フォトマスクとは
フォトマスクとは、露光でウェーハへ転写する回路パターンの原版です。 1枚のマスクが何枚ものウェーハへ同じパターンを繰り返し転写します。
露光は、原版のパターンを光で写し取る操作です。その原版がフォトマスクです。石英などの透明な基板の上に、光を遮る層でパターンを描いてあります。光を通す部分と遮る部分の配置が、そのままウェーハ上のパターンになります。
現在の先端露光は縮小投影方式を取ります。マスク上のパターンを光学系で縮小してウェーハへ写すため、マスク側の寸法は実際に作る寸法より大きくなります。マスクの製造に要る精度が緩むため、この方式が現実的な選択になっています。歴史的には、ウェーハ全面を一度に写す原版をマスク、一区画ずつ縮小投影する原版をレチクルと呼び分けていましたが、現在ではほぼ同じ意味で使われます。
EUVでは構造が変わります。EUVはあらゆる物質に強く吸収されるため、透過型のマスクを使えません。多層膜で光を反射させる構造を取り、その上に吸収体でパターンを描きます。反射で使うという一点が、マスクの作り方も検査の仕方も変えています。
マスクのパターンは電子ビームで描きます。光では描けない細かさが要るためです。NuFlare Technologyは公式製品ページで、3nm+ノードのデザインルール向けのマルチ電子ビームマスク描画装置MBM-2000PLUS、3nmノード向けのMBM-2000、7nmノード量産向けのEBM-9500PLUS、16/14nmおよび45から20nmノード量産向けのEBM-8000シリーズを掲載しています。
検査も専用の装置で行います。1枚の欠陥が、そのマスクで露光したすべてのウェーハへ同じ位置で写ります。レーザーテックは公式ページで、EUV向けのACTISおよびABICSシリーズ、DUV向けのMATRICSおよびMAGICSシリーズを掲載しています。
この用語に対応する装置と製造メーカー
Section titled “この用語に対応する装置と製造メーカー”装置カタログDBから、この用語に一致する製品familyを持つメーカー 1社／2family を引いています。 各行は各社の公式製品ページを出典とします。 DBからの生成日: 2026-08-22
- Daifuku
- Clean Stocker / nitrogen purge stocker familyPackaging / Storage
- Cleanway semiconductor transport systemsPackaging / Factory Automation
出典は各社の公式製品ページです。 装置カタログDB では、同じ製品familyを工程・メーカー横断で検索できます。
関連するデータ・ツール
Section titled “関連するデータ・ツール”- フォトマスク製造の工程ページ ── 工程分類と、この工程に接続している公開求人
- マスク・レチクル欠陥検査の工程ページ ── 検査側の工程
- 装置カタログDB ── 公式製品ページ単位のメーカーと製品family
よくある質問（FAQ）
Section titled “よくある質問（FAQ）”フォトマスクとは何ですか？
露光でウェーハへ転写する回路パターンの原版です。石英などの基板の上に、遮光する層でパターンを描いてあります。1枚のマスクが何枚ものウェーハへ同じパターンを繰り返し転写します。
レチクルとは違うのですか？
現在ではほぼ同じ意味で使われます。歴史的には、ウェーハ全面を一度に転写する原版をマスク、一区画ずつ縮小投影する原版をレチクルと呼び分けていました。現在の先端露光は縮小投影方式です。
実寸より大きく描くのですか？
大きく描きます。縮小投影方式では、マスク上のパターンを縮小してウェーハへ写します。マスク側の寸法が緩くなるため、マスクの製造が現実的になります。
EUVマスクは何が違いますか？
反射型である点です。EUVはあらゆる物質に強く吸収されるため、透過型のマスクは使えません。多層膜で光を反射させる構造を取り、その上に吸収体でパターンを描きます。
どうやってパターンを描きますか？
電子ビームで描画します。NuFlare Technologyは公式製品ページで、3nm+ノードのデザインルール向けのマルチ電子ビームマスク描画装置MBM-2000PLUS、3nmノード向けのMBM-2000、7nmノード量産向けのEBM-9500PLUSなどを掲載しています。
マスクの検査はどうしますか？
専用の装置で行います。レーザーテックは公式ページで、EUV向けのACTISおよびABICSシリーズ、DUV向けのMATRICSおよびMAGICSシリーズを掲載しています。1枚の欠陥が全ウェーハへ写るため、使う前の検査が重要になります。
比較・違いを学ぶ
Section titled “比較・違いを学ぶ”- レチクルとフォトマスクの材料 ── マスクの材料と構造
- High-NA EUVのマスク・ペリクル・スティッチング ── High-NA世代のマスク
この記事の事実は次の一次資料を根拠とし、各URLの到達可否をこちらで実測しています。したがって、リンク先が移動または消滅した場合は、その旨をこのページへ反映します。
- NuFlare Technology「EB Mask Writer」公式製品ページ（2026年8月22日にリンク生存を実測、200）
- レーザーテック「半導体関連製品」公式ページ（2026年8月22日にリンク生存を実測、200）
- 装置と製造メーカーの行は
intel.equipment_vendor_families（公式製品ページ由来）から生成