conference research / Tier a

SPIE DTCO学会研究

design-technology co-optimization、computational lithography、OPC、ILT、EPE を設計/製造境界で確認する。

SPIE DTCO and Computational Patterningは、露光 / パターニング / 配線 / 量産の観点から DTCO, computational patterning, OPC, ILT, EPE, AI for patterning を確認するための学会です。公式ページ、募集要項、program、proceedings を分けて確認し、研究室DBや求人DBの分類軸へ接続します。

snapshot

基本データ

Tier A

3大国際会議以外の主要学会として、分野別に確認する。

分野 露光 / パターニング / 配線 / 量産

研究室DBと技術レーダーのfield接続に使う。

ジャンル BEOL / 配線・製造

FEOL、BEOL、3DI、回路、WBG、フォトニクス、信頼性へ接続する。

主催 SPIE

開催サイクル 2026-02-22〜26 / San Jose, California, US

2026会期終了 / proceedings確認

投稿形式 SPIE ALP conference abstract + proceedings manuscript

topics

研究テーマと企業調査へ変換する

coverage

design-technology co-optimization、computational lithography、OPC、ILT、EPE を設計/製造境界で確認する。

監視テーマ

DTCO, computational patterning, OPC, ILT, EPE, AI for patterning

CFPから抽出する論点

設計側のルール変更と露光側の制約を同じ topic にまとめるため、EDA と量産 patterning の接続点を抽出しやすい。

年次比較で残す比較軸

DAC/ICCAD の設計自動化シグナルを、製造制約と歩留まりへ接続するときの補助線になる。

deadlines

投稿・採択イベント

締切日付は未取得です。募集要項ページで最新サイクルを確認してください。

公式確認リンク

公式公式ページ確認日: 2026-05-30