半導体洗浄装置メーカー一覧

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半導体洗浄装置メーカー一覧

枚葉・バッチ・スクラブ・ウェットステーションなどの洗浄装置を、メーカー公式情報に基づいて整理しました。

11社・11製品群のうち、1〜11件を表示しています。各「公式」リンクはメーカー公開ページへ移動します。

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キーワード 公式リンクあり

temporary bonding hybrid bonding wafer thinning etch metrology ALD CMP electrofill

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工程別一覧: 11社 / 11製品群（1〜11件を表示、全62社 / 203製品群）

会社 装置ファミリー 工程内シェア 代表モデル 公式

TEL Clean

Cleaning

CELLESTA / EXPEDIUS / NS / ANTARES

front-end と back-end の cleaning 群です。single-wafer clean、batch clean、scrub、dry cleaning を横断して確認できます。

工程内シェア No.2 wafer cleaning

代表モデル

CELLESTA-i MD / CELLESTA-i / EXPEDIUS-i +4

公式

SCREEN Clean

Cleaning

SU / SP / SS / SB / Wet Station family

SCREEN の cleaning 棚を代表する family 群です。single-wafer cleaner、spin scrubber、backside cleaner、wet station を横断して確認できます。

工程内シェア 34.7% cleaning share; SU page also states World No.1 cleaning equipment

代表モデル

FC-3100 / WS-620C / WS-820C / WS-820L / FC-821L +5

公式

EBARA Clean

Plating / Cleaning

UFP plating / ozonized water equipment

plating、ozonized water、wafer cleaning / resist removal に関係する EBARA の周辺process familyです。CMP後工程や配線形成側の接点を確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

UFP600AS / Ozonized water production equipment / Dry vacuum pumps +1

公式

SEMES Clean

Cleaning

LOTUS / BLUEICE PRIME cleaning family

wafer surface impuritiesやsupercritical cleaningを含む SEMES の cleaning family です。Korea系front-end clean vendorとして確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

LOTUS / BLUEICE PRIME / Supercritical cleaning equipment

公式

TAZMO Clean

Cleaning / Wet Process

CENOTE / VAP cleaning systems

single wet processor と lift-off system の棚です。200mm/300mm wafer のwet cleaning、etching、resist stripを確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

CENOTE / VAP200 / VAP300 +2

公式

Shibaura Mechatronics Clean

Cleaning / Etching / Ashing

SC / MC / ARES / CDE wet and dry process systems

post-CMP cleaning、final cleaning、photomask cleaning / etching、wet etching、chemical dry etching、ashing をまとめたfront-end process棚です。

工程内シェア Company self-reported leading market position for post-CMP cleaning

代表モデル

SC300-CC / SC300-FC / MC150 +5

公式

Samco Clean

Cleaning / Surface Treatment

Aqua Plasma / Plasma Cleaning / UV Ozone systems

水蒸気 plasma、parallel-plate plasma cleaner、UV ozone をまとめる surface treatment 棚です。compound semiconductor、silicon、glass、ceramics の表面改質とcleaningを確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Aqua Plasma Cleaners / Plasma Cleaning Systems / UV Ozone Cleaning Systems

公式

PVA TePla Clean

Cleaning / Plasma Surface Treatment

Plasma Frontend / Backend / Cleaning systems

frontend wafer cleaning、backend plasma、atmospheric plasma cleaning、vacuum plasma cleaningをまとめる棚です。dry surface treatmentをcleaning / activation工程として確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Plasma Frontend / Plasma Backend / Atmospheric Plasma Cleaning +1

公式

NAURA Technology Group Clean

Cleaning / Wet

NAURA wet clean station

洗浄・ウェット処理装置の棚です。前工程の薬液処理、洗浄、工程横断の装置幅として確認します。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Wet Clean Station / Wet process equipment

公式

ACM Research Clean

Cleaning / Wet

Ultra C wet cleaning family

SAPS、TEBO、Tahoe を含むウェット洗浄棚です。粒子除去、薬液使用量、単枚洗浄の工程改善を競争軸にします。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Ultra C Tahoe / Ultra C / SAPS +1

公式

Kingsemi Clean

Cleaning / Wet

Cleaning and stripping equipment

洗浄、剥離、エッチングの周辺工程棚です。SCREEN系wet工程との比較対象として確認します。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Cleaning equipment / Stripping equipment / Etching equipment

公式