半導体露光・パターニング装置メーカー一覧

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半導体露光・パターニング装置メーカー一覧

露光、コータ／デベロッパ、パターン形成に使う装置を、メーカー公式製品ページへ直接たどれる形で整理しました。

14社・17製品群のうち、1〜17件を表示しています。各「公式」リンクはメーカー公開ページへ移動します。

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temporary bonding hybrid bonding wafer thinning etch metrology ALD CMP electrofill

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工程別一覧: 14社 / 17製品群（1〜17件を表示、全62社 / 203製品群）

会社 装置ファミリー 工程内シェア 代表モデル 公式

TEL Litho

Lithography

CLEAN TRACK LITHIUS Series

track の主力群です。High-NA 向けの Pro DICE から packaging 向けの AP 系まで、TEL の track 棚をひとまとめで確認できます。

工程内シェア 90% overall; almost 100% in high-NA process

代表モデル

LITHIUS Pro DICE / LITHIUS Pro AP / LITHIUS Pro Z +6

公式

SCREEN Litho

Lithography

DT / RF / SK / SC track family

track 群です。DT-3000 の dual-track 構成や packaging に近い塗布・現像ラインを確認するときの入口になります。

工程内シェア 3.4% coat/develop share

代表モデル

DT-3000 (SOKUDO DUO) / RF-200EX / RF-300EX / SK-60EX / SK-80EX +1

公式

AMAT Litho

Patterning

Centura Sculpta

pattern shaping を独立カテゴリとして示す装置です。EUV multi-patterning の負荷低減と設計自由度の文脈で確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Centura Sculpta Pattern-Shaping System

公式

KLA Litho

Unpatterned Wafer Inspection

Surfscan family

bare wafer と blanket film inspection の棚です。scanner qualification に近い確認でも使えます。

工程内シェア Process control total 54.4%

代表モデル

Surfscan SP7 / Surfscan SP7XP / Surfscan SC1

公式

KLA Litho

Patterned Defect Inspection

eSL10

e-beam defect inspection の代表機です。logic、DRAM、3D NAND の critical defect 検出で KLA がどこに入るかを確認できます。

工程内シェア Process control total 54.4%

代表モデル

eSL10

公式

ASML Litho

EUV Lithography

TWINSCAN NXE / EXE family

0.33 NA と High-NA を含む EUV scanner 群です。leading-edge node 向けの lithography 棚を確認できます。

工程内シェア 92.8% lithography share

代表モデル

EXE:5000 / EXE:5200B / NXE:3800E +2

公式

ASML Litho

DUV Lithography

TWINSCAN NXT / XT DUV family

DUV scanner の主力群です。immersion と dry を含み、量産で残る DUV 棚を確認できます。

工程内シェア 92.8% lithography share

代表モデル

NXT:2150i / NXT:2100i / NXT:2050i +9

公式

Nikon Litho

Lithography

NSR front-end lithography systems

ArF immersion、ArF dry、KrF、i-line を並べる Nikon の front-end scanner / stepper family です。EUV ではなく DUV と成熟ノード側の棚を確認できます。

工程内シェア 4.6% lithography share

代表モデル

NSR-S636E / NSR-S635E / NSR-S625E +4

公式

Canon Litho

Lithography

FPA lithography systems

KrF scanner、i-line stepper、nanoimprint lithography を並べる Canon の lithography family です。先端EUVではなく、mature node、packaging、NIL の用途幅を確認できます。

工程内シェア 2.6% lithography share

代表モデル

FPA-6300ES6a / FPA-1200NZ2C / FPA-8000iW

公式

SEMES Litho

Lithography / Track

OMEGA photo track / spinner family

KrF、i-line、ArF immersion向け spinner / photo track familyです。SEMESのphoto process装置をTEL trackと比較する入口になります。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

OMEGA Prime / OMEGA-S / OMEGA-K +1

公式

NuFlare Technology Litho

Lithography / Mask Writing

MBM / EBM electron beam mask writer family

EUV世代や先端mask manufacturingに関係する EB mask writer family です。multi-beam MBM と variable beam EBM の世代差を確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

MBM-2000PLUS / MBM-2000 / EBM-9500PLUS +2

公式

JEOL Litho

Lithography / E-beam

JBX electron beam lithography systems

10nm以下の微細パターン形成やR&D用途に使われる electron beam lithography family です。optical lithographyやmask writerと別に direct-write 側の棚を確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

JBX-A9 Series / JBX-8100FS Series / JBX-9500FS +2

公式

Onto Innovation Litho

Lithography / Advanced Packaging

JetStep X500 / S3500

advanced IC substrate、fan-out panel-level packaging 向けの lithography system です。後工程側の露光装置棚として確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

JetStep X500 / JetStep S3500

公式

TAZMO Litho

Lithography / Coater-Developer

CSX / SPR coater-developer

PR/PI coating と developing を扱う coater/developer family です。BEOLや厚膜processの周辺装置として確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

CSX2000 / CSX3000 / SPR3000

公式

Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) Litho

Back-end / Specialty Lithography

Back-end and specialty lithography applications

後工程、MEMS、FPD、LED、パワーデバイス向け露光装置の棚です。成熟・特殊用途の装置競合として確認します。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Back-end lithography equipment / MEMS lithography / FPD lithography +2

公式

Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) Litho

Lithography

Optical lithography equipment

光リソグラフィ装置の棚です。先端EUV/ArF量産を断定せず、中国ローカルの露光装置候補として確認します。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Optical lithography equipment / Front-end lithography equipment

公式

Kingsemi Litho

Lithography Track

KS coater and developer family

リソグラフィ前後の塗布現像装置の棚です。TEL track 装置との比較で、coater/developer の装置名を確認します。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

KS-FT200/300 / KKS-C300 / KS-S300 +3

公式