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IVNC学会研究

International Vacuum Nanoelectronics Conferenceは、Division of Future Vacuum Electronics, Japan Society of Vacuum and Surface Scienceが主催するロジック / デバイス / プロセス統合分野の学会です。

主な対象

vacuum electron and ion devices、electron emission、vacuum nanoelectronics、wide-bandgap semiconductor cathodes、field emitter arrays、X-ray / imaging、microscopy and surface analysisを確認できる。

確認日
2026-07-01
開催サイクル
2026-07-13〜17 / Hitachi Baba Memorial Hall, Tokyo, Japan

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Position Tier

Tier B

確立した専門・地域学会です。

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snapshot

基本データ

ジャンル FEOL / デバイス / フォトニクス
投稿形式 1-page A4 PDF short abstract with affiliations; program committee review; JVST B post-conference manuscript route

source signal dashboard

歴史と組織構成のダッシュボード

history

First IVMC 1988 / IVNC name from 2004

初回開催年 1988年 / 公式source抽出 / spot QA済

根拠official past conference pdf first series row

history source

企業 / 大学 / 研究機関比率

IVNC 2026 official committee affiliation rows

58 official Local Steering / Program / International Steering committee source rows / 公式source抽出 / spot QA済

63.8% University

  • Company 15.5%
  • University 63.8%
  • Research institute 17.2%
  • Other / unknown 3.4%

Rows add the official Local Steering Committee, Program Committee, and International Steering Committee source rows. Rows are source-row grain, not de-duplicated headcount. Committee geography is not exposed as a public country/region breakdown.

source

IVNC 2026 plenary / invited speaker affiliation organization rows

13 official plenary / invited speaker affiliation organization rows / 公式source抽出 / spot QA済

46.2% University

  • Company 38.5%
  • University 46.2%
  • Research institute 15.4%

Rows use official IVNC 2026 plenary and invited speaker affiliation organization rows. Poster-session PDFs were reviewed but do not expose affiliation organizations.

source

会社別内訳

IVNC 2026 committee company rows

9 company rows / 58 official committee rows / 公式source抽出 / spot QA済

  1. Denka Company Limited 2
  2. Hamamatsu Photonics K.K. 2
  3. Hitachi High-Tech Corporation 2
  4. Hitachi, Ltd. 2
  5. HaWilKo GmbH 1

Company rows are official committee affiliation source rows, not de-duplicated headcount.

source

IVNC 2026 plenary / invited speaker company rows

5 company rows / 13 official speaker affiliation rows / 公式source抽出 / spot QA済

  1. Hitachi, Ltd. 1
  2. JEOL Ltd. 1
  3. KLA Corporation 1
  4. NEC Network and Sensor Systems, Ltd. 1
  5. Photo electron Soul Inc. 1

Company rows are official plenary / invited speaker affiliation organization rows.

source

スポンサー

IVNC 2026 official sponsor listing mix

13 official professional sponsor / sponsor tier listing rows / 公式source抽出 / spot QA済

69.2% Company

  • Company 69.2%
  • Professional society 30.8%

Rows enumerate the same official listing rows used in the sponsor organization list and donut.

source

IVNC 2026 official professional sponsor and sponsor tier listing

13 official listing rows / 公式source抽出 / spot QA済

  • professional-sponsor The Japan Society of Vacuum and Surface Science Organizer / professional sponsor / Professional society
  • professional-sponsor IEEE Technical sponsor / Professional society
  • professional-sponsor IEEE Electron Devices Society Technical sponsor / Professional society
  • professional-sponsor AVS Technical sponsor / Professional society
  • platinum Hitachi, Ltd. Platinum / Company
  • platinum Denka Company Limited Platinum / Company
  • platinum Seinan Industries Co., Ltd. Platinum / Company
  • gold Hamamatsu Photonics K.K. Gold / Company
  • silver Elionix Inc. Silver / Company
  • silver NEC Network and Sensor Systems, Ltd. Silver / Company
  • silver RDEC Co., Ltd. Silver / Company
  • silver Navatec Co., Ltd. Silver / Company
  • silver ULVAC-PHI, Inc. Silver / Company

Rows enumerate official sponsor/listing evidence only. Sponsor/listing rows are not evidence of customer, procurement, hiring, revenue, or collaboration relationship.

source

topics

研究テーマと企業調査へ変換する

監視テーマ

vacuum nanoelectronics, field emission, electron sources, ion sources, wide-bandgap semiconductor cathodes, GaN photocathodes, X-ray sources, microscopy, harsh-environment devices

CFPから抽出する論点

公式abstract pageは1-page A4 PDF short abstract、authors names and affiliations、program committee review、acceptance notification around April 2, 2026を案内している。

年次比較で残す比較軸

公式past-conference PDFは1 IVMC 1988 Williamsburg、17 IVNC 2004 Cambridge、39 IVNC 2026 Tokyoを示す。公開history signalは1988年をseries start、2004年をIVNC name startとする。

deadlines

投稿・採択イベント

要旨締切 2026-03-15
採択通知 2026-04-02
最終原稿締切 2026-10-15

sources

公式確認リンク

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