conference research / Tier a
EIPBN学会研究
e-beam、ion beam、optical lithography、nanoimprint、resist、metrology、atomically precise fabrication を横断できる。
International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabricationは、露光 / パターニング / 配線 / 量産の観点から e-beam, ion beam, optical lithography, nanoimprint, resist, metrology, nanofabrication を確認するための学会です。公式ページ、募集要項、program、proceedings を分けて確認し、研究室DBや求人DBの分類軸へ接続します。
reader evaluation
この学会をどう見るか
産業動向への有用性を先に、国際性とシリーズの継続性を別の軸で確認します。
snapshot
基本データ
3大国際会議以外の主要学会として、分野別に確認する。
研究室DBと技術レーダーのfield接続に使う。
FEOL、BEOL、3DI、回路、WBG、フォトニクス、信頼性へ接続する。
2027会期確定 / CFP更新待ち
source signal dashboard
歴史と組織構成のダッシュボード
topics
研究テーマと企業調査へ変換する
coverage
e-beam、ion beam、optical lithography、nanoimprint、resist、metrology、atomically precise fabrication を横断できる。
監視テーマ
e-beam, ion beam, optical lithography, nanoimprint, resist, metrology, nanofabrication
CFPから抽出する論点
公式EIPBNページで2027年5月25〜28日のScottsdale開催を確認。締切は次回CFP公開後に別更新する。
年次比較で残す比較軸
SPIE ALP より narrow だが、beam-based patterning や nanoimprint の強いシグナルを拾いやすい。
deadlines
投稿・採択イベント
締切日付は未取得です。募集要項ページで最新サイクルを確認してください。
related pages
関連ページ
研究室DBの学会発表実績タグは、公式業績・program・researchmap/KAKEN成果などで実際の発表が確認できた場合だけ表示します。候補・近接テーマだけでは接続しません。
sources
公式確認リンク
- 公式 公式ページ 確認日: 2026-07-01