半導体製造ラボ SEMICONDUCTOR DATA LAB

SISC学会研究

IEEE Semiconductor Interface Specialists Conferenceは、IEEE / IEEE Electron Devices Societyが主催するロジック / デバイス / プロセス統合分野の学会です。

主な対象

semiconductor / insulator interfaces、thin films、gate dielectrics、ferroelectric devices、wide-bandgap devices、reliability、BEOL oxide transistors、advanced packaging interfacesを横断して追う会議です。

確認日
2026-08-13
開催サイクル
2026-12-09〜12 / Catamaran Resort Hotel, San Diego, CA

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この学会をどう見るか

Position Tier

Tier A

半導体・絶縁膜界面の専門会議で、1965年開始の第57回。公式programの招待講演者の所属は欧州・アジア・北米の5か国に及びます。

地理的な到達範囲

世界規模

発表者の所属機関国・地域 / 2026 / 参加範囲を示す軸で、学会の優劣とは別の指標です

なぜこの評価？
  • 発表programの所属機関国・地域を主な母集団として、地理的な到達範囲は世界規模です。 公式根拠
公式根拠 ieeesisc.orgprogramcommittees2025_SISC_technical_program
評価方法を見る

snapshot

基本データ

ジャンル FEOL / デバイス / 信頼性 / メモリ
投稿形式 公式submission pageは2ページ以内のabstract提出を求め、program committeeによるblind reviewを案内しています。

source signal dashboard

歴史と組織構成のダッシュボード

委員会 18件 / 確認した発表 100件 / 発表者所属 100件 / スポンサー掲載 2件

history

First SISC meeting held in 1965

初回開催年 1965年 / 61年 / 公式source抽出 / spot QA済

根拠official first meeting 1965 statement

history source

企業 / 大学 / 研究機関比率

SISC 2026 committee organization mix

18 official 2026 Executive Committee and Technical Program Committee person-role rows / 公式source抽出 / spot QA済

61.1% University

  • Company 16.7%
  • University 61.1%
  • Research institute 22.2%

Rows combine the official 2026 Executive Committee and Technical Program Committee person-role rows. The public graph keeps this grain to organization type only.

source

SISC 2025 technical program first-listed affiliation organization mix

100 official technical program presentation slots / 公式source抽出 / spot QA済

74% University

  • Company 9%
  • University 74%
  • Research institute 17%

Rows use the first-listed speaker or author first listed affiliation organization from each official 2025 technical program slot. Tutorial, invited, oral, and poster-preview rows are included; operations, breaks, awards, author index, and abstract-body pages are excluded.

source

会社別内訳

SISC 2026 committee company breakdown

18 reviewed committee source rows / 公式source抽出 / spot QA済

  1. IBM 1
  2. Intel 1
  3. TSMC 1
source

SISC 2025 technical program first-listed affiliation company breakdown

100 reviewed technical program presentation slots / 公式source抽出 / spot QA済

  1. Applied Research & Photonics 1
  2. ASML 1
  3. Hitachi 1
  4. IBM 1
  5. Micron Technology Inc. 1
  6. onsemi Korea 1
  7. STMicroelectronics France 1
  8. TEL Technology Center America 1
  9. Toyota 1
source

所属機関の国・地域別内訳

SISC 2025 technical program affiliation organization country/region

100 official technical program presentation slots counted by first-listed affiliation organization / 公式source抽出 / spot QA済

  1. United States 41 41%
  2. China 20 20%
  3. Taiwan 8 8%
  4. Japan 7 7%
  5. South Korea 6 6%
  6. United Kingdom 4 4%
  7. Singapore 3 3%
  8. France 2 2%
  9. Ireland 2 2%
  10. Saudi Arabia 2 2%
  11. Austria 1 1%
  12. Belgium 1 1%
  13. Germany 1 1%
  14. India 1 1%
  15. Netherlands 1 1%

Country/region is assigned from the first-listed speaker or author affiliation organization in the official 2025 technical program; it is not a person-level attribute.

source

スポンサー

SISC official sponsor organization mix

2 official sponsor statement listing rows / 公式source抽出 / spot QA済

100% Professional society / nonprofit

  • Professional society / nonprofit 100%

Rows enumerate the official sponsor statement on the SISC home and call-for-papers pages. These are listing signals only.

source

SISC official sponsor statement listings

2 official sponsor statement listing rows / 公式source抽出 / spot QA済

  • Official sponsor statement IEEE official_sponsor / Professional society
  • Official sponsor statement IEEE Electron Devices Society official_sponsor / Professional society

Rows enumerate the official sponsor statement. They are listing rows, not revenue or procurement evidence.

source

topics

研究テーマと企業調査へ変換する

監視テーマ

semiconductor interfaces、gate dielectrics、high-k、ferroelectric devices、reliability、SiC、GaN、2D channels、BEOL oxide semiconductors

CFPから抽出する論点

2026年San Diego cycle、2026-08-07 abstract deadline、現行committee、invited/tutorial program、IEEE / IEEE EDS sponsor statement、1965年からのhistoryを公式sourceで確認済みです。

年次比較で残す比較軸

公式SISC home pageは、first SISC meetingが1965年に開催されたと説明しています。

deadlines

投稿・採択イベント

要旨締切 2026-08-14

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sources

公式確認リンク

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