conference research / Tier b
IWJT学会研究
junction formation、implantation、anneal、activation、defect、ultra-shallow junction の論点を集中的に追える。
International Workshop on Junction Technologyは、ロジック / デバイス / プロセス統合の観点から junction formation, implantation, anneal, activation, defects, ultra-shallow junction を確認するための学会です。公式ページ、募集要項、program、proceedings を分けて確認し、研究室DBや求人DBの分類軸へ接続します。
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この学会をどう見るか
産業動向への有用性を先に、国際性とシリーズの継続性を別の軸で確認します。
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基本データ
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coverage
junction formation、implantation、anneal、activation、defect、ultra-shallow junction の論点を集中的に追える。
監視テーマ
junction formation, implantation, anneal, activation, defects, ultra-shallow junction
CFPから抽出する論点
junction 技術に絞っているため、source/drain や contact 前後のドーピング課題を会議単位で比較しやすい。
年次比較で残す比較軸
SSDM や IEDM では埋もれやすい junction 形成論点を切り出して見られる希少な観測点です。
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投稿・採択イベント
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研究室DBの学会発表実績タグは、公式業績・program・researchmap/KAKEN成果などで実際の発表が確認できた場合だけ表示します。候補・近接テーマだけでは接続しません。
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