半導体製造ラボ

ウェーハ前工程

CLEAN TRACK（塗布・現像）

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露光の前後でレジスト塗布、ベーク、現像を連続処理するコータ／デベロッパ工程。

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この工程で何をするか

  • ウェーハへレジストを均一に塗布する
  • ベーク後、露光パターンを現像する

代表的な装置・設備

  • CLEAN TRACK
  • Coater / Developer
  • 東京エレクトロン LITHIUS

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