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半導体製造ラボ SEMICONDUCTOR DATA LAB

計測（メトロロジー）とは

計測（メトロロジー）とは、線幅、膜厚、重ね合わせ、表面形状などを数値として測り、その結果を次のウェーハの露光量やエッチング時間へ反映する活動です。 良否を答える検査に対し、計測は連続量を返します。

定義・解説

Section titled “定義・解説”

計測と検査を隔てるのは、知りたいことの違いです。検査は「異物や欠陥があるか」を探し、見つかれば有無として報告します。計測は「いくつか」を測り、数値を返します。線幅が48nmでも52nmでも、検査はどちらも良品として通します。ですが設計値からのずれとしては、大きな違いになります。

数値であることが、工程制御を可能にします。線幅が設計値より太ければ露光量やエッチング時間を調整し、重ね合わせがずれていれば露光装置の位置を補正します。計測の役目は、測った数値で次のウェーハの条件を変えるところまで続きます。

量産中に測れることも要件になります。抜き取って壊して測る方法では、測った枚数のぶんだけ製品が減ります。製造ラインの中に装置を置き、量産中のウェーハをそのまま測って次工程へ進められる形が要ります。ASMLは公式製品ページでメトロロジーおよび検査システムの製品群を掲載しています。

計測 ─ 測って、次のウェーハの条件へ反映
工程露光・エッチング等計測線幅 51.4 nm設計値 50.0 nm との差＋1.4 nm次の条件へ反映検査と計測は知りたいことが別です検査「欠陥はあるか」→ 有無歩留まりの直接の敵を探す計測「いくつか」→ 数値設計値からのずれを示す
計測は露光やエッチングを終えたウェーハを測り、設計値との差を求め、その差を次のウェーハの露光量やエッチング時間へ反映します。欠陥の有無を返す検査に対し、計測は連続量を返すため、そのまま制御量として使えます。

測り方の種類

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光を当てて反射や回折から求める光学式、電子線を当てて像から求める電子線式、探針で表面をなぞる走査プローブ式があります。測る対象と要る分解能で使い分けます。

表面へ何を当てるかで、測り方を選びます
光学式光を当てて反射や回折から求めます光反射・回折ウェーハ表面電子線式電子線を当てて像から求めます電子線像ウェーハ表面走査プローブ式探針で表面をなぞります探針ウェーハ表面測る対象と要る分解能で使い分けます
光を当てて反射や回折から求める方式、電子線を当てて像から求める方式、探針で表面をなぞる方式を並べました。測る対象と要る分解能で使い分けます。

走査プローブ式の例として、Brukerは公式製品ページでInSight 300を量産環境向けのファブ対応自動原子間力顕微鏡として掲載し、スキャナ平坦度が±1nm以内、ノイズフロアが35pm以内であること、CMPとエッチングの用途からベアウェーハの欠陥レビューまで対応すること、ハイブリッドボンディング向けにミリメートルスケールおよびベベルエッジの計測要求を満たすことを述べています。

この用語に対応する装置と製造メーカー

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装置カタログDBから、この用語に一致する製品familyを持つメーカー 14社／26family を引いています。 各行は各社の公式製品ページを出典とします。 DBからの生成日: 2026-08-22

出典は各社の公式製品ページです。 装置カタログDB では、同じ製品familyを工程・メーカー横断で検索できます。

関連するデータ・ツール

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よくある質問（FAQ）

Section titled “よくある質問（FAQ）”
半導体の計測とは何ですか？

線幅、膜厚、重ね合わせ、表面形状などを数値として測り、その結果を次のウェーハの露光量やエッチング時間へ反映する活動です。良否を答える検査に対し、計測は連続量を測って工程を制御する側にあります。

検査と計測はどう違いますか？

知りたいことが異なります。検査は「異物や欠陥があるか」を探して有無を答えます。計測は「いくつか」を測って数値を返します。前者は歩留まりの直接的な敵を見つけ、後者は工程が設計値からどれだけずれているかを示します。

インラインで測るとはどういうことですか？

製造ラインの中に装置を置き、量産中のウェーハをそのまま測ることです。抜き取って壊して測る方法と違い、測ったウェーハをそのまま次の工程へ進められます。測定結果をすぐ次のウェーハの露光量やエッチング時間へ反映できる点が利点になります。

どんな測り方がありますか？

光を当てて反射や回折から求める光学式、電子線を当てて像から求める電子線式、探針で表面をなぞる走査プローブ式などがあります。測る対象と要る分解能で使い分けます。

測定結果はどう使いますか？

次のウェーハの条件へ反映します。線幅が設計値より太ければ露光量やエッチング時間を調整し、重ね合わせがずれていれば露光装置の位置を補正します。計測の役目は、測った数値で次のウェーハの条件を変えるところまで続きます。

計測装置のメーカーはどこですか？

当サイトの装置カタログDBでは、計測に一致する製品familyを持つメーカーを公式製品ページ単位で引けます。KLA、ASML、Applied Materials、Bruker、Onto Innovation、Nova、ニコン、レーザーテックなどが該当します。

比較・違いを学ぶ

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関連用語

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出典

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この記事の事実は次の一次資料を根拠とし、各URLの到達可否をこちらで実測しています。したがって、リンク先が移動または消滅した場合は、その旨をこのページへ反映します。

  • ASML「Metrology and inspection systems」公式製品ページ（2026年8月22日にリンク生存を実測、200）
  • Bruker「InSight 300」公式製品ページ（2026年8月22日にリンク生存を実測、200）
  • 装置と製造メーカーの行は intel.equipment_vendor_families（公式製品ページ由来）から生成
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