半導体製造ラボ

conference research / Tier a

EIPBN学会研究

e-beam、ion beam、optical lithography、nanoimprint、resist、metrology、atomically precise fabrication を横断できる。

International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabricationは、露光 / パターニング / 配線 / 量産の観点から e-beam, ion beam, optical lithography, nanoimprint, resist, metrology, nanofabrication を確認するための学会です。公式ページ、募集要項、program、proceedings を分けて確認し、研究室DBや求人DBの分類軸へ接続します。

snapshot

基本データ

Tier A

3大国際会議以外の主要学会として、分野別に確認する。

分野 露光 / パターニング / 配線 / 量産

研究室DBと技術レーダーのfield接続に使う。

ジャンル BEOL / 配線・製造

FEOL、BEOL、3DI、回路、WBG、フォトニクス、信頼性へ接続する。

開催サイクル 2027-05-25〜28 / DoubleTree Resort by Hilton Hotel Paradise Valley, Scottsdale, Arizona, US

2027会期確定 / CFP更新待ち

topics

研究テーマと企業調査へ変換する

coverage

e-beam、ion beam、optical lithography、nanoimprint、resist、metrology、atomically precise fabrication を横断できる。

監視テーマ

e-beam, ion beam, optical lithography, nanoimprint, resist, metrology, nanofabrication

CFPから抽出する論点

公式EIPBNページで2027年5月25〜28日のScottsdale開催を確認。締切は次回CFP公開後に別更新する。

年次比較で残す比較軸

SPIE ALP より narrow だが、beam-based patterning や nanoimprint の強いシグナルを拾いやすい。

deadlines

投稿・採択イベント

締切日付は未取得です。募集要項ページで最新サイクルを確認してください。

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研究室DBの学会発表実績タグは、公式業績・program・researchmap/KAKEN成果などで実際の発表が確認できた場合だけ表示します。候補・近接テーマだけでは接続しません。

sources

公式確認リンク