電子ビーム描画とは
電子ビーム描画とは、電子線を走らせてマスクやウェーハの上へ直接パターンを描く方法です。 マスクを使わずにパターンを作れるため、マスクそのものを作る工程で使われます。
露光ではマスクのパターンを写します。ではそのマスクのパターンは、どうやって作るのでしょうか。写す元がない以上、直接描くしかありません。ここで電子ビーム描画が使われます。
光ではなく電子線を使う理由は、細かさにあります。マスク上のパターンは縮小投影のぶん実際の回路より大きいとはいえ、光で描くには細かすぎます。電子の波長は光より格段に短いため、要る細かさを描けます。
代償は時間です。マスク全体を走査して1つずつ描くため、描画面積とパターンの複雑さがそのまま時間になります。ノードが進むほどパターンは複雑になり、補正のための微細な図形も増えます。1枚のマスクを描く時間が伸び続ければ、それ自体が生産の制約になります。
NuFlare Technologyは公式製品ページで、3nm+ノードのデザインルール向けのマルチ電子ビームマスク描画装置MBM-2000PLUS、3nmノード向けのMBM-2000、7nmノード量産向けのEBM-9500PLUS、16/14nmおよび45から20nmノード量産向けのEBM-8000P/HとEBM-8000P/Mを掲載しています。ノードごとに機種が並んでいる構成そのものが、描画時間と要る細かさの世代進行を示しています。
ウェーハへ直接描く使い方もあります。マスクを作らずに済むため、研究開発や少量生産に向きます。JEOLは公式製品ページでJBXシリーズを電子ビームリソグラフィシステムとして掲載しています。量産では描画時間が制約になるため、マスクを作って光で写す方式が使われます。
この用語に対応する装置と製造メーカー
Section titled “この用語に対応する装置と製造メーカー”装置カタログDBから、この用語に一致する製品familyを持つメーカー 2社／2family を引いています。 各行は各社の公式製品ページを出典とします。 DBからの生成日: 2026-08-22
- 日本電子株式会社
- JBX electron beam lithography systemsLithography / E-beam
- NuFlare Technology
- MBM / EBM electron beam mask writer familyLithography / Mask Writing
出典は各社の公式製品ページです。 装置カタログDB では、同じ製品familyを工程・メーカー横断で検索できます。
関連するデータ・ツール
Section titled “関連するデータ・ツール”- 電子ビーム・マスク描画の工程ページ ── 工程分類と、この工程に接続している公開求人
- フォトマスク製造の工程ページ ── マスク製造の全体
- 装置カタログDB ── 公式製品ページ単位のメーカーと製品family
よくある質問（FAQ）
Section titled “よくある質問（FAQ）”電子ビーム描画とは何ですか？
電子線を走らせてマスクやウェーハの上へ直接パターンを描く方法です。マスクを使わずにパターンを作れるため、マスクそのものを作る工程で使われます。
なぜ光ではなく電子線を使うのですか？
電子の波長が光より格段に短いためです。マスク上のパターンは、そのマスクを使って作る回路より大きいとはいえ、光で描くには細かすぎます。電子線なら要る細かさを描けます。
弱点は何ですか？
時間がかかることです。マスク全体を1本ずつ走査して描くため、描画面積とパターンの複雑さがそのまま時間になります。1枚のマスクの描画に長い時間を要します。
マルチビームとは何ですか？
電子ビームを多数本に分けて同時に描く方式です。NuFlare Technologyは公式製品ページで、3nm+ノードのデザインルール向けのマルチ電子ビームマスク描画装置MBM-2000PLUS、3nmノード向けのMBM-2000を掲載しています。
なぜマルチビームが要るのですか？
ノードが進むほどパターンが複雑になり、描画時間が伸びるためです。1本のビームで描き続ければ、マスク1枚に要する時間が生産の制約になります。同時に描くビームの本数を増やすことで、時間を抑えます。
ウェーハへ直接描くこともありますか？
あります。研究開発や少量生産では、マスクを作らずウェーハへ直接描く使い方があります。JEOLは公式製品ページでJBXシリーズを電子ビームリソグラフィシステムとして掲載しています。
比較・違いを学ぶ
Section titled “比較・違いを学ぶ”- レチクルとフォトマスクの材料 ── マスクの材料と構造
- リソグラフィ工程 ── 工程としてのリソグラフィ
この記事の事実は次の一次資料を根拠とし、各URLの到達可否をこちらで実測しています。したがって、リンク先が移動または消滅した場合は、その旨をこのページへ反映します。
- NuFlare Technology「EB Mask Writer」公式製品ページ（2026年8月22日にリンク生存を実測、200）
- JEOL「JBX Electron Beam Lithography Systems」公式製品ページ（2026年8月22日にリンク生存を実測）
- 装置と製造メーカーの行は
intel.equipment_vendor_families（公式製品ページ由来）から生成