半導体成膜装置メーカー一覧（CVD・ALD・PVD・Epi）

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半導体成膜装置メーカー一覧（CVD・ALD・PVD・Epi）

CVD、ALD、PVD、エピタキシャル成長、熱処理成膜の装置群を、工程と代表モデルで比較できる一覧です。

21社・41製品群のうち、1〜21件を表示しています。各「公式」リンクはメーカー公開ページへ移動します。

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temporary bonding hybrid bonding wafer thinning etch metrology ALD CMP electrofill

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工程別一覧: 21社 / 41製品群（1〜21件を表示、全62社 / 203製品群）

会社 装置ファミリー 工程内シェア 代表モデル 公式

TEL Dep/Epi

Deposition

Episode Deposition Series

単枚 deposition の主力群です。GAA や BEOL に近い新しいフローで使う TEL の deposition family をまとめています。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Episode 1 / Episode 2 DMR

公式

TEL Dep/Epi

Deposition

NT333

semi-batch ALD の主力機です。高アスペクト比構造向けの膜形成を TEL がどう説明しているかを確認する入口として使えます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

NT333

公式

TEL Dep/Epi

Deposition

TELINDY Series

300 mm batch furnace と LPCVD、thermal ALD の主力群です。TELINDY PLUS、IRad、EVAROS、TELFORMULA をまとめて確認できます。

工程内シェア No.1 diffusion / No.1 batch deposition

代表モデル

TELINDY PLUS / TELINDY PLUS IRad / EVAROS +2

公式

AMAT Dep/Epi

ALD / Deposition

Applied Endura Trillium ALD

GAAナノシート周囲のメタルゲートstack形成に向けた金属ALD装置です。狭い3D空間で金属膜を均一に制御する成膜文脈の公式発表として扱います。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Applied Endura Trillium ALD / Trillium ALD / Endura platform

公式

AMAT Dep/Epi

PECVD / Deposition

Applied Producer Precision Selective Nitride PECVD

GAA世代のshallow trench isolation保護に向けた選択窒化PECVD装置です。シリコン酸化膜を後続工程から守る成膜文脈の公式発表として扱います。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Applied Producer Precision Selective Nitride PECVD / Precision Selective Nitride PECVD

公式

AMAT Dep/Epi

Epitaxy / Deposition

Centura Xtera Epi

GAA と vertical FinFET を主眼にした selective epitaxy platform です。高アスペクト比構造での epitaxial growth と温度安定性を前面に出しており、AMAT の epi 棚を補います。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Centura Xtera Epi

公式

AMAT Dep/Epi

PVD

Endura CuBS / Amber PVD family

barrier / seed と related PVD の棚です。BEOL 配線と先端 PVD を AMAT がどう切り分けているかを確認できます。

工程内シェア 26.8% sputter / PVD share

代表モデル

Endura CuBS RF XT / Endura Amber

公式

AMAT Dep/Epi

ALD / Deposition

Olympia ALD

ALD の主力機です。logic、DRAM、3D NAND での膜形成をどう説明しているかを確認できます。

工程内シェア Broad deposition bucket: 35.8% CVD share

代表モデル

Olympia ALD

公式

AMAT Dep/Epi

CVD / Deposition

Producer CVD

PECVD と sub-atmospheric CVD の主力平台です。blanket、gapfill、conformal film を 150 mm から 300 mm まで扱い、logic、DRAM、NAND、SiC を含む広い材料系へ展開されています。

工程内シェア 35.8% CVD share

代表モデル

Producer CVD

公式

AMAT Dep/Epi

CVD / Deposition

Producer InVia CVD

via-first、via-middle、interposer TSV 向けの liner CVD です。高アスペクト比 TSV で conformality、breakdown voltage、leakage current を両立する packaging 寄りの CVD 棚として使えます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Producer InVia CVD

公式

Lam Dep/Epi

ALD

ALTUS Halo

Mo ALD を主語にした metallization 向け装置です。interconnect 形成で Lam がどこに入るかを確認できます。

工程内シェア Broad deposition bucket: 17.2%

代表モデル

ALTUS Halo

公式

Lam Dep/Epi

ALD / Deposition

Striker Product Family

advanced packaging と HBM を含む single-wafer ALD family です。ultra-thin dielectric film、conformal liner、patterning spacer、gapfill dielectric を同じ deposition 棚で説明できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

Striker / Striker FE

公式

Lam Dep/Epi

PECVD / Deposition

VECTOR Product Family

PECVD の主力群です。hardmask、RDL、passivation、3D NAND multilayer stack を含む deposition 棚を確認できます。

工程内シェア 17.2% CVD / deposition share

代表モデル

VECTOR / VECTOR TEOS / VECTOR AHM +4

公式

KLA Dep/Epi

Deposition / PVD / PECVD

SPTS Sigma / Osprey / Delta deposition systems

SPTS Sigma PVD、Osprey PECVD、Delta PECVD、MVDを含む deposition 棚です。advanced packaging、power device、RF、photonicsの低温膜・metal stackをKLA側で確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

SPTS Sigma PVD / SPTS Osprey PECVD / SPTS Delta PECVD +2

公式

Canon Dep/Epi

PVD / Sputtering

Canon ANELVA sputtering systems

Canon ANELVA の sputtering / PVD family です。MRAM、magnetic sensor、semiconductor device 向けの真空成膜を、Canon 本体の lithography と分けて確認できます。

工程内シェア 2.8% sputter share for Canon Anelva

代表モデル

EC7800 / EC7430 / ML3000 +1

公式

ASM Dep/Epi

Deposition / ALD

ASM ALD and atomic-scale deposition portfolio

ALD を中心に、先端トランジスタやメモリの原子層制御を確認する family です。製品名単位ではなく、ASM の technology portfolio として棚を確認します。

工程内シェア 11.1% CVD share

代表モデル

Atomic Layer Deposition / Vertical Furnaces / Global Services & Spares

公式

ASM Dep/Epi

Epitaxy

Intrepid / Epsilon / Previum epitaxy family

300 mm advanced transistor 向け Intrepid、150/200 mm 向け Epsilon、preclean module Previum を含む epitaxy family です。Si/SiGe と表面前処理を接続して確認できます。

工程内シェア 44.9% LPE / epitaxy share

代表モデル

Intrepid ES / Intrepid ESA / Epsilon 2000 +1

公式

ASM Dep/Epi

SiC Epitaxy / PECVD

PE2O8 / PECVD process solutions

SiC epitaxy と低温 dielectric film deposition を分けて確認する family です。power device と dielectric film の両方に関わる ASM の成膜棚を見られます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

PE2O8 / SiC epitaxy process equipment / PECVD process solutions

公式

KOKUSAI ELECTRIC Dep/Epi

Deposition / Batch CVD

TSURUGI / AdvancedAce / QUIXACE batch deposition family

mini-batch と large-batch の成膜装置群です。3D構造向けの高難度成膜、CVD/酸化/拡散/アニールを batch tool として確認できます。

工程内シェア 8.3% CVD share

代表モデル

Advanced TSURUGI Plus-III / Advanced TSURUGI / TSURUGI-C2 +4

公式

ULVAC Dep/Epi

CVD / Deposition

CVD / PE-CVD systems

cluster-type、batch-type、R&D向けを含む CVD family です。a-Si、passive film、metal CVD、thermal CVD を成膜棚として確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

CMD / CME / CC-200 +2

公式

ULVAC Dep/Epi

PVD / Sputtering

ENTRON sputtering systems

logic、memory、next-generation non-volatile memory、packaging 向けの multi-chamber sputtering family です。PVD、ALD、CVD chamber を組み合わせる真空成膜棚を確認できます。

工程内シェア Public exact share not disclosed

代表モデル

ENTRON-EXX / ENTRON-EX W300 / ENTRON-W300 +1

公式

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