半導体製造ラボ

conference research / Tier b

MNC学会研究

advanced lithography、patterning materials、nano metrology、ALP、MEMS まで含み、patterning 周辺の裾野を広く見られる会議です。

International Microprocesses and Nanotechnology Conferenceは、露光 / パターニング / 配線 / 量産の観点から advanced lithography、patterning materials、nano metrology、ALP、NIL、MEMS を確認するための学会です。公式ページ、募集要項、program、proceedings を分けて確認し、研究室DBや求人DBの分類軸へ接続します。

snapshot

基本データ

Tier B

3大国際会議以外の主要学会として、分野別に確認する。

分野 露光 / パターニング / 配線 / 量産

研究室DBと技術レーダーのfield接続に使う。

ジャンル BEOL / 配線・製造

FEOL、BEOL、3DI、回路、WBG、フォトニクス、信頼性へ接続する。

開催サイクル 2026-11-10〜13 / Hotel New Otani Hakata, Fukuoka, Japan

投稿サイト公開待ち

topics

研究テーマと企業調査へ変換する

coverage

advanced lithography、patterning materials、nano metrology、ALP、MEMS まで含み、patterning 周辺の裾野を広く見られる会議です。

監視テーマ

advanced lithography、patterning materials、nano metrology、ALP、NIL、MEMS

CFPから抽出する論点

abstract site open、late news、JJAP special issue まで一連の導線が先に出るので、仮DBとの相性が良い会議です。

年次比較で残す比較軸

MNC は ALP や NIL も含むため、露光以外の patterning 代替軸を将来アーカイブで持たせる価値があります。

deadlines

投稿・採択イベント

要旨締切 2026-07-01

投稿サイト公開待ち

Late News締切 2026-09-01

投稿サイト公開待ち

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関連ページ

研究室DBの学会発表実績タグは、公式業績・program・researchmap/KAKEN成果などで実際の発表が確認できた場合だけ表示します。候補・近接テーマだけでは接続しません。

sources

公式確認リンク