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半導体製造ラボ

半導体エッチング装置メーカー一覧

最終更新日
出典方針
公式資料・公開資料を優先
対象範囲
systems / vendor-catalog

半導体エッチング装置メーカー一覧

導体・誘電体・高アスペクト比・深掘りなどのエッチング装置を、公式情報と代表モデルから確認できます。

13社・16製品群のうち、1〜16件を表示しています。各「公式」リンクはメーカー公開ページへ移動します。

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Data: PostgreSQL API primary

工程別一覧: 13社 / 16製品群（1〜16件を表示、全62社 / 203製品群）

TEL Etch

Etch

Episode UL / Tactras / Certas LEAGA

dry etch と gas chemical etch の主力群です。logic、memory、power device のどこで TEL の etch が強いかを見分ける基点になります。

代表モデル

Episode UL / Tactras / Certas LEAGA +1

公式
AMAT Etch

Etch

Producer Etch

Twin Chamber 設計の workhorse etch です。logic と memory をまたぐ base line として確認できます。

代表モデル

Producer Etch

公式
AMAT Etch

Etch / Advanced Logic

Sym3 Y Magnum

angstrom era の conductor etch 向け装置です。GAA や nanosheet に近い logic profile control を確認する入口になります。

代表モデル

Sym3 Y Magnum

公式
Lam Etch

Cryogenic Etch

Cryo 3.0

3D NAND の高アスペクト比 hole/trench 向け cryogenic etch です。高層化メモリ文脈で Lam の位置づけを確認できます。

代表モデル

Cryo 3.0

公式
Lam Etch

Dielectric Etch

Flex / Vantex Product Family

dielectric etch の主力群です。logic/interconnect と memory のどちらに軸があるかを family 単位で確認できます。

代表モデル

Flex D/E/F/G/H Series / Vantex

公式
Lam Etch

Conductor Etch

Kiyo Product Family

conductor etch の主力群です。FinFET、multi-patterning、3D NAND までを含む Lam の base line として使えます。

代表モデル

Versys Kiyo / Versys Kiyo45 / Kiyo C Series +3

公式
KLA Etch

Etch / DRIE

SPTS Omega Rapier / DSi-v etch modules

SPTS Omega platform の Rapier と DSi-v process module です。MEMS、TSV、power trench、backside silicon via 向けの high-rate silicon DRIE を KLA の process-enabling 棚として確認できます。

代表モデル

SPTS Omega Rapier / SPTS DSi-v / Omega LPX +2

公式
Hitachi High-Tech Etch

Etch

Dry Etch Systems / DCR Etch System 9060 Series

conductor etch と isotropic etch を含む dry etch family です。advanced 3D device の atomic-level etching と量産支援を確認できます。

代表モデル

DCR Etch System 9060 Series / Conductor Etch Systems / Production Support Program

公式
ULVAC Etch

Etch

NE / NLD / uGmni dry etching systems

compound semiconductor、power device、MEMS、新不揮発性memory向けの dry etch family です。ICP、NLD、production / R&D の違いを確認できます。

代表モデル

uGmni-200E / NE-5700 / NE-7800 / NE-550EX +1

公式
Oxford Instruments Plasma Technology Etch

Etch / ICP / RIE

PlasmaPro etch family

ICP、RIE、deep silicon etch、ALEを含む PlasmaPro etch棚です。compound semiconductor、MEMS、power / RF deviceの低damage etchを確認できます。

代表モデル

PlasmaPro 80 ICP / PlasmaPro 100 Cobra ICP / PlasmaPro 100 Estrelas DSiE +1

公式
Plasma-Therm Etch

Etch / Specialty Semiconductor

VERSALINE ICP / DSE / IBE platform

ICP、deep silicon etch、RIE、ion beam etch / deposition を同一platformで確認できる棚です。II-VI / III-V、SiC、GaN、advanced packaging向けのetch coverageを補完します。

代表モデル

VERSALINE ICP / VERSALINE DSE / VERSALINE RIE +2

公式
scia Systems Etch

Ion Beam Etching

scia Mill ion beam etching systems

scia Mill 150 / 200 / 300 の ion beam etching棚です。full-surface etchingを150 mmから300 mm waferまで確認できます。

代表モデル

scia Mill 150 / scia Mill 200 / scia Mill 300

公式
Y.A.C. BEAM Etch

Etch

Ion beam etching / applied machines

ion beam etching と ion beam applied machine の棚です。特殊材料・薄膜加工に近いion beam processを補完します。

代表モデル

Ion Beam Etching Machine / Ion Beam Applied Machine

公式
Samco Etch

Etch / Compound Semiconductor

ICP-RIE / ALE / DRIE etching systems

ICP-RIE、ALE、DRIE、RIE、XeF2 をまとめる Samco の etch 棚です。III-V、SiC、GaN RF、MicroLED、SAW / BAW などの compound semiconductor etch を確認できます。

代表モデル

RIE-802iPC / RIE-800iPC / RIE-800iP +3

公式
AMEC Etch

Etch

Primo Nanova ICP etch equipment

300 mm ICP etch 装置として確認する棚です。ロジック、メモリの前工程エッチングで既存大手との代替・併用候補を評価します。

代表モデル

Primo Nanova / ICP etch equipment / 300 mm etch equipment

公式
NAURA Technology Group Etch

Etch

NAURA plasma etcher family

前工程エッチング装置の棚です。Lam Research、TEL、Applied Materials が強い工程で、中国ローカルの供給候補として確認します。

代表モデル

Plasma Etcher / Dry etch equipment

公式