較で残す比較軸
The official archive lists the first Cat-CVD meeting on May 20-21, 2004 and every completed meeting through the 22nd in 2025; the current guide identifies the 23rd meeting in 2026.
deadlines
投稿・採択イベント
related pages
関連ページ
sources
公式確認リンク
- 公式 公式ページ 確認日: 2026-07-15
- 募集要項 募集要項 / CFP 確認日: 2026-07-15
- program program 確認日: 2026-07-15
- proceedings proceedings 確認日: 2026-07-15