SCREEN
Thermal
Annealing
LA-3100
flash lamp annealer です。短時間熱処理の代表製品ページとして SCREEN がどこまで説明しているかを確認できます。
代表モデル
LA-3100
イオン注入・CMP・熱処理装置メーカー一覧
イオン注入・CMP・熱処理装置メーカー一覧
イオン注入、CMP、アニール、炉など、材料特性と平坦化を担う装置群を工程別に確認できます。
13社・20製品群のうち、1〜20件を表示しています。各「公式」リンクはメーカー公開ページへ移動します。
該当する装置ファミリーはありません。
AMAT
Thermal
CMP
Reflexion LK Prime CMP
四つの polishing pad と八つの cleaning chamber を持つ two-step CMP 系です。3D NAND の厚膜や大きな topography に対して安定した planarization を行う broad-line CMP 棚として扱えます。
代表モデル
Reflexion LK Prime CMP
AMAT
Thermal
Ion Implant
VIISta Trident
ion implant の主力機です。cryo-implant を含むドーピング工程をどこまで公開しているかを確認できます。
代表モデル
VIISta Trident / VIISta Trident Crion
AMAT
Thermal
Thermal Processing / RTP
Vantage Vulcan RTP
32/28nm 世代以降の spike anneal と低温 anneal を支える RTP 系です。sub-second anneal、metal anneal、silicide 向け低温処理までを一つの thermal shelf で説明できます。
代表モデル
Vantage Vulcan RTP / Vantage Radiance Plus RTP
KOKUSAI ELECTRIC
Thermal
Thermal / Treatment
MARORA / TANDUO treatment systems
plasma nitridation、plasma oxidation、low/high temperature anneal を扱う treatment family です。膜質改善を deposition と別棚で確認できます。
代表モデル
MARORA / TANDUO
Axcelis
Thermal
Ion Implantation / SiC Power
Purion Power Series+
SiC power device 向けの Purion 拡張 family です。150 mm SiC、200 mm thin Si、Al implantation を含む power device 用途を確認できます。
代表モデル
Purion H200+ SiC / Purion M+ SiC / Purion XE+ SiC +1
Axcelis
Thermal
Ion Implantation
Purion ion implantation platform
Purion H、M、H200、XE を含む ion implant platform です。dose、energy、beamline の違いで high current から high energy まで確認できます。
代表モデル
Purion H6 / Purion M / Purion H200 +4
EBARA
Thermal
CMP / Planarization
F-REX CMP / bevel polishing family
F-REX CMP、EAC bevel polishing を中心にした planarization family です。front-end / back-end の平坦化とedge removalを同じ棚で確認できます。
代表モデル
F-REX300XA / F-REX / EAC bevel polishing equipment
ACCRETECH / Tokyo Seimitsu
Thermal
CMP / Planarization
ChaMP CMP / polish grinder family
300mm CMP、compact CMP、polish grinder を扱う planarization family です。Tokyo Seimitsuのtest/back-end棚にCMPがどう接続するかを確認できます。
代表モデル
ChaMP332 / ChaMP232 / ChaMP211 +1
HORIBA
Thermal
Deposition / Etch / CMP Control
HORIBA process-stage solutions
Deposition、Lithography、Etching、CMP、Facility / Sub-Fab の各工程に置かれるHORIBAの計測・制御製品群を工程別に確認できます。
代表モデル
Cleaning / Deposition / Lithography +4
JTEKT Thermo Systems
Thermal
Annealing
Lamp annealing / RTP systems
single-wafer anneal と rapid thermal processing を担う棚です。SiC power semiconductor の contact annealing と activated annealing を分けて確認できます。
代表モデル
Lamp Annealing System / Rapid Thermal Processing / Contact Annealing
JTEKT Thermo Systems
Thermal
SiC Power Semiconductor / Thermal
SiC power semiconductor heat treatment equipment
SiC power semiconductor 向けの activation annealing、contact annealing、gate insulating film formation をまとめた棚です。
代表モデル
Activation Annealing Furnace / Lamp Annealing System for Contact Annealing / Vertical Furnace for Gate Insulating Film Formation
JTEKT Thermo Systems
Thermal
Thermal / Furnace
Vertical / horizontal furnace family
oxidation、diffusion、LPCVD などに使う batch furnace 棚です。300 mm量産から小口径・R&Dまでの熱処理装置を確認できます。
代表モデル
Vertical Furnace / Horizontal Furnace / Stocker Type Vertical Furnace +1
Y.A.C. BEAM
Thermal
Annealing
Laser anneal machine for power semiconductor
Si-IGBT backside annealing と SiC backside electrode ohmicization を扱う laser anneal 棚です。薄wafer裏面処理とpower semiconductor接続を確認できます。
代表モデル
Si-IGBT Laser Annealing Machine / SiC backside electrode ohmicization machine
Nissin Ion Equipment
Thermal
Ion Implantation / R&D Services
EXCEED / IMPHEAT-II implantation service tools
Class 1 clean environmentでの300 mm、SiC / GaN / Ga2O3、VCSEL向けhydrogen implantation、ion beam etching serviceを確認する棚です。量産装置だけでなくprocess development用途を補完します。
代表モデル
EXCEED400HY / IMPHEAT-II / ion beam etching equipment +1
Nissin Ion Equipment
Thermal
Ion Implantation / Power Semiconductor
Semiconductor ion implanter / IMPHEAT family
semiconductor manufacturing向けion implanterと、power device向け高温implantationをまとめる棚です。SiC、GaAs、Si系deviceの電気特性制御をAxcelis以外の日本勢として確認できます。
代表モデル
Ion implanter for semiconductor manufacturing / IMPHEAT / high-temperature ion implanter
Veeco
Thermal
Annealing / Laser Spike Anneal
LSA101 / LSA201 laser spike annealing systems
millisecond laser spike annealing の棚です。advanced logic、DRAM / HBM評価、junction activation、silicide formationをthermal process側で確認できます。
代表モデル
LSA101 / LSA201 / Unity Platform +1
Annealsys
Thermal
Thermal / RTP / RTCVD
AS-Master / JetFirst RTP systems
200 mm、300 mm対応を含むcold-wall RTP / RTA棚です。ohmic contact annealing、implantation annealing、RTCVDをcompound semiconductor wafer対応として確認できます。
代表モデル
AS-Master / Jipelec JetFirst / AS-Premium +1
Annealsys
Thermal
SiC Thermal / High Temperature Anneal
Zenith high-temperature RTP furnace
最大2000C級のhigh-temperature RTP棚です。SiC implantation annealing、graphene by SiC sublimation、高温annealをpower semiconductor材料工程として確認できます。
代表モデル
Zenith 100 / Zenith 200 / high-temperature RTP furnace
Hwatsing Technology
Thermal
CMP / Planarization
HSC-F3400 / 12 inch CMP equipment
12 inch CMP の棚です。前工程平坦化の競争軸で、Ebara や Applied Materials のCMP装置と比較します。
代表モデル
HSC-F3400 / 12 inch CMP equipment / CMP equipment