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技術解説まとめ

最終更新日
出典方針
公式資料・公開資料を優先
対象範囲
orientation / overview

このサイトでは、会社、求人、学会、研究室、装置カタログなどのDB導線をサイト構造サイドバーへ並べず、この技術解説まとめに集約します。技術解説ページは、DBで出てきた工程名、職種語、装置カテゴリ、技術テーマを工程ページへ対応づける補助レイヤーです。

このサイト構造は、次の順序で使う前提にします。

  1. このページから 求人DB企業分析DB学会・締切DB研究室DB などの参照先を選ぶ
  2. DB内の工程カテゴリ、職種系統、技術テーマID、装置ファミリーを抽出する
  3. このページから、該当する前工程、後工程、装置・品質の解説へ移動する
  4. 必要なら 技術記事装置シェアDB で、学会、研究室、会社、装置の接続を比較する
階層役割主なページ
主要DB会社、求人、職種、学会、研究室、装置をレコード単位で比較する求人DB企業分析DB職種学会・締切DB研究室DB装置カタログ
技術記事DB間で共通化した技術テーマを、学会、研究室、求人、装置へ接続する技術記事学会記事トレンド
技術解説DBで出てきた用語や工程要求条件を工程ページへ対応づける補助レイヤーこのページ、前工程、後工程、装置・品質
運営・信頼表示出典、分類、更新、修正、ポリシーをたどるデータ作成方針分類ルール更新履歴
判断項目最初のページ次の参照ページ
基板、単位工程、工程順ウェーハと基板酸化・成膜・薄膜形成露光とリソグラフィエッチング
表面状態、平坦化、熱量上限洗浄・表面前処理・再汚染管理CMP熱処理・アニール
High-NA EUVHigh-NA EUVの量産ボトルネックHigh-NA EUVレジスト比較High-NA EUVのマスク・ペリクル・stitching
配線、電源、contactBEOLメタライゼーションBackside Power DeliveryMo contact と selective deposition
デバイス構造プレーナMOS、FinFET、GAAの違いGAAのロードマップフォークシートとCFET
判断項目最初のページ次の参照ページ
後工程の全体像後工程とパッケージング先端パッケージングとは何か
2.5D / 3D / chiplet3Dパッケージングの工程フロー3DI / 3DICの熱的限界3DIの熱伝導測定法
Hybrid bondingHybrid Bondingの基礎と量産条件産業工程上の位置位置合わせ・検査歩留まり・信頼性
Temporary bond / wafer thinningTemporary Bond / Debond と wafer thinningガラスコア基板と先端パッケージング
テスト、選別、SLTテストと選別歩留まりと欠陥管理
判断項目最初のページDB接続
工程別の装置と材料工程別の装置と材料工程別の装置シェア
装置会社の製品ラインAMAT・Lam・TELの3D実装装置比較ベンダー別の装置カタログ
最新装置と注目技術TEL、AMAT、Lamの最新装置と注目技術装置カタログ
AMAT公式発表の成膜記事AMATのGAA向け成膜装置発表技術記事装置カタログ
AMAT公式発表の計測記事AMAT PROVision 10 eBeam計測技術記事検査・計測・オーバーレイ
SCREEN公式発表の先端パッケージ露光記事SCREEN DW-3100 direct imaging技術記事装置カタログ
DISCO公式発表のレーザソー記事DISCO DFLレーザーソー3機種の分岐技術記事後工程とパッケージング
検査、計測、overlay検査・計測・オーバーレイ装置の役割分担検査・計測・オーバーレイのベンダー比較
BEOL新金属と品質BEOL新金属の計測・検査歩留まりと欠陥管理
目的開始ページ
DB由来の工程名を工程へ接続半導体製造工程とは何か
求人票の職種語を工程へ変換する職種
技術テーマを学会、研究室、求人へつなぐ技術記事
装置会社や製品ファミリーを比較する装置カタログ
会社と職種を先に絞る求人DB