conference research / Tier a

ALD/ALE学会研究

ALD と ALE の材料、装置、selectivity、surface chemistry、manufacturing analytics を深く追える。

AVS International Conference on Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching Workshopは、露光 / パターニング / 配線 / 量産の観点から ALD, ALE, selective processing, atomic layer cleaning, metrology, AI for manufacturing を確認するための学会です。公式ページ、募集要項、program、proceedings を分けて確認し、研究室DBや求人DBの分類軸へ接続します。

snapshot

基本データ

Tier A

3大国際会議以外の主要学会として、分野別に確認する。

分野 露光 / パターニング / 配線 / 量産

研究室DBと技術レーダーのfield接続に使う。

ジャンル BEOL / 配線・製造

FEOL、BEOL、3DI、回路、WBG、フォトニクス、信頼性へ接続する。

主催 AVS

開催サイクル 2027-06-20〜23 / Dresden, Germany

2027会期確定 / CFP更新待ち

投稿形式 2,700-character abstract + optional 1-page supplemental PDF

topics

研究テーマと企業調査へ変換する

coverage

ALD と ALE の材料、装置、selectivity、surface chemistry、manufacturing analytics を深く追える。

監視テーマ

ALD, ALE, selective processing, atomic layer cleaning, metrology, AI for manufacturing

CFPから抽出する論点

公式ALD/ALE 2027ページで2027年6月20〜23日のDresden開催を確認。締切は次回deadline refreshで別更新する。

年次比較で残す比較軸

SPIE ALP が pattern integration を俯瞰するのに対して、こちらは一段深い surface reaction と process window を追える。

deadlines

投稿・採択イベント

締切日付は未取得です。募集要項ページで最新サイクルを確認してください。

公式確認リンク

公式公式ページ確認日: 2026-07-01
募集要項募集要項 / CFP 確認日: 2026-07-01
program program 確認日: 2026-07-01