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クリーンルームとは

クリーンルームとは、IC製造のために汚染レベルを制御した空間です。 東京エレクトロンの公式用語集はこのように記述しています。空気中の粒子の数を一定以下に保つよう設計されます。

半導体の回路は、目に見えない大きさで作られます。パターンの寸法より大きな粒子が1つ乗れば、その場所は断線か短絡になります。人の身体や衣服、装置の可動部からは、絶えず粒子が出ています。放置すればウェハの上へ降り積もります。

同じ大きさの粒子でも、パターンが細いと2本にまたがります
太いパターン線の幅に収まります微細なパターン(前工程)2本の線にまたがりますどちらも同じ大きさの粒子です寸法との比で決まります粒子1つで断線か短絡になります前工程のパターンは微細ですより小さな粒子が欠陥になります特に前工程で非常に高い清浄度が要求されます(東京エレクトロン公式用語集)
同じ大きさの粒子でも、パターンが細くなると2本の線にまたがり、その場所は断線か短絡になります。前工程のパターンは微細なので、より小さな粒子が欠陥になります。

クリーンルームは、この粒子を制御します。東京エレクトロンの公式用語集は、クリーンルームをIC製造のために汚染レベルを制御した空間とし、ろ過された空気が天井から床へ向かって一定の流れで降りると述べています。

一方向に流す点が要です。空気が渦を巻けば、いったん浮いた粒子は長く漂い、ウェハの上へ落ちる機会が増えます。上から下へ一定に流せば、発生した粒子はそのまま下流へ運ばれ、床の吸い込み口から排出されます。同じ用語集は、特に前工程で非常に高い清浄度が要求されると述べています。前工程では微細なパターンを扱うため、より小さな粒子が欠陥になるためです。

一方向の気流 ─ 粒子を滞留させない
天井フィルタ(ろ過)装置床から吸い込んで排出発生した粒子はそのまま下流へ運ばれる清浄度は三層で分担する部屋:一定以下に保つFOUP:搬送中を密閉して守る装置内:FFUで清浄な空気を流す全体を最高にするより費用が下がる
天井のフィルタからろ過された空気が床へ向かって一定に降り、装置や人から出た粒子をそのまま床へ運びます。渦を作らないことで、粒子がウェハの上へ落ちる機会を減らします。

部屋全体を最高の清浄度に保つのは、面積が大きいほど費用がかさみます。そこで清浄にする範囲を分担します。搬送中のウェハはFOUPが密閉して守り、装置の内部はFFU(ファンフィルタユニット)が清浄な空気を流して守ります。RORZEは公式製品ページで、ACE EFEMの消費電流にFFUを含むと記載しています。

部屋の清浄度は、この分担を前提に決められます。ウェハが外気へさらされる場面が減れば、部屋そのものへ求める水準は一段緩められます。設備の費用と、守るべき対象の重要度が釣り合う点を選ぶ設計になります。

クリーンルームとは何ですか?

東京エレクトロンの公式用語集は、クリーンルームをIC製造のために汚染レベルを制御した空間と記述しています。空気中の粒子の数を一定以下に保つよう設計された部屋です。

空気はどう流れますか?

上から下へ流します。同じ公式用語集は、ろ過された空気がクリーンルームの天井から床へ向かって一定の流れで降りると述べています。粒子が舞い上がらず、そのまま床へ運ばれます。

なぜ一方向に流すのですか?

粒子を滞留させないためです。空気が渦を巻けば、いったん浮いた粒子が長く漂い、ウェハの上へ落ちる機会が増えます。上から下へ一定に流せば、発生した粒子はそのまま下流へ運ばれます。

前工程と後工程で清浄度は違いますか?

違います。東京エレクトロンの公式用語集は、特に前工程で非常に高い清浄度が要求されると述べています。前工程では微細なパターンを扱うため、より小さな粒子が欠陥になります。

なぜ粒子が問題になるのですか?

パターンの寸法より大きな粒子が乗れば、その場所が断線や短絡になるためです。微細化が進むほど、問題になる粒子の大きさも小さくなります。

FOUPとどう役割を分けますか?

清浄にする範囲を分担します。搬送中のウェハはFOUPが密閉して守り、装置の内部はFFUが清浄な空気を流して守ります。RORZEは公式製品ページで、ACE EFEMの消費電流にFFUを含むと記載しています。部屋全体を最高の清浄度にするより費用が下がります。

この記事の事実は次の一次資料を根拠とし、各URLの到達可否をこちらで実測しています。したがって、リンク先が移動または消滅した場合は、その旨をこのページへ反映します。

  • 東京エレクトロン 公式用語集「Clean Room」(2026年8月22日にリンク生存を実測、200)
  • RORZE「ACE EFEM」公式製品ページ(2026年8月22日にリンク生存を実測、200)
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