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半導体製造ラボ

半導体成膜装置メーカー一覧（CVD・ALD・PVD・Epi）（2ページ目）

最終更新日
出典方針
公式資料・公開資料を優先
対象範囲
systems / vendor-catalog

半導体成膜装置メーカー一覧（CVD・ALD・PVD・Epi）

CVD、ALD、PVD、エピタキシャル成長、熱処理成膜の装置群を、工程と代表モデルで比較できる一覧です。

21社・41製品群のうち、22〜41件を表示しています。各「公式」リンクはメーカー公開ページへ移動します。

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Data: PostgreSQL API primary

工程別一覧: 21社 / 41製品群（22〜41件を表示、全62社 / 203製品群）

NuFlare Technology Dep/Epi

Epitaxy / MOCVD

EPIREVO epitaxial reactors

SiC と GaN-on-Si を扱う single-wafer epitaxial reactor family です。power device向けのhigh-growth-rate epitaxyを確認できます。

代表モデル

EPIREVO S8 / EPIREVO S6 / EPIREVO G8 +1

公式
Shibaura Mechatronics Dep/Epi

Deposition / Sputtering

SWN-5000 / BM-1400W sputtering equipment

power device backside electrode や under-bump metal 向けの semiconductor sputtering equipment です。後工程・power device側のPVD棚を補完します。

代表モデル

SWN-5000 / BM-1400W

公式
AIXTRON Dep/Epi

GaAs / InP MOCVD

G10-AsP / AIX 2800G4-TM

GaAs / InP materials の high-volume MOCVD棚です。optoelectronics、RF、laser device、MicroLED関連のcompound semiconductor装置として確認できます。

代表モデル

G10-AsP / AIX 2800G4-TM / CCS R&D +1

公式
AIXTRON Dep/Epi

GaN MOCVD / Deposition

G10-GaN / AIX G5+ C

150 / 200 mm GaN power and RF applications 向けのMOCVD棚です。GaN HEMT、RF、power deviceの増産signalを装置familyで確認できます。

代表モデル

G10-GaN / AIX G5+ C

公式
AIXTRON Dep/Epi

SiC Epitaxy / Deposition

G10-SiC

150 / 200 mm SiC power electronics 向けの high-throughput epitaxy system です。SiC増産を工程装置側から確認する入口になります。

代表モデル

G10-SiC

公式
Oxford Instruments Plasma Technology Dep/Epi

ALD / Atomic Scale Deposition

Atomfab / FlexAL / PlasmaPro ASP ALD family

GaN power and RF device向けのproduction plasma ALDとR&D向けFlexALをまとめた棚です。passivation、gate dielectric、atomic-scale filmを確認できます。

代表モデル

Atomfab ALD / FlexAL ALD / PlasmaPro ASP

公式
Oxford Instruments Plasma Technology Dep/Epi

Ion Beam Etch / Deposition

Ionfab IBE / IBD

Ion beam etch と ion beam deposition を1つの棚で確認できるfamilyです。semiconductors and microelectronics向けの高品質材料加工に使う候補として整理します。

代表モデル

Ionfab Ion Beam / Ionfab IBE / Ionfab IBD

公式
Plasma-Therm Dep/Epi

Deposition / PECVD / PVD

VERSALINE / QuaZar / Eclipse deposition systems

PECVD、HDPCVD、IBD、PVD、F.A.S.T.を扱う deposition棚です。specialty film、AlN / ScAlN、advanced device材料を工程別に確認できます。

代表モデル

VERSALINE PECVD / ECLIPSE / ENDEAVOR +2

公式
scia Systems Dep/Epi

Sputtering / Ion Beam Deposition

scia Coat / Multi / Magna sputtering systems

ion beam sputtering と magnetron sputtering をまとめた棚です。300 mm wafer、large substrate、optical coatings、advanced wafer coatingsを確認できます。

代表モデル

scia Coat 200 / scia Coat 500 / scia Opto 300 +2

公式
scia Systems Dep/Epi

PECVD / RIE / Cluster Processing

scia Cube / Cluster 200

PECVD / RIE と cluster process を扱う棚です。IBT、RIBE、DIBD、PVD、RIE、PECVD、ALD、EBEを組み合わせるspecialty process platformとして確認できます。

代表モデル

scia Cube 300 / scia Cube 750 / scia Cluster 200 +1

公式
Samco Dep/Epi

Deposition / ALD / PECVD

ALD / Anode PECVD / Cathode PECVD deposition systems

ALD、anode PECVD、cathode PECVD を同じ deposition 棚で確認する family です。Power / RF device、高アスペクト比構造、低温・厚膜 SiO2 / SiN 系の装置候補を整理できます。

代表モデル

ALD Systems / Anode PECVD Systems / Cathode PECVD Systems

公式
Veeco Dep/Epi

MOCVD / Compound Semiconductor

Lumina / Propel MOCVD family

As/P photonics向けLuminaとGaN-on-Si power device向けPropelをまとめるMOCVD棚です。InP laser、VCSEL、MicroLED、GaN powerの装置signalを確認できます。

代表モデル

Lumina MOCVD / Lumina+ / Propel 300 +1

公式
Veeco Dep/Epi

Ion Beam Deposition

SPECTOR ion beam deposition systems

optical coatingやInP laser周辺の低損失膜に使うion beam deposition棚です。compound photonics側の薄膜装置をMOCVDと分けて確認できます。

代表モデル

SPECTOR IBD / SPECTOR-HT / Dual Ion Beam Sputtering System

公式
RIBER Dep/Epi

MBE / Compound Semiconductor Epitaxy

MBE 49 / MBE 6000 / MBE 8000 production systems

compound semiconductor epi production向けのMBE棚です。150 / 200 mm、multi-wafer、high-volume merchant epi operationをRIBERのproduction familyとして確認できます。

代表モデル

MBE 49 / MBE 6000 / MBE 8000 +1

公式
Annealsys Dep/Epi

Deposition / DLI-CVD / ALD

MC DLI-CVD / DLI-ALD systems

DLI-CVD、DLI-ALD、MOCVD、pulse pressure CVD、in-situ RTP / RTCVDを同一chamberで扱うdeposition棚です。III-V、wide bandgap、2D materialsをR&D成膜装置として確認できます。

代表モデル

MC-050 / MC-100 / MC-200 +2

公式
AMEC Dep/Epi

Deposition / MOCVD

Prismo MOCVD equipment

化合物半導体向け MOCVD の棚です。Si前工程とは別に、LED、power、compound semiconductor の成膜競合として確認します。

代表モデル

Prismo UniMax / MOCVD equipment / compound semiconductor MOCVD

公式
NAURA Technology Group Dep/Epi

Deposition

NAURA PVD / CVD / ALD equipment

薄膜形成装置の棚です。PVD、CVD、ALD を同一企業の工程幅として見て、成膜ポートフォリオの競争力を確認します。

代表モデル

PVD equipment / CVD equipment / ALD equipment

公式
Piotech Dep/Epi

Deposition / ALD

Piotech ALD Series

原子層堆積装置の棚です。先端膜厚制御や界面制御が必要な工程での中国ローカル成膜候補として確認します。

代表モデル

ALD Series / ALD equipment

公式
Piotech Dep/Epi

Deposition / PECVD

Piotech PECVD Series

PECVD の量産成膜棚です。膜質、スループット、レシピ対応力を、Applied Materials、Lam Research、TEL の成膜装置と比較します。

代表モデル

PECVD Series / PECVD equipment

公式
Piotech Dep/Epi

Deposition / HDPCVD

TS-300S Hesper HDPCVD equipment

12 inch HDPCVD の棚です。3DIC周辺や高密度プラズマ成膜の工程接続を確認します。

代表モデル

TS-300S Hesper / HDPCVD Series / HDPCVD equipment

公式