SPIE Advanced Lithography + Patterningとは:会期・投稿締切・査読・掲載先を公式情報で確認

call for papers topics

公式が挙げる対象トピック

• High-NA / low-NA 露光系と光源 AL101 の LITHOGRAPHY EQUIPMENT と SOURCES 区分に high NA・low NA 露光系、EUV・BEUV 光源が明記されています。
• mask blank・pellicle・mask writing AL101 の MASKS 区分に absorber 材料、blank/patterned mask 検査、pellicle 開発、mask writing tool が列挙されています。
• computational lithography(OPC / RET / ILT) AL102 の Computational Patterning 区分に OPC、RET、ILT、simulation-based verification が挙げられています。
• DTCO / STCO AL102 は DTCO と STCO、3D integration、DFM/DFY を対象に含みます。
• EUV / high-NA EUV 向けレジスト材料 AL105 の Patterning Materials 区分に "Materials for EUV and high NA EUV lithography" が明記されています。
• PFAS/PFOS フリー材料と sustainability AL105 に "Sustainable PFAS/PFOS free materials, roadmap for compliance with regulatory legislation" が、application track にも sustainability があります。
• DSA / nanoimprint / selective deposition AL104 の Process-Based Lithography 区分に directed self-assembly、nanoimprint lithography、selective deposition が挙げられています。
• stochastics(LER / LWR) application track の Stochastics は "Line Edge Roughness (LER), Line Width Roughness (LWR), photon and secondary electron stochastics, chemical and process nonuniformity" と定義されています。
• EPE / overlay application track の EPE/Overlay は overlay、CD、Edge Placement Error の計測と根本原因解析、プロセス改善を対象としています。
• advanced packaging 向けパターニング application track として advanced packaging が設定され、AL105 にも "Materials for packaging and SOC/SIP integration" が含まれます。
• AR/VR 向けパターニング AL105 は AR/VR 応用向けのパターニングと光学制御材料を対象に含めると明記しています。

identity

正式名称と主催

公式サイト上の名称は SPIE Advanced Lithography + Patterning で、SPIE が運営するイベントページに置かれています。単一の会議ではなく 6 つの conference を束ねた symposium 形式で、conference ごとに chair と program committee が独立して置かれます。投稿先を選ぶときは「SPIE ALP に出す」ではなく「AL101〜AL106 のどれに出すか」で考える必要があります。

正式名称

SPIE Advanced Lithography + Patterning イベント公式トップページの見出し表記。 spie.org確認日 2026-08-05

主催

SPIE(ページフッターに "© 2026 SPIE"、招待文で "SPIE Advanced Lithography + Patterning symposium" と表記) 共催・技術協賛団体の記載は、確認した公式ページにはありません。 spie.org確認日 2026-08-05

開催頻度

毎年開催("Each year this important community comes together to share and discuss current research") Program ページの本文。 spie.org確認日 2026-08-05

構成単位

6 つの conference(AL101〜AL106) call for papers 一覧に "6 results found" と表示され、AL101 Optical and EUV Nanolithography XL / AL102 DTCO and Computational Patterning VI: 25th Anniversary Conference / AL103 Metrology, Inspection, and Process Control XLI / AL104 Novel Patterning Technologies 2027 / AL105 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV / AL106 Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI が並びます。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 Symposium Chairs

John Robinson, Canon Nanotechnologies, Inc. (United States) / Eric Panning, GenChip (United States) Conferences ページの "2027 Symposium Chairs" 欄。役職表記は Symposium Chair と Symposium Co-chair。 spie.org確認日 2026-08-05

公式ハッシュタグ

#SPIElitho イベントトップページに掲載。 spie.org確認日 2026-08-05

cycle

2027 サイクルの会期・会場・展示日程

2027 サイクルは 2 月 21〜25 日の 5 日間で、都市は San Jose, California, US です。展示会場として San Jose McEnery Convention Center の住所が公式に示されており、展示は 2 月 23〜24 日の 2 日間です。技術セッション会場の個別表記と、会議本体を online で聴講できるかどうかは、確認した公式ページには書かれていません。2027 の登録は 2026 年 11 月に開始予定と告知されており、料金表はまだ出ていないため、旅費計画は会期と展示日だけを固定して進めることになります。

2027 会期

21 - 25 February 2027 全イベントページ共通のヘッダー表記。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 開催地

San Jose, California, US 同ヘッダー表記。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 展示会場

San Jose McEnery Convention Center, 150 W San Carlos Street, San Jose, California 95113 Exhibition ページに記載された住所。技術セッション会場の個別表記は、確認したページにはありません。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 展示日程

Tuesday, 23 February 2027 10:00 AM - 5:00 PM / Wednesday, 24 February 2027 10:00 AM - 4:00 PM Exhibition ページの開場時間。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 登録開始

"2027 registration will open in November"(料金は未掲載) Registration ページ。参加費の金額は 2026-08-05 時点で公開されていません。 spie.org確認日 2026-08-05

2026 サイクルの開催地

San Jose("Photo highlights from the 2026 event in San Jose") Highlights ページ。2026 program PDF へのリンクも同ページにあります。 spie.org確認日 2026-08-05

scope

対象領域・トラック構成・対象外

6 つの conference が縦軸、5 つの application track が横軸という二層構造です。abstract は 1 件につき 1 conference を選んで投稿し、該当すれば application track を併せて選択します。商業色の強い発表や新規性のない発表は明示的に対象外とされており、材料系の AL105 では化学構造の開示不足も不採択理由として明記されています。

2027 の 6 conference

Optical and EUV Nanolithography / DTCO and Computational Patterning / Metrology, Inspection, and Process Control / Novel Patterning Technologies / Advances in Patterning Materials and Processes / Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning Conferences ページの "Conference topics" 一覧。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 application tracks

AI / ML、sustainability、stochastics、advanced packaging、EPE/overlay の 5 つ "In the 2027 program, these topics will include AI / ML, sustainability, stochastics, advanced packaging, and EPE/overlay." と記載。conference 横断で発表を束ねる仕組みです。 spie.org確認日 2026-08-05

application track の定義

"An application track is a grouping of presentations on a topic of interest across all conferences." 投稿時に該当すれば著者が選択する 各 track の定義文(AI/ML、Sustainability、Stochastics、Advanced Packaging、EPE/Overlay)も同ページに掲載。 spie.org確認日 2026-08-05

AL101 の対象範囲

LITHOGRAPHY EQUIPMENT / SOURCES / MASKS / PATTERNING の 4 区分。"covers EUV and Optical projection-based lithography systems, practices, and their applications in IC technology" high NA / low NA 露光系、EUV・BEUV 光源、mask blank と pellicle、SMO や stochastic control などが列挙されています。 spie.org確認日 2026-08-05

AL102 の対象範囲

Computational Patterning (EUV and DUV) / Deep Learning, Machine Learning, and AI Techniques / DTCO と STCO / DFM・DFY / Modeling, Simulation, and Computation OPC、RET、ILT、anamorphic high-NA EUV の stitching 影響、量子計算や TPU の応用まで含みます。 spie.org確認日 2026-08-05

AL104 の対象範囲

"Direct Write or Maskless Lithography and Patterning Technologies"(電子・イオンビーム、resistless e-beam or ion beam direct patterning、direct deposition (inkjet, local-area ALD)、scanning probe lithography 等)と "Process Based Lithography and Patterning"(directed self-assembly、nanoimprint lithography、selective deposition、colloidal self-assembly 等)の 2 区分 MEMS/NEMS、metasurface、display、量子計算デバイスなど IC 以外の応用も対象に含まれます。 spie.org確認日 2026-08-05

明示された対象外(全体)

"Commercial papers, papers with no new research/development content, and papers with proprietary restrictions will not be accepted for presentation." Abstract Submission Guidelines の "Only original material should be submitted" に続く注記。 spie.org確認日 2026-08-05

明示された対象外(AL105)

"Submissions which do not reveal sufficient chemical details to add value to the readers or are principally of a commercial nature may not be accepted for presentation and publication." AL105 は化学的・物理的原理と化学構造の記述を著者に求めています。 spie.org確認日 2026-08-05

submission

投稿区分・書式・締切

投稿は abstract ベースで、審査用 abstract(200〜300 words)、プログラム掲載用サマリ(50〜150 words)、講演者略歴(1000 文字以内)、2 ページ以内の extended abstract PDF を揃えます。extended abstract は審査専用で公開されません。採択後は manuscript の提出が義務で、AL102 では最低 2 ページと明記されています。締切は 2027 サイクルで abstract が 2026 年 9 月 9 日、manuscript が 2027 年 2 月 3 日です。

2027 abstract 締切

Abstracts due: 9 September 2026 Important dates 表。AL101・AL102・AL104・AL105 の各 conference detail ページにも同じ日付が表示されます。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 採否通知

Authors notified and program posts online: 16 November 2026 同じ日にプログラムがオンライン公開されます。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 manuscript / poster / slide 締切

Submission system opens for manuscripts and poster PDFs: 21 December 2026 / Poster PDFs due: 27 January 2027 / All manuscripts due: 3 February 2027 / Advance upload deadline for oral presentation slides: 19 February 2027 manuscript アップロードには contact author か speaker の登録が先に必要、slide は期限後は onsite の Speaker Check-In でのアップロードになると注記されています。 spie.org確認日 2026-08-05

投稿時の必要項目

Presentation title / Author(s) information / Speaker biography (1000-character max including spaces) / Abstract for technical review (200-300 words; text only) / Summary of abstract for display in the program (50-150 words; text only) / Extended abstract PDF (two pages maximum) / Keywords(任意) extended abstract には著者名と所属、本文、図表、審査に足るデータを含めることが求められます。 spie.org確認日 2026-08-05

extended abstract の扱い

"Extended abstracts will be used only for the purpose of review and will not be published." 各 conference detail ページの EXTENDED ABSTRACT REQUEST 欄。abstract 投稿ウィザードの step 7 で提出します。 spie.org確認日 2026-08-05

投稿先の選び方

"Choose one conference that most closely matches your abstract topic. You may submit more than one abstract, but submit each only once" 同一 abstract の複数 conference への重複投稿は認められていません。 spie.org確認日 2026-08-05

manuscript の分量(AL102)

"Authors agree to the requirement of a manuscript submission, minimum 2-page, before the conference." AL102 の call for papers 本文。symposium 全体に共通する最大ページ数の指定は、確認したページにはありません。 spie.org確認日 2026-08-05

締切後の投稿

"Submissions are subject to review and approval by conference chairs/committee and must be received by the deadline for priority placement. Some conferences may consider post-deadline abstracts." post-deadline を受け付けるかは conference ごとの判断で、個別ページを見るよう案内されています。 spie.org確認日 2026-08-05

review

査読方式と審査観点

審査は conference chair/editor による技術的妥当性と内容適合性の評価で、口頭かポスターかの最終配置も chair の裁量です。extended abstract には著者名と所属を含めることが求められており、匿名化投稿の手順は公開されていません。採択率は公表されていないため、通過見込みは過去の proceedings の収録件数から間接的に見るほかありません。

選考主体

"To ensure a high-quality conference, all submissions will be assessed by the conference chair/editor for technical merit and suitability of content" Review and program placement 節。 spie.org確認日 2026-08-05

口頭/ポスターの決定

"Final placement in an oral or poster session is subject to chair discretion" 同節。chair/editor と SPIE スタッフには内容不十分な論文を却下する権限があると明記。 spie.org確認日 2026-08-05

匿名審査の有無

extended abstract に "Include author names and affiliations" が要求されており、double-blind 等の匿名審査手順の記載はありません conference detail ページの EXTENDED ABSTRACT REQUEST 欄の指示。 spie.org確認日 2026-08-05

発表後の掲載可否判断

"Conference chairs/editors or SPIE staff may require revision before approving publication and reserve the right to reject any manuscript or presentation that does not meet acceptable standards for a scientific publication" 採択=掲載確定ではなく、原稿段階で再度の判断が入ります。掲載可否の決定は最終(final)と明記。 spie.org確認日 2026-08-05

採択率

公表されていません Abstract Submission Guidelines、Conferences、Program、Highlights の各ページに採択率の記載はありません。 spie.org確認日 2026-08-05

受賞審査の観点(AL105)

"Judging criteria include the technical originality, completeness, relevance, quality of oral presentation, and quality of proceedings manuscript." C. Grant Willson Best Paper Award の選考基準として記載。投稿審査そのものの基準ではありません。 spie.org確認日 2026-08-05

publication

proceedings の掲載先と公開範囲

発表内容は Proceedings of SPIE として SPIE Digital Library に収録されます。conference ごとに volume 番号が付き、2026 サイクルの AL101 相当は Volume 13979、AL104 相当は Volume 13982 でした。口頭発表の録画とポスター PDF も収録対象で、著作権は著者に残り SPIE にはライセンスを付与する形です。

掲載先

conference proceedings in the SPIE Digital Library 投稿同意事項に "They will submit a manuscript by the advertised due date for publication in the conference proceedings in the SPIE Digital Library" と明記。 spie.org確認日 2026-08-05

収録データベース

Astrophysical Data System (ADS)、Ei Compendex、CrossRef、Google Scholar、Inspec、Scopus、Web of Science "SPIE partners with relevant scientific databases and indexes..." の列挙。IEEE Xplore への収録の記載はありません。 spie.org確認日 2026-08-05

2026 volume の例(AL101 系)

Proceedings Volume 13979 "Optical and EUV Nanolithography XXXIX"、編者 Claire van Lare, Iacopo Mochi、Date Published: 30 April 2026、Contents: 17 Sessions, 60 Papers, 57 Presentations、Conference: SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026 SPIE の Proceedings volume ページの Volume Details 欄。 spie.org確認日 2026-08-05

2026 volume の例(AL104 系)

Proceedings Volume 13982 "Novel Patterning Technologies 2026"、編者 Ricardo Ruiz, Richard A. Farrell、Date Published: 22 April 2026、Contents: 13 Sessions, 38 Papers, 21 Presentations 同じく Volume Details 欄。会期(2 月)から約 2 か月後に公開されています。 spie.org確認日 2026-08-05

録画・ポスターの扱い

口頭発表者は "it is okay to record and publish on-site presentations (slides synched with voice) in the conference proceedings in the SPIE Digital Library" に同意、ポスター発表者は poster PDF の proceedings 掲載に同意 投稿同意事項。SPIE は録画とポスターの配布・マーケティング権を保持すると記載。 spie.org確認日 2026-08-05

著作権

"Authors must be authorized to provide a suitable publication license to SPIE; authors retain copyright of all scientific material" 著作権譲渡ではなくライセンス付与の形式です。 spie.org確認日 2026-08-05

参加登録に含まれる閲覧権

"Registration includes 50 SPIE Digital Library downloads" Conferences ページの見出し。Registration ページにも "50 proceedings downloads" の記載があります。 spie.org確認日 2026-08-05

特集号招待

公表されていません 確認した投稿・出版関連ページに、ジャーナル特集号への招待に関する記載はありません。 spie.org確認日 2026-08-05

program

プログラム構成と併設イベント

本会議は 6 つの conference のセッションに加えて、plenary、panel、poster session、short course、展示で構成されます。2027 の plenary 登壇者と short course の科目一覧はまだ公開されておらず、short course の全容は 2026 年 11 月の登録開始時に出るとされています。展示は 2 日間で、出展社リストは投稿前の段階から公開されています。

plenary と panel

"symposium plenary session(s) where executives, innovators and thought leaders will share grand challenges, major inflection points, industry trends and technology roadmaps" と "panel sessions" を実施 Invitation ページ本文(2026 サイクルについての記述)。 spie.org確認日 2026-08-05

plenary の実施例(2023)

2023 年 2 月 28 日の Tuesday Morning Plenary(Convention Center, Ballroom 220A)では Vivek Singh(NVIDIA)"Accelerated computing for silicon leadership"、Bernard Kress(Google)"Pushing the limits of nano-imprint lithography for immersive displays" が登壇し、Introduction of New SPIE Fellows も行われました 2023 サイクルの special event ページ。2027 の plenary 登壇者は未公開です。 spie.org確認日 2026-08-05

short course

"SPIE will offer short courses at Advanced Lithography + Patterning." 対象トピックは optical and EUV lithography、patterning technologies、metrology、atomic layer etching、microlithography、photoresist processing など。"Full course program to come when registration opens in November 2026." 講師公募も行われており、"Proposals for Advanced Lithography + Patterning are due 1 September 2026." と記載。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 special events の公開状況

Special Events ページには plenary・panel・poster session・networking events の存在のみが記載され、個別のセッション名や登壇者は掲載されていません 2026-08-05 時点。 spie.org確認日 2026-08-05

joint session と student session

conference 間の joint session が設けられる旨が Invitation に記載。2026 の Volume 13979 目次には "Student Session"、"Special Session: Future of EUV"、"Joint Session with 13979 and 13980" が含まれます セッション構成の実例は proceedings volume の目次で確認できます。 spie.org確認日 2026-08-05

AL105 の表彰

C. Grant Willson Best Paper Award in Patterning Materials and Processes(前年の最優秀口頭発表、$1,000 USD)、Jeffrey Byers Best Poster Award(前年の最優秀ポスター、$1000 USD)、Hiroshi Ito Student Award(前年の最優秀学生発表、$1,000 USD) いずれも SPIE Patterning Materials conference committee が候補推薦と選定を行うと記載。invited keynote は Willson Award の対象外。 spie.org確認日 2026-08-05

表彰イベントの公開状況

Awards ページは "Set aside time to see the winners of several annual awards" と記すのみで、2027 の受賞者や賞名の一覧は掲載されていません 2026-08-05 時点。 spie.org確認日 2026-08-05

community

委員会構成と参加組織

conference ごとに chair・co-chair と program committee が置かれ、所属は装置・材料・デバイスメーカーと研究機関が混在します。AL101 の committee は米国所属が過半で、日本・韓国・欧州の所属が続きます。展示社リストは 2027 分がすでに公開されていますが、これは出展の事実を示すもので、取引関係や共同研究を示すものではありません。

AL101 の chair 構成

Conference Chair: Claire van Lare(ASML Netherlands B.V., Netherlands)/ Conference Co-Chair: Iacopo Mochi(Paul Scherrer Institut, Switzerland) AL101 の Chairs and Committees。 spie.org確認日 2026-08-05

AL101 の program committee 規模

Program Committee として 36 名を掲載(chair・co-chair を含めて 38 名) 同ページの委員一覧を数えた結果。 spie.org確認日 2026-08-05

AL101 委員の所属国内訳

United States 22、Japan 5、Korea, Republic of 3、Belgium 3、Germany 3、Netherlands 1、Switzerland 1(合計 38) 公式ページに印字された所属機関の所在国表記の内訳であり、個人の国籍ではありません。 spie.org確認日 2026-08-05

AL101 委員のうち日本所属

Naoya Hayashi(Dai Nippon Printing Co., Ltd., Japan)、Soichi Inoue(KIOXIA Corp., Japan)、Ken-Ichiro Mori(Canon Inc., Japan)、Yoji Watanabe(Nikon Corp., Japan)、Akiyoshi Suzuki(Consultant, Japan) 所属表記は公式ページの記載どおり。 spie.org確認日 2026-08-05

AL104 の chair と委員の所在国

Chair: Richard A. Farrell(Meta, United States)/ Co-Chair: Laurent Pain(CEA-LETI, France)。program committee の所属は United States、Netherlands、Germany、Japan、Austria、Switzerland に分布 産業界(ASML、KLA、Intel、IBM、KIOXIA、JSR Micro、EV Group 等)と大学・公的機関(University of New Mexico、NIST、TU Ilmenau、LBNL、Syracuse University 等)が混在します。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 出展社の掲載件数

"44 results found."(2026-08-05 時点の出展社リスト) 出展社リストは出展・支援の事実を示すもので、顧客関係・売上・採用・共同研究を示すものではありません。会期までに増減する可能性があります。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 出展社のうち日本関連の掲載例

LINTEC Corp.(Bunkyo-Ku, Tokyo, Japan)、Mitsui Chemicals America, Inc.、NTT Advanced Technology Corp.、JSR Micro, Inc.、Shin-Etsu MicroSi, Inc.、Canon U.S.A., Inc.、JEOL USA Inc.、HORIBA Instruments Inc. 所在地表記は出展社リストの記載どおり。出展の事実のみを示します。 spie.org確認日 2026-08-05

分野の SPIE 協会賞

SPIE Frits Zernike Award for Microlithography(honorarium $2,000)。2026 recipient は Andreas Erdmann、過去受賞者に Akiyoshi Suzuki(2019)、Burn Lin(2004)、C. Grant Willson(2005)などが掲載 SPIE の協会賞ページ。このページには本シンポジウムでの授与に関する記載はありません。 spie.org確認日 2026-08-05

history

沿革と節目

公式の招待文はこのシンポジウムを 1976 年以来のものと位置づけ、2026 サイクルを 50 周年としています。1976 年の SPIE proceedings Volume 0080 は "Developments in Semiconductor Microlithography" という会議名で刊行されており、現在の名称とは異なります。個々の conference にも独自の通番があり、AL101 は 1988 年開始の "Optical/Laser Microlithography" を前身として 2022 年に EUV Lithography conference と統合した経緯が明記されています。

起点年の公式記述

"SPIE Advanced Lithography + Patterning symposium has been the premier conference on lithography and patterning in the semiconductor industry since 1976. This year marks our 50th anniversary" Invitation ページの原文。文中の "This year" は本文中で 2026 サイクルを指しています。"premier conference" は公式の表現をそのまま引用したものです。 spie.org確認日 2026-08-05

1976 年の proceedings

Proceedings Volume 0080 "Developments in Semiconductor Microlithography"、編者 James W. Giffin、Date Published: 20 September 1976、Contents: 1 Sessions, 26 Papers, 0 Presentations、Conference: Developments in Semiconductor Microlithography 1976 当時の会議名は現在の名称とは異なります。収録論文には photomask、line width measurement、submicron X-ray lithography などが含まれます。 spie.org確認日 2026-08-05

AL101 の系譜

"the proceedings from this conference that began in 1988 as 'Optical/Laser Microlithography', and merged with the EUV Lithography conference in 2022" AL101 の call for papers 冒頭。conference 単位の沿革として明記されています。 spie.org確認日 2026-08-05

conference 通番(2027)

Optical and EUV Nanolithography XL / Advances in Patterning Materials and Processes XLIV / Metrology, Inspection, and Process Control XLI / Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI / DTCO and Computational Patterning VI: 25th Anniversary Conference / Novel Patterning Technologies 2027 Novel Patterning Technologies だけはローマ数字ではなく年号表記です。DTCO は VI と 25th Anniversary が併記されています。 spie.org確認日 2026-08-05

開催地ローテーション

2026 サイクル・2027 サイクルとも San Jose, California, US。他都市への巡回に関する記載はありません Highlights ページの 2026 記述とイベントヘッダーの 2027 表記による。 spie.org確認日 2026-08-05

comparison

近い SPIE イベントとの棲み分け

SPIE 内でも photomask と EUVL に特化した別イベントが独立して運営されており、開催時期・場所・conference 構成が異なります。ALP は 2 月・San Jose・6 conference、Photomask Technology + EUV Lithography は 9 月・Monterey・2 conference です。mask 単体の話題はどちらでも扱われるため、投稿先は締切と会期から逆算して選ぶことになります。

SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography(2026)

Conferences: 8–11 September 2026 / Exhibition: 9–10 September 2026 / Courses: 9 September 2026、Monterey, California, US。conference は Photomask Technology conference と EUV Lithography conference の 2 つ ALP とは別のイベントページを持つ SPIE の年次イベントです。 spie.org確認日 2026-08-05

ALP 側の mask 取り扱い

AL101 の MASKS 区分に "optical, EUV, and EUV mask substrates and blanks, including absorber materials and patterning; patterned and blank mask inspection...; pellicle development and platform integration; mask writing tools and techniques" が含まれます mask のテーマは ALP でも正面から扱われます。 spie.org確認日 2026-08-05

ALP のカバー範囲の自己記述

"SPIE Advanced Lithography + Patterning covers the entire value-chain in semiconductor lithography and patterning, including circuit design, materials, masks, lithography and etch tools, processes, computational lithography, metrology, testing and yield improvement as well as emerging fields of novel patterning, artificial intelligence..., augmented reality and virtual reality (AR/VR), and sustainability." Invitation ページの原文。 spie.org確認日 2026-08-05

audience

研究室・企業からの使い方

学生は grant で登録費と旅費の一部を賄える設計になっており、abstract 提出が award 選考の前提になります。企業側は 2 月の会期に向けて 9 月の abstract 締切を起点にスケジュールを引く形です。日本から渡航する場合、SPIE は visa 申請を 3〜4 か月前に始めるよう案内しており、招待状は SPIE アカウントからの申請制です。

学生 grant の内容

"Student grants cover the full cost of admission plus up to $500 for an onsite course." 旅費は US students が最大 $500、international students が最大 $1,000 の実費精算 領収書を保管しないと精算されないと明記。応募には proceedings への manuscript 提出が要件に含まれます。 spie.org確認日 2026-08-05

2027 学生関連の締切

9 September: Submit an abstract to be considered for an award / 1 November: Nick Cobb Scholarship application / 29 November: Deadline for Student grant application / 7 December: Company deadline to sponsor a Student Grant Student Opportunities ページの "Upcoming deadlines for 2027"。 spie.org確認日 2026-08-05

Nick Cobb Memorial Scholarship

大学院生 1 名に $10,000、渡航支援は Siemens EDA が負担。"The 2027 scholarship application opens 1 September 2026." advanced lithography 関連分野の大学院生が対象と記載。 spie.org確認日 2026-08-05

short course の割引

"SPIE Members receive 15% off" / "SPIE Student Members receive 35% off"、Early Bird 期限内の登録でさらに 15% 追加割引 Courses ページ。会議登録料そのものの金額は 2027 分が未公開です。 spie.org確認日 2026-08-05

渡航・visa の案内

"SPIE strongly encourages travelers to apply for their visas as early as possible — at least three to four months before the visa is needed"。招待状は SPIE アカウントにサインインして Invitation Letter Request Form から申請 SPIE は大使館・領事館への個別照会は行わないと明記。出展者用の申請フォームは別に用意されています。 spie.org確認日 2026-08-05

18 歳未満の学生著者の要件

指導教員またはメンターによる事前承認と共著者としての記載、開催 8 週間前までの保護者同意書提出、会期中の同伴が必須 Abstract Submission Guidelines の該当節。 spie.org確認日 2026-08-05

caveats

未公開項目と読み取り上の注意

2026-08-05 時点で、公式サイトが公開していない項目は次のとおりです。2027 の参加登録料と Early Bird 期限(Registration ページは "2027 registration will open in November" のみ)、2027 の plenary 登壇者とセッション名(Special Events ページは plenary・panel・poster session・networking の存在のみ)、short course の科目一覧(Courses ページは "Full course program to come when registration opens in November 2026.")、投稿の採択率、参加者数・発表件数・出展社数の統計(Highlights ページに記載なし)、会議本体を online で聴講できるかどうか、そして 2027 の受賞者一覧(Awards ページは告知のみ)です。発表規模を知りたい場合は proceedings volume ごとの "Contents: N Sessions, N Papers, N Presentations" を個別に見るしかありません。またイベントサイトは 2027 のヘッダーを掲げたまま 2026 サイクル向けに書かれた本文(招待文など)を残しており、年度が混ざりやすい構造になっています。symposium chair の所属表記もページ間で食い違うため、引用時はどのページの記載かを併記してください。

2027 の未公開項目

参加登録料、Early Bird 期限、plenary 登壇者、short course の科目一覧 Registration ページは "2027 registration will open in November"、Courses ページは "Full course program to come when registration opens in November 2026." と記載。 spie.org確認日 2026-08-05

年度が混ざる箇所

Invitation ページはヘッダーが "21 - 25 February 2027" である一方、本文は "SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026 will cover..." と 2026 サイクルを記述しています 同ページの 50 周年の記述も 2026 サイクルを指しています。 spie.org確認日 2026-08-05

公式表記の揺れ(chair 所属)

Conferences ページでは John Robinson が Canon Nanotechnologies, Inc.、Eric Panning が GenChip。Invitation ページでは同じ 2 名が Diverdy Technologies, LLC. と SiClarity と表記されています どちらも spie.org 上の公式ページ。引用時は出典ページを明示してください。 spie.org確認日 2026-08-05

abstract 締切表記の揺れ

Conferences ページは "submissions will be due 9 September" と年を省いた表記。年を含む "9 September 2026" は Abstract Submission Guidelines と各 conference detail ページに記載されています 年入りの表記があるページを一次情報として扱うのが安全です。 spie.org確認日 2026-08-05

統計値の非掲載

Highlights ページには参加者数・発表件数・出展社数の統計は掲載されていません 発表件数は proceedings volume ごとの "Contents: N Sessions, N Papers, N Presentations" で個別に確認する必要があります。 spie.org確認日 2026-08-05

このページで扱わない範囲

AL103(Metrology, Inspection, and Process Control XLI)と AL106(Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI)の詳細トピックと委員名簿、および SPIE Digital Library 側の全 volume 一覧 SPIE Digital Library の一覧ページは 2026-08-05 のアクセス時に bot 判定で内容を取得できませんでした。 spie.org確認日 2026-08-05

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よくある疑問

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